JPH04180961A - 感光材料用樹脂組成物 - Google Patents
感光材料用樹脂組成物Info
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- JPH04180961A JPH04180961A JP30613790A JP30613790A JPH04180961A JP H04180961 A JPH04180961 A JP H04180961A JP 30613790 A JP30613790 A JP 30613790A JP 30613790 A JP30613790 A JP 30613790A JP H04180961 A JPH04180961 A JP H04180961A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 24
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 21
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 21
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical group CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical group OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 8
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 claims description 4
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 claims description 3
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- OQBVABCNQUPXTL-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphanium hexafluoride Chemical group [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)[PH+](C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 OQBVABCNQUPXTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 4
- -1 triphenylphosphonium hexafluoroantimonate Chemical group 0.000 abstract description 3
- JVTAAEKCZFNVCJ-UWTATZPHSA-N D-lactic acid Chemical compound C[C@@H](O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UWTATZPHSA-N 0.000 abstract description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N L-lactic acid Chemical group C[C@H](O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-REOHCLBHSA-N 0.000 abstract description 2
- 229930182843 D-Lactic acid Natural products 0.000 abstract 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 229960000448 lactic acid Drugs 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O triphenylphosphanium Chemical compound C1=CC=CC=C1[PH+](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 3
- RKDVKSZUMVYZHH-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,5-dione Chemical compound O=C1COC(=O)CO1 RKDVKSZUMVYZHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- JJTUDXZGHPGLLC-UHFFFAOYSA-N lactide Chemical compound CC1OC(=O)C(C)OC1=O JJTUDXZGHPGLLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZNXRFYRXBFQMX-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl)methylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 FZNXRFYRXBFQMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPVXHAANQNHFSF-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxan-2-one Chemical compound O=C1COCCO1 VPVXHAANQNHFSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trichlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C(Cl)=C1Cl HSQFVBWFPBKHEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYHNVHGFPZAZGA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyhexanoic acid Chemical compound CCCCC(O)C(O)=O NYHNVHGFPZAZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRHWHSJDIILJAT-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypentanoic acid Chemical compound CCCC(O)C(O)=O JRHWHSJDIILJAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyric acid Chemical compound OCCCC(O)=O SJZRECIVHVDYJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000612182 Rexea solandri Species 0.000 description 1
- VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N beta-propiolactone Chemical compound O=C1CCO1 VEZXCJBBBCKRPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M diphenyliodanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[I+]C1=CC=CC=C1 RSJLWBUYLGJOBD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 229960000380 propiolactone Drugs 0.000 description 1
- 238000007151 ring opening polymerisation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、感光材料用樹脂組成物に関する。
これまでに、プリント配線板用、金属微細加工の防食レ
ジスト用、あるいは種々の刷版用に用いる感光材料とし
て様々なものが提案され実用化されている。
ジスト用、あるいは種々の刷版用に用いる感光材料とし
て様々なものが提案され実用化されている。
近年、解像度や感光性を向上させる目的で、化学増幅効
果を利用した酸触媒型感光材料の開発が活発に行われて
いる(第58回日本化学会春季年会予稿集、 p、22
16)。
果を利用した酸触媒型感光材料の開発が活発に行われて
いる(第58回日本化学会春季年会予稿集、 p、22
16)。
酸触媒型感光材料に用いられる樹脂組成物は基本的には
、基材となるポリマー、感光酸触媒、および悪政物質と
からなる三成分系である。樹脂組成物中の感光酸触媒が
光により酸を発生して悪政物質と反応し、ポリマーの溶
解性、分解性等が変化してポジ型、あるいはネガ型レジ
スト材料となり、光照射後の加熱プロセスにより酸触媒
反応が促進され高感度化されるため、化学増幅と呼ばれ
ているものである。
、基材となるポリマー、感光酸触媒、および悪政物質と
からなる三成分系である。樹脂組成物中の感光酸触媒が
光により酸を発生して悪政物質と反応し、ポリマーの溶
解性、分解性等が変化してポジ型、あるいはネガ型レジ
スト材料となり、光照射後の加熱プロセスにより酸触媒
反応が促進され高感度化されるため、化学増幅と呼ばれ
ているものである。
しかしながら、現在までに試みられた酸触媒型感光材料
用の樹脂組成物は、基材となるポリマーとしてノボラッ
ク樹脂、ポリアセトアルデヒド、ポリカーボネート等の
樹脂が用いられており、従ってこれらの材料で感光膜を
作成する際、あるいは現像の際には、特殊な溶剤や現像
液を必要とするという欠点があった。
用の樹脂組成物は、基材となるポリマーとしてノボラッ
ク樹脂、ポリアセトアルデヒド、ポリカーボネート等の
樹脂が用いられており、従ってこれらの材料で感光膜を
作成する際、あるいは現像の際には、特殊な溶剤や現像
液を必要とするという欠点があった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、種々の汎用性溶媒に可溶で、成膜性が
良好であり、かつ特殊な現像液を必要としない感光材料
用の樹脂組成物の提供にある。
良好であり、かつ特殊な現像液を必要としない感光材料
用の樹脂組成物の提供にある。
本発明者らは、上記課題について鋭意検討を行った結果
、ポリ乳酸等のポリマーに感光酸触媒をブレンドして得
られる樹脂組成物は感光材料用途として極めて好適であ
ることを見出し本発明に到達した。
、ポリ乳酸等のポリマーに感光酸触媒をブレンドして得
られる樹脂組成物は感光材料用途として極めて好適であ
ることを見出し本発明に到達した。
すなわち本発明は、ポリマー分子構造中に少なくともグ
リコール酸単位および/または乳酸単位をもつ重合体と
感光性触媒とのブレンドからなる感光材料用樹脂組成物
である。
リコール酸単位および/または乳酸単位をもつ重合体と
感光性触媒とのブレンドからなる感光材料用樹脂組成物
である。
本発明にがかる感光材料用樹脂組成物を構成する基材ポ
リマーは、ポリマー分子構造中に少なくともグリコール
酸単位および/または乳酸単位をもつポリマーであり、
乳酸単位はD一体、L一体のいずれでもよい。このポリ
マーは、乳酸単位および/またはグリコール酸単位のみ
から構成される必要は必ずしもなく、他の構成単位との
共重合体であってもよい。
リマーは、ポリマー分子構造中に少なくともグリコール
酸単位および/または乳酸単位をもつポリマーであり、
乳酸単位はD一体、L一体のいずれでもよい。このポリ
マーは、乳酸単位および/またはグリコール酸単位のみ
から構成される必要は必ずしもなく、他の構成単位との
共重合体であってもよい。
ポリマー中の乳酸単位またはグリコール酸単位以外の構
成単位としては例えば、ヒドロキシカプロン酸、ヒドロ
キシ酪酸、ヒドロキシ吉草酸等に代表されるヒドロキシ
脂肪酸単位、アルキレングリコール単位、二塩基酸単位
等が挙げられる。ポリマー中の乳酸単位またはグリコー
ル酸単位以外の構成単位のモル分率は50%以下が好ま
しい。
成単位としては例えば、ヒドロキシカプロン酸、ヒドロ
キシ酪酸、ヒドロキシ吉草酸等に代表されるヒドロキシ
脂肪酸単位、アルキレングリコール単位、二塩基酸単位
等が挙げられる。ポリマー中の乳酸単位またはグリコー
ル酸単位以外の構成単位のモル分率は50%以下が好ま
しい。
基材ポリマーを例示するならば、ポリ乳酸、乳酸−グリ
コール酸共重合体、乳酸−ヒドロキシカプロン酸共重合
体、p−ジオキサノン重合体、トリメチレンカーボネー
ト−乳酸共重合体等が挙げられる。好ましくはポリDL
−乳酸、乳酸−グリコール酸共重合体である。
コール酸共重合体、乳酸−ヒドロキシカプロン酸共重合
体、p−ジオキサノン重合体、トリメチレンカーボネー
ト−乳酸共重合体等が挙げられる。好ましくはポリDL
−乳酸、乳酸−グリコール酸共重合体である。
これらのポリマーは、公知の方法すなわち、オクタン酸
スズ等の触媒の存在下で、乳酸、グリコール酸の無水環
状二量体であるラクチド、グリコリドを開環重合させる
方法により合成される。この時、他のラクトン類、例え
ばブチロラクトン、プロピオラクトン、カプロラクトン
等のラクトン類をラクチド、グリコリドに対して等モル
以下の割合で共存させて重合させることもできる。
スズ等の触媒の存在下で、乳酸、グリコール酸の無水環
状二量体であるラクチド、グリコリドを開環重合させる
方法により合成される。この時、他のラクトン類、例え
ばブチロラクトン、プロピオラクトン、カプロラクトン
等のラクトン類をラクチド、グリコリドに対して等モル
以下の割合で共存させて重合させることもできる。
また、乳酸やグリコール酸を脱水縮合させることによっ
ても合成することができる。
ても合成することができる。
上記ポリマーの分子量は特に規定されないが、材料の軟
化点や成膜性等の観点から、およそ2.000以上が好
ましい、さらに好ましくは10.000以上である。
化点や成膜性等の観点から、およそ2.000以上が好
ましい、さらに好ましくは10.000以上である。
本発明にかかる感光材料用樹脂組成物は、上記ポリマー
に感光酸触媒をブレンドさせて調製される。感光酸触媒
とは光によって酸を発生する触媒であり、例えば、ジフ
ェニルヨードニウムクロライド、トリフェニルホスホニ
ウム6フッ化アンチモネート、p−ニトロベンジルホス
ホネート等が挙げられ、中でもトリフェニルホスホニウ
ム67フ化アンチモネートが特に好ましい、感光酸触媒
の量は、基材となるポリマーに対しておよそ0.1〜3
0重量部であることが好ましく、さらに好ましくはおよ
そ10重量部である。
に感光酸触媒をブレンドさせて調製される。感光酸触媒
とは光によって酸を発生する触媒であり、例えば、ジフ
ェニルヨードニウムクロライド、トリフェニルホスホニ
ウム6フッ化アンチモネート、p−ニトロベンジルホス
ホネート等が挙げられ、中でもトリフェニルホスホニウ
ム67フ化アンチモネートが特に好ましい、感光酸触媒
の量は、基材となるポリマーに対しておよそ0.1〜3
0重量部であることが好ましく、さらに好ましくはおよ
そ10重量部である。
ポリマーと感光酸触媒とのブレンドは、両者をを溶剤に
溶解させて混合させることにより行う。
溶解させて混合させることにより行う。
好ましい溶媒はクロロホルム、ジクロロメタン、1.2
−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、メタノール、エタノール、アセトン、トルエン、フェ
ノール/トリクロロフェノール混合溶媒、ヘキサフルオ
ロイソプロパツール、トリクロロ酢酸等である。好まし
くはクロロホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロ
エタン、テトラヒドロフランであり、特に好ましくは1
.2−ジクロロエタンである。
−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
N、N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
、メタノール、エタノール、アセトン、トルエン、フェ
ノール/トリクロロフェノール混合溶媒、ヘキサフルオ
ロイソプロパツール、トリクロロ酢酸等である。好まし
くはクロロホルム、ジクロロメタン、1.2−ジクロロ
エタン、テトラヒドロフランであり、特に好ましくは1
.2−ジクロロエタンである。
本発明の樹脂組成物を用いて作られる感光材料の形状は
特に規定されないが、通常はプリント配線用銅板等の平
板上へ上記樹脂組成物が塗布された形で提供され、それ
は例えば上記樹脂組成物の溶液を平板上へ薄く塗布し、
その後溶剤を乾燥除去することにより調製される。
特に規定されないが、通常はプリント配線用銅板等の平
板上へ上記樹脂組成物が塗布された形で提供され、それ
は例えば上記樹脂組成物の溶液を平板上へ薄く塗布し、
その後溶剤を乾燥除去することにより調製される。
実施例1
グリコール酸単位と乳酸単位のモル分率が5:5である
重量平均分子量的45.000のDL−乳酸−グリコー
ル酸共重合体2.5g、およびトリフェニルホスホニウ
ム6フソ化アンチモネート0.25gを、1.2−ジク
ロロエタン100dに溶解させ、ガラス板上に塗布した
。真空乾燥後、板上の樹脂組成物感光膜の厚みは2μM
であった。この板を100°Cで30分間ブレベーク処
理した。得られた感光板にクロムブラウンマスク(IC
用テストチャート)を密着させた後、製版用メタルハラ
イドランプを光源に使用して、70cmの距離から7分
間露光した。
重量平均分子量的45.000のDL−乳酸−グリコー
ル酸共重合体2.5g、およびトリフェニルホスホニウ
ム6フソ化アンチモネート0.25gを、1.2−ジク
ロロエタン100dに溶解させ、ガラス板上に塗布した
。真空乾燥後、板上の樹脂組成物感光膜の厚みは2μM
であった。この板を100°Cで30分間ブレベーク処
理した。得られた感光板にクロムブラウンマスク(IC
用テストチャート)を密着させた後、製版用メタルハラ
イドランプを光源に使用して、70cmの距離から7分
間露光した。
100°Cで30分間ポストベーク処理を行い、10%
の水酸化ナトリウム水溶液(25’C)にて2.5分間
現像処理、および10%ホルマリン(25°C)にて2
分間硬膜処理を行った。
の水酸化ナトリウム水溶液(25’C)にて2.5分間
現像処理、および10%ホルマリン(25°C)にて2
分間硬膜処理を行った。
処理後の感光板を顕微鏡で観察したところ、3μ麟のL
/Sパターンの解像がされていた。
/Sパターンの解像がされていた。
実施例2
グリコール酸単位と乳酸単位のモル分率が5=5である
重量平均分子量的45.000のDL−乳酸−グリコー
ル酸共重合体2.5g、およびトリフェニルホスホニウ
ム6フノ化アンチモ’jA −ト0.25gヲ、1.2
−ジクロロエタン100dに?8解させ、プリント配線
用銅板上へ塗布した。真空乾燥後、板上の樹脂組成物感
光膜の厚みは2.5μmであった。
重量平均分子量的45.000のDL−乳酸−グリコー
ル酸共重合体2.5g、およびトリフェニルホスホニウ
ム6フノ化アンチモ’jA −ト0.25gヲ、1.2
−ジクロロエタン100dに?8解させ、プリント配線
用銅板上へ塗布した。真空乾燥後、板上の樹脂組成物感
光膜の厚みは2.5μmであった。
この板を実施例1と同様に、ブレベーク処理した後、高
圧水銀ランプを光源に用いて、10cmの距離から段階
露光法により露光した。ボストヘーク処理は120″C
30分間行い、現像はtetra−n−butylam
monium hydroxide水溶液(10%)を
用いて25°Cで4分間行った。
圧水銀ランプを光源に用いて、10cmの距離から段階
露光法により露光した。ボストヘーク処理は120″C
30分間行い、現像はtetra−n−butylam
monium hydroxide水溶液(10%)を
用いて25°Cで4分間行った。
銅基板の腐食によりポリマー残膜の評価を行っ ゛
たところ、最低露光時間は10分であった。これはポリ
エステル系樹脂を使用した感光材料としては著しく高い
感光性であった。
たところ、最低露光時間は10分であった。これはポリ
エステル系樹脂を使用した感光材料としては著しく高い
感光性であった。
実施例3
L−乳酸単位90モル%、D−乳酸単位10モル%であ
るポリ乳酸(重量平均分子量的42.000)2.5g
、およびトリフェニルホスホニウム6フ・ン化アンチモ
ネート0.25gを、クロロホルム100dに?8解さ
せ、ガラス板上に塗布した。真空乾燥後、板上の樹脂組
成物感光膜の厚みは2μ蒙であった。この板ヲ100°
Cで30分間プレベーク処理した。
るポリ乳酸(重量平均分子量的42.000)2.5g
、およびトリフェニルホスホニウム6フ・ン化アンチモ
ネート0.25gを、クロロホルム100dに?8解さ
せ、ガラス板上に塗布した。真空乾燥後、板上の樹脂組
成物感光膜の厚みは2μ蒙であった。この板ヲ100°
Cで30分間プレベーク処理した。
得られた感光板を実施例1と同様に露光、現像処理を行
った。
った。
処理後の感光板を顕微鏡で観察したところ、3μ蒙のL
/Sパターンの解像がされていた。
/Sパターンの解像がされていた。
〔発明の効果]
本発明により新規の感光材料用樹脂組成物が提供される
。この樹脂組成物は多くの汎用性溶剤に可溶であり、従
って感光材料の作成時、あるいは得られた感光材料の後
処理時に特殊な溶剤を使用する必要がない。
。この樹脂組成物は多くの汎用性溶剤に可溶であり、従
って感光材料の作成時、あるいは得られた感光材料の後
処理時に特殊な溶剤を使用する必要がない。
本発明の樹脂組成物を用いて作られた感光材料は、弱ア
ルカリ水溶液での現像が可能であり、しかも高感度、高
解像度である。また、プレベークおよびポストベーク工
程において比較的低温(100°C)で処理が可能であ
る。
ルカリ水溶液での現像が可能であり、しかも高感度、高
解像度である。また、プレベークおよびポストベーク工
程において比較的低温(100°C)で処理が可能であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリマー分子構造中に少なくともグリコール酸単位
および/または乳酸単位をもつ重合体と感光性触媒との
ブレンドからなる、感光材料用樹脂組成物。 2、重合体が乳酸とグリコール酸の共重合体またはポリ
乳酸である、請求項1記載の感光材料用樹脂組成物。 3、感光性触媒がトリフェニルホスホニウム6フッ化ア
ンチモネートである請求項1記載の感光材料用樹脂組成
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30613790A JP2966917B2 (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 感光材料用樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30613790A JP2966917B2 (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 感光材料用樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04180961A true JPH04180961A (ja) | 1992-06-29 |
JP2966917B2 JP2966917B2 (ja) | 1999-10-25 |
Family
ID=17953503
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30613790A Expired - Fee Related JP2966917B2 (ja) | 1990-11-14 | 1990-11-14 | 感光材料用樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2966917B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0683051A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-03-25 | Ocg Microelectron Materials Inc | 放射線に感光性の混合物のための増感剤としてのポリラクチド化合物 |
-
1990
- 1990-11-14 JP JP30613790A patent/JP2966917B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0683051A (ja) * | 1992-03-19 | 1994-03-25 | Ocg Microelectron Materials Inc | 放射線に感光性の混合物のための増感剤としてのポリラクチド化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2966917B2 (ja) | 1999-10-25 |
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Legal Events
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |