JPH04180897A - 固定床式脱窒方法 - Google Patents
固定床式脱窒方法Info
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- JPH04180897A JPH04180897A JP2306622A JP30662290A JPH04180897A JP H04180897 A JPH04180897 A JP H04180897A JP 2306622 A JP2306622 A JP 2306622A JP 30662290 A JP30662290 A JP 30662290A JP H04180897 A JPH04180897 A JP H04180897A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は固定床式脱窒方法に係り、特に、脱窒細菌の固
定床が形成された脱窒槽に硝酸イオン及び／又は亜硝酸
イオンを含む原水を通水して脱窒処理するにあたり、脱
窒槽内の酸化還元電位（以下ｒＯＲＰＪと称す。）を測
定し、その測定値に基いて脱窒槽内への水素供与体の添
加量を制御する方法において、水素供与体の添加量を常
に最適値に制御することにより、高水貿の処理水を効率
的に得ることを可能とする固定床式脱窒方法に関する。
定床が形成された脱窒槽に硝酸イオン及び／又は亜硝酸
イオンを含む原水を通水して脱窒処理するにあたり、脱
窒槽内の酸化還元電位（以下ｒＯＲＰＪと称す。）を測
定し、その測定値に基いて脱窒槽内への水素供与体の添
加量を制御する方法において、水素供与体の添加量を常
に最適値に制御することにより、高水貿の処理水を効率
的に得ることを可能とする固定床式脱窒方法に関する。
［従来の技術］
硝酸性窒素（以下「Ｎｏ３−Ｎ」と略称する。）及び／
又は亜硝酸性窒素（以下ｒＮＯ２−ＮＪ と略称し、Ｎ
Ｏｓ −Ｎ 。
又は亜硝酸性窒素（以下ｒＮＯ２−ＮＪ と略称し、Ｎ
Ｏｓ −Ｎ 。
Ｎ０２−ＮをＮ０ｘ−Ｎと総称する。）とＢＯＤとを含
む原水を脱窒処理する場合、原水中のＮ０ｘ−Ｎ、ＢＯ
Ｄ濃度が変化すると、Ｎ／Ｃ比（窒素／有機炭素）が変
わり、安定処理ができなくなる。このため、このＮ／Ｃ
比を調整するために、メタノール等の水素供与体（有機
炭素源）を添加するが、その添加量は、処理水質を高く
維持するために、必要最少量とすることが重要である。
む原水を脱窒処理する場合、原水中のＮ０ｘ−Ｎ、ＢＯ
Ｄ濃度が変化すると、Ｎ／Ｃ比（窒素／有機炭素）が変
わり、安定処理ができなくなる。このため、このＮ／Ｃ
比を調整するために、メタノール等の水素供与体（有機
炭素源）を添加するが、その添加量は、処理水質を高く
維持するために、必要最少量とすることが重要である。
従来、浮遊方式の脱窒方法において、ＯＲＰとＮ０ｘ−
Ｎとに関係があることは知られており、ＯＲＰの測定値
に基いて水素供与体の添加量と制御する方法が提案され
ている。
Ｎとに関係があることは知られており、ＯＲＰの測定値
に基いて水素供与体の添加量と制御する方法が提案され
ている。
例えば、脱窒細菌を付着させた粒状固体を充填したモニ
ターカラムに原水の一部を通水し、モニターカラム内も
しくはモニターカラム流出水のＯＲＰを検出し、ＯＲＰ
の設定値に対する偏差によって実際の装置への有機炭素
源（水素供与体）の添加量を制御する方法（特公昭６３
−２２８７７号）、或いは、ＯＲＰが、一定に制御され
たｐＨ条件下でのＮｏ、−Ｎイオンと水素供与体との間
の酸化還元反応の当量点におけるＯＲＰ値に維持される
ように、水素供与体の添加量を制御する方法（特公昭６
４−６８４０号）が提案されている。
ターカラムに原水の一部を通水し、モニターカラム内も
しくはモニターカラム流出水のＯＲＰを検出し、ＯＲＰ
の設定値に対する偏差によって実際の装置への有機炭素
源（水素供与体）の添加量を制御する方法（特公昭６３
−２２８７７号）、或いは、ＯＲＰが、一定に制御され
たｐＨ条件下でのＮｏ、−Ｎイオンと水素供与体との間
の酸化還元反応の当量点におけるＯＲＰ値に維持される
ように、水素供与体の添加量を制御する方法（特公昭６
４−６８４０号）が提案されている。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、浮遊方式は固定床式（塔式）に比べて必
要とされる装置設定面積が大きいことから、浮遊方式よ
りも固定床式の方が工業的に有利である。
要とされる装置設定面積が大きいことから、浮遊方式よ
りも固定床式の方が工業的に有利である。
このため、固定床式脱窒方法において、水素供与体の添
加量を良好に制御することが必要とされるが、固定床式
で処理水のＯＲＰを測定して水素供与体の添加操作を制
御する方法では、添加操作を加えるまでのタイムラグの
ために、制御が手遅れになり、良好な処理を行なえない
という欠点があった。これを解決するために、過剰量の
水素供与体の添加を行なうと、経済性が悪くなる上に、
処理水水質も低下するという不具合が生じる。
加量を良好に制御することが必要とされるが、固定床式
で処理水のＯＲＰを測定して水素供与体の添加操作を制
御する方法では、添加操作を加えるまでのタイムラグの
ために、制御が手遅れになり、良好な処理を行なえない
という欠点があった。これを解決するために、過剰量の
水素供与体の添加を行なうと、経済性が悪くなる上に、
処理水水質も低下するという不具合が生じる。
本発明は上記従来の問題点を解決し、固定床式脱窒方法
において、水素供与体の添加を容易かつ確実に制御する
ことにより、高水質の処理水を低コストで効率的に得る
ことを可能とする固定床式脱窒方法を提供することを目
的とする。
において、水素供与体の添加を容易かつ確実に制御する
ことにより、高水質の処理水を低コストで効率的に得る
ことを可能とする固定床式脱窒方法を提供することを目
的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明の固定床式脱窒方法は、脱窒細菌の固定床が形成
された脱窒槽に硝酸性窒素及び／又は亜硝酸性窒素を含
む原水を通水すると共に、該脱窒槽内の酸化還元電位を
測定し、その測定値に基いて脱窒槽内への水素供与体の
添加量を制御する脱窒方法において、固定床内の原水の
流れ方向の少なくとも２箇所の位置において酸化還元電
位を測定し、上流側の酸化還元電位が所定値以下の場合
には上流側の酸化還元電位に基いて水素供与体の添加量
を制御し、上流側の酸化還元電位が前記所定値を超えた
場合には下流側の酸化還元電位に基いて水素供与体の添
加量を制御することを特徴とする。
された脱窒槽に硝酸性窒素及び／又は亜硝酸性窒素を含
む原水を通水すると共に、該脱窒槽内の酸化還元電位を
測定し、その測定値に基いて脱窒槽内への水素供与体の
添加量を制御する脱窒方法において、固定床内の原水の
流れ方向の少なくとも２箇所の位置において酸化還元電
位を測定し、上流側の酸化還元電位が所定値以下の場合
には上流側の酸化還元電位に基いて水素供与体の添加量
を制御し、上流側の酸化還元電位が前記所定値を超えた
場合には下流側の酸化還元電位に基いて水素供与体の添
加量を制御することを特徴とする。
［作用］
生物脱窒反応過程でのＮ０ａ−ＮとＯＲＰとの関係は、
浮遊法のデータから第２図に示す通りである０図示の如
く、脱窒反応が進行して残留Ｎ０ｘ−Ｎ濃度が低くなる
に従って、ＯＲＰが低下する。そして、この脱窒反応が
完了した場合、一般にはＯＲＰは一７０ｍＶ程度以下と
なる。
浮遊法のデータから第２図に示す通りである０図示の如
く、脱窒反応が進行して残留Ｎ０ｘ−Ｎ濃度が低くなる
に従って、ＯＲＰが低下する。そして、この脱窒反応が
完了した場合、一般にはＯＲＰは一７０ｍＶ程度以下と
なる。
従って、第２図に示す関係が成り立つ反応系において、
例えばＯＲＰが−７０〜−１００ｍＶであれば、水素供
与体としてのメタノールの注入ポンプを稼動（ＯＮ）さ
せ、ＯＲＰが一１５０ｍＶ以下であればメタノールの注
入ポンプを停止（ＯＦＦ）させることにより、メタノー
ルの良好かつ確実な添加制御を行なえる。ただし、第２
図は、原水がし尿系二次処理水である場合の例であり、
原水の種類によって残留Ｎ０３−ＮとＯＲＰとの関係は
多少異なる。
例えばＯＲＰが−７０〜−１００ｍＶであれば、水素供
与体としてのメタノールの注入ポンプを稼動（ＯＮ）さ
せ、ＯＲＰが一１５０ｍＶ以下であればメタノールの注
入ポンプを停止（ＯＦＦ）させることにより、メタノー
ルの良好かつ確実な添加制御を行なえる。ただし、第２
図は、原水がし尿系二次処理水である場合の例であり、
原水の種類によって残留Ｎ０３−ＮとＯＲＰとの関係は
多少異なる。
ところで、浮遊法では反応種容積が大きく、流入原水の
窒素成分は直ちに処理水窒素成分になるという特徴があ
る。反面、条件が悪いときは回復が遅いことになる。
窒素成分は直ちに処理水窒素成分になるという特徴があ
る。反面、条件が悪いときは回復が遅いことになる。
一方、固定床は押し出し流通方式であるため、反応槽下
部と上部とでは水質が異なり、ＯＲＰは反応槽の下部で
高く、反応槽の上部で低くなるが、このＯＲＰの高い範
囲と低い範囲とは一定しておらず、常に変動する。即ち
、反応槽内の反応帯域は、反応槽に流入する原水のＮｏ
、−Ｎ濃度により大きく異なり、反応槽の高さ方向に引
き伸ばされたり、押し縮められたりする。例えば、第３
図に示す固定床２０Ａが形成された脱窒反応槽２０にお
いて、配管２１から流入する原水のＮｏｘ−Ｎ濃度が低
い場合には、反応帯域は反応槽の高さ方向に縮められて
、■の反応ｆ域となる。一方、原水のＮｏｘ−Ｎ濃度が
高い場合には、反応帯域は反応槽の高さ方向に引き伸ば
されて、ＩＩの反応帯域となる。従って、原水のＮｏｘ
−Ｎ濃度が低い場合には、固定床２ＯＡ内の反応帯域Ｉ
の上方位置Ａ、Ｂのいずれでも残留ＮＯｓ −Ｎを知る
ためのＯＲＰの測定を行なうことができるが、原水のＮ
ｏ、−Ｎ濃度が高い場合には、Ａ位置での測定はできず
、反応帯域ＩＩの上方のＢ位置で測定する必要がある。
部と上部とでは水質が異なり、ＯＲＰは反応槽の下部で
高く、反応槽の上部で低くなるが、このＯＲＰの高い範
囲と低い範囲とは一定しておらず、常に変動する。即ち
、反応槽内の反応帯域は、反応槽に流入する原水のＮｏ
、−Ｎ濃度により大きく異なり、反応槽の高さ方向に引
き伸ばされたり、押し縮められたりする。例えば、第３
図に示す固定床２０Ａが形成された脱窒反応槽２０にお
いて、配管２１から流入する原水のＮｏｘ−Ｎ濃度が低
い場合には、反応帯域は反応槽の高さ方向に縮められて
、■の反応ｆ域となる。一方、原水のＮｏｘ−Ｎ濃度が
高い場合には、反応帯域は反応槽の高さ方向に引き伸ば
されて、ＩＩの反応帯域となる。従って、原水のＮｏｘ
−Ｎ濃度が低い場合には、固定床２ＯＡ内の反応帯域Ｉ
の上方位置Ａ、Ｂのいずれでも残留ＮＯｓ −Ｎを知る
ためのＯＲＰの測定を行なうことができるが、原水のＮ
ｏ、−Ｎ濃度が高い場合には、Ａ位置での測定はできず
、反応帯域ＩＩの上方のＢ位置で測定する必要がある。
従フて、ＯＲＰは常にＢ位置で測定すれば良いことにな
るが、系内がメタノール不足の場合には、原水のＮｏｘ
−Ｎ濃度が低い場合でも反応帯域が引き伸ばされて、反
応槽の上部出口付近にまで達する場合があり、Ｂ位置の
みの検出でも常に良好な制御ができるとは限らない。
るが、系内がメタノール不足の場合には、原水のＮｏｘ
−Ｎ濃度が低い場合でも反応帯域が引き伸ばされて、反
応槽の上部出口付近にまで達する場合があり、Ｂ位置の
みの検出でも常に良好な制御ができるとは限らない。
しかも、原水が反応槽内に流入してから、Ａ位置、更に
はＢ位置に到達するにはある程度の時間を要するため、
ＯＲＰの測定からメタノールの添加量制御に到る立ち遅
れを軽減するためには、ＯＲＰの測定位置はできるだけ
反応槽の人口に近い部分とするのが好ましい。この点か
らも、Ｂ点のみの検出では不十分である。
はＢ位置に到達するにはある程度の時間を要するため、
ＯＲＰの測定からメタノールの添加量制御に到る立ち遅
れを軽減するためには、ＯＲＰの測定位置はできるだけ
反応槽の人口に近い部分とするのが好ましい。この点か
らも、Ｂ点のみの検出では不十分である。
なお、安全をみてＯＲＰの低いところで制御を行なう場
合には、メタノール注入量が過剰となりすぎて、薬剤コ
ストが高騰する上に、処理水中の残留が増し、処理水質
が悪化する。
合には、メタノール注入量が過剰となりすぎて、薬剤コ
ストが高騰する上に、処理水中の残留が増し、処理水質
が悪化する。
本発明の固定床式脱窒方法においては、例えば、第３図
の反応槽２０において、固定床２０Ａ内の原水の流れ方
向の少なくとも２箇所の位置Ａ、ＢにおいてＯＲＰを測
定し、上流側の位置ＡのＯＲＰが所定値以下の場合には
この位置ＡのＯＲＰに基いてメタノール等の水素供与体
の添加量を制御し、位置ＡのＯＲＰが前記所定値を超え
た場合には、下流側の位置ＢのＯＲＰに基いてメタノー
ル等の水素供与体の添加量を制御する。
の反応槽２０において、固定床２０Ａ内の原水の流れ方
向の少なくとも２箇所の位置Ａ、ＢにおいてＯＲＰを測
定し、上流側の位置ＡのＯＲＰが所定値以下の場合には
この位置ＡのＯＲＰに基いてメタノール等の水素供与体
の添加量を制御し、位置ＡのＯＲＰが前記所定値を超え
た場合には、下流側の位置ＢのＯＲＰに基いてメタノー
ル等の水素供与体の添加量を制御する。
即ち、固定床内の原水の流れ方向の複数位置でＯＲＰを
測定し、常に上流側の測定位置のＯＲＰ値を優先させて
、上流側のＯＲＰが設定値以下であれば、即ち、上流側
のＯＲＰ測定位置が反応完了領域であれば、この位置の
ＯＲＰ値に基いて水素供与体の添加量の制御を行なう。
測定し、常に上流側の測定位置のＯＲＰ値を優先させて
、上流側のＯＲＰが設定値以下であれば、即ち、上流側
のＯＲＰ測定位置が反応完了領域であれば、この位置の
ＯＲＰ値に基いて水素供与体の添加量の制御を行なう。
そして、この上流側のＯＲＰが設定値を超える場合、即
ち、上流側のＯＲＰ測定位置が未反応領域である場合に
は、下流側の、設定値以下のＯＲＰ値を示す測定位置（
この位置は反応完了領域となる。）のＯＲＰ値に基いて
水素供与体の添加量の制御を行なう。
ち、上流側のＯＲＰ測定位置が未反応領域である場合に
は、下流側の、設定値以下のＯＲＰ値を示す測定位置（
この位置は反応完了領域となる。）のＯＲＰ値に基いて
水素供与体の添加量の制御を行なう。
これにより、ＯＲＰの測定位置を反応帯域の伸縮に応じ
て、常に反応帯の入口側に近い位置に設定し、ＯＲＰ測
定から水素供与体の添加量制御に到る立ち遅れを防止し
、水素供与体の添加量の最適化を図ることが可能とされ
る。
て、常に反応帯の入口側に近い位置に設定し、ＯＲＰ測
定から水素供与体の添加量制御に到る立ち遅れを防止し
、水素供与体の添加量の最適化を図ることが可能とされ
る。
［実施例］
以下に図面を参照して実施例について説明する。
第１図は本発明の固定床式脱窒方法の実施に好適な脱窒
装置の一例を示す系統図である。
装置の一例を示す系統図である。
図中、１は原水槽であり、メタノール貯槽２より、水素
供与体としてのメタノールが、メタノール注入ポンプＰ
、を有する配管１１より注入される。３は、原水槽１よ
り、ポンプＰ２を有する配管１２を経て導入された原水
を脱窒処理する固定床式脱窒槽であり、槽内には脱窒細
菌の固定床３Ａが形成され、また、頂部には処理水の排
出用配管１３を有する。
供与体としてのメタノールが、メタノール注入ポンプＰ
、を有する配管１１より注入される。３は、原水槽１よ
り、ポンプＰ２を有する配管１２を経て導入された原水
を脱窒処理する固定床式脱窒槽であり、槽内には脱窒細
菌の固定床３Ａが形成され、また、頂部には処理水の排
出用配管１３を有する。
固定床式脱窒槽３の固定床３Ａ内には、原水の流れ方向
の上流側の位置Ａと、下流側の位置Ｂに各々、抜出用配
管１４．１５が接続されている。
の上流側の位置Ａと、下流側の位置Ｂに各々、抜出用配
管１４．１５が接続されている。
液圧用配管１４．１５は、それぞれ開閉バルブＶ、、Ｖ
２及び流量調整バルブｖ３．Ｖ４を有し、また、流量計
４Ａ、４Ｂ及びＯＲＰ計５Ａ。
２及び流量調整バルブｖ３．Ｖ４を有し、また、流量計
４Ａ、４Ｂ及びＯＲＰ計５Ａ。
５Ｂを備える。流量調整バルブＶ、、Ｖ、及びポンプＰ
２は原水槽１に設けられた水位センサ６に連動するよう
に設けられている。また、メタノール注入ポンプＰ、は
ＯＲＰ計５Ａ、５Ｂと連動するように設けられている。
２は原水槽１に設けられた水位センサ６に連動するよう
に設けられている。また、メタノール注入ポンプＰ、は
ＯＲＰ計５Ａ、５Ｂと連動するように設けられている。
このような脱窒装置において、メタノールの注入量の制
御はメタノール注入ポンプＰ、の稼動（ＯＮ）又は停止
（ＯＦＦ）により行なう。
御はメタノール注入ポンプＰ、の稼動（ＯＮ）又は停止
（ＯＦＦ）により行なう。
即ち、Ａ点のＯＲＰ値、即ちＯＲＰ＋に基いてメタノー
ル注入の制御を行なっているときに、原水水質の変動（
Ｎｏ、−Ｎ濃度増加）により、脱窒槽３内の反応帯域が
Ａ点よりも上方へ移動した場合には、０ＲＰＩ値が設定
値よりも増加するため、メタノール注入制御のための情
報源をＡ点のＯＲＰ値からＢ点のＯＲＰ値、即ち０ＲＰ
２に切り替え、ＯＲＰ ２に基いてメタノールの注入制
御を行なう、この場合、ＯＲＰ ２はＯＲＰ ＋と同じ
か或いは０ＲＰ２よりも小さい。そして、この間に、再
び原水水質が変動（Ｎｏ、ｌ−Ｎ濃度低下）し、反応帯
域がＡ点よりも下方へ移動し、ＯＲＰ ＋が設定値以下
となりた場合には、再度、情報源をＡ点のＯＲＰ値に切
り替え、ＯＲＰ Ｉに基いてメタノールの注入制御を行
なう。
ル注入の制御を行なっているときに、原水水質の変動（
Ｎｏ、−Ｎ濃度増加）により、脱窒槽３内の反応帯域が
Ａ点よりも上方へ移動した場合には、０ＲＰＩ値が設定
値よりも増加するため、メタノール注入制御のための情
報源をＡ点のＯＲＰ値からＢ点のＯＲＰ値、即ち０ＲＰ
２に切り替え、ＯＲＰ ２に基いてメタノールの注入制
御を行なう、この場合、ＯＲＰ ２はＯＲＰ ＋と同じ
か或いは０ＲＰ２よりも小さい。そして、この間に、再
び原水水質が変動（Ｎｏ、ｌ−Ｎ濃度低下）し、反応帯
域がＡ点よりも下方へ移動し、ＯＲＰ ＋が設定値以下
となりた場合には、再度、情報源をＡ点のＯＲＰ値に切
り替え、ＯＲＰ Ｉに基いてメタノールの注入制御を行
なう。
例えば、第２図に示す如く、未反応領域と反応完了領域
の境界が一７０ｍＶであることから、所定値を一７０ｍ
Ｖに設定し、また、メタノール注入ポンプＰ Ｌｉ２）
ＯＮ ／ ＯＦ Ｆを一１００ｍＶ以上／−１５０ｍ
Ｖ以下とし、ＯＲＰ計５Ａで測定される上流側のＡ点の
ＯＲＰ値、即ち０ＲＰＩが一７０ｍＶならばこのＯＲＰ
＋に基いてメタノールの添加を制御する。即ち、０Ｒ
ＰＩが−１００〜−７０ｍＶであればメタノール注入ポ
ンプＰ１をＯＮ、 −１５０ｍＶ以下であればメタノー
ル注入ポンプＰ１をＯＦＦとする。一方、ＯＲＰ、が−
７０ｍＶより大きい場合には、ＯＲＰ計５Ｂで測定され
る下流側のＢ点のＯＲＰ値、即ち０ＲＰ２に基いてメタ
ノールの制御を行なう。即ち、０ＲＰ２が−１００〜−
７０ｍＶであればメタノール注入ポンプＰ＋をＯＮ、−
１５０ｍＶ以下であればメタノール注入ポンプＰＩをＯ
ＦＦとする。
の境界が一７０ｍＶであることから、所定値を一７０ｍ
Ｖに設定し、また、メタノール注入ポンプＰ Ｌｉ２）
ＯＮ ／ ＯＦ Ｆを一１００ｍＶ以上／−１５０ｍ
Ｖ以下とし、ＯＲＰ計５Ａで測定される上流側のＡ点の
ＯＲＰ値、即ち０ＲＰＩが一７０ｍＶならばこのＯＲＰ
＋に基いてメタノールの添加を制御する。即ち、０Ｒ
ＰＩが−１００〜−７０ｍＶであればメタノール注入ポ
ンプＰ１をＯＮ、 −１５０ｍＶ以下であればメタノー
ル注入ポンプＰ１をＯＦＦとする。一方、ＯＲＰ、が−
７０ｍＶより大きい場合には、ＯＲＰ計５Ｂで測定され
る下流側のＢ点のＯＲＰ値、即ち０ＲＰ２に基いてメタ
ノールの制御を行なう。即ち、０ＲＰ２が−１００〜−
７０ｍＶであればメタノール注入ポンプＰ＋をＯＮ、−
１５０ｍＶ以下であればメタノール注入ポンプＰＩをＯ
ＦＦとする。
以上の制御方法を１７Ｊ１表にまとめて示す。
第１表
なお、上記の説明では、所定値を一７０ｍＶとしたが、
この所定値は原水のｐＨや脱窒槽の固定床の充填高さ、
原水の流量等によって適宜設定されるものであって、−
７０ｍＶは絶対的な数値ではない。また、メタノール注
入ポンプの０Ｎ１０ＦＦ制御する際の−１５０〜−１０
０ｍＶの電位範囲についても同様に、処理条件に応じて
適宜設定される。
この所定値は原水のｐＨや脱窒槽の固定床の充填高さ、
原水の流量等によって適宜設定されるものであって、−
７０ｍＶは絶対的な数値ではない。また、メタノール注
入ポンプの０Ｎ１０ＦＦ制御する際の−１５０〜−１０
０ｍＶの電位範囲についても同様に、処理条件に応じて
適宜設定される。
また、メタノール等の水素供与体め注入量の制御は、メ
タノール注入ポンプのＯＮ１０ Ｆ Ｆの他、注入量の
増減制御により行なうこともできる。
タノール注入ポンプのＯＮ１０ Ｆ Ｆの他、注入量の
増減制御により行なうこともできる。
本発明において、ＯＲＰの測定位置は２点に限らず３点
以上であっても良いが、いずれの場合においても常に上
流側のＯＲＰ値を優先し、順次所定値と比較し、所定値
を超える場合に下流側のＯＲＰ値に基いて制御する。
以上であっても良いが、いずれの場合においても常に上
流側のＯＲＰ値を優先し、順次所定値と比較し、所定値
を超える場合に下流側のＯＲＰ値に基いて制御する。
以下に具体的な実施例について説明する。
実施例ｌ
Ｎ０ｓ−Ｎ４０〜７０ｍｇ／ＪＬ、ＢＯＤ５０〜５０
ｍ ｇ／１１を含む原水を、Ｎ１図に示す方法に従って
、２点Ａ、ＢのＯＲＰ値に基いて、前記第１表に示す制
御方法に従って脱窒処理した。
ｍ ｇ／１１を含む原水を、Ｎ１図に示す方法に従って
、２点Ａ、ＢのＯＲＰ値に基いて、前記第１表に示す制
御方法に従って脱窒処理した。
その結果、Ｎ Ｏｓ −Ｎ １〜４ ｍ ｇ ／ ｉ
、 Ｂ ＯＤ５〜２０ ｍ ｇ ／ １１の、極めて高
水質の処理水が得られた。
、 Ｂ ＯＤ５〜２０ ｍ ｇ ／ １１の、極めて高
水質の処理水が得られた。
比較例１
′ｓ１図において、Ａ点及びＢ点でのＯＲＰ検出を行な
わず、処理水の０ＲＰ（ＯＲＰ３と称す、）を検出し、
その値に基いて、第２表に示す制御方法に従って脱窒処
理を行なった。
わず、処理水の０ＲＰ（ＯＲＰ３と称す、）を検出し、
その値に基いて、第２表に示す制御方法に従って脱窒処
理を行なった。
第２表
その結果、処理水のＮＯ３Ｎは１〜３０ｍｇ／ＩＬ、Ｂ
ＯＤは４〜２００ｍｇＺｌと、処理水質は著しく他下し
た。しかも、メタノール使用量は実施例１の場合の３〜
５倍量であった。
ＯＤは４〜２００ｍｇＺｌと、処理水質は著しく他下し
た。しかも、メタノール使用量は実施例１の場合の３〜
５倍量であった。
［発明の効果コ
以上詳述した通り、本発明の固定床式脱窒方法によれば
、小型で、設置面積が小さくて足りる固定床式の脱窒反
応種により、水素供与体の添加量の最適化を容易かつ自
動的に図ることが可能とされ、残留ＢＯＤが著しく少な
く、高度に脱窒処理された処理水を安定かつ効率的に得
ることが可能とされる。
、小型で、設置面積が小さくて足りる固定床式の脱窒反
応種により、水素供与体の添加量の最適化を容易かつ自
動的に図ることが可能とされ、残留ＢＯＤが著しく少な
く、高度に脱窒処理された処理水を安定かつ効率的に得
ることが可能とされる。
第１図は本発明の固定床式脱窒方法の実施に好適な脱窒
装置の一例を示す系統図、第２図は残留ＮＯ３Ｎ濃度と
ＯＲＰとの関係を示すグラフ、第３図は固定床式脱窒反
応槽の模式的な断面図である。 １・・・原水糟、 ２・・・メタノール貯槽、
３・・・固定床式脱窒糟、３Ａ・・・固定床、５Ａ、５
Ｂ・・・ＯＲＰ計、 Ｐ、・・・メタノール注入ポンプ。 代理人 弁理士 重 野 剛第２図 ＯＲＰ（ｍＶ）
装置の一例を示す系統図、第２図は残留ＮＯ３Ｎ濃度と
ＯＲＰとの関係を示すグラフ、第３図は固定床式脱窒反
応槽の模式的な断面図である。 １・・・原水糟、 ２・・・メタノール貯槽、
３・・・固定床式脱窒糟、３Ａ・・・固定床、５Ａ、５
Ｂ・・・ＯＲＰ計、 Ｐ、・・・メタノール注入ポンプ。 代理人 弁理士 重 野 剛第２図 ＯＲＰ（ｍＶ）
Claims (1)
- （１）脱窒細菌の固定床が形成された脱窒槽に硝酸性窒
素及び／又は亜硝酸性窒素を含む原水を通水すると共に
、該脱窒槽内の酸化還元電位を測定し、その測定値に基
いて脱窒槽内への水素供与体の添加量を制御する脱窒方
法において、 固定床内の原水の流れ方向の少なくとも２箇所の位置に
おいて酸化還元電位を測定し、上流側の酸化還元電位が
所定値以下の場合には上流側の酸化還元電位に基いて水
素供与体の添加量を制御し、上流側の酸化還元電位が前
記所定値を超えた場合には下流側の酸化還元電位に基い
て水素供与体の添加量を制御することを特徴とする固定
床式脱窒方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2306622A JPH04180897A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 固定床式脱窒方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2306622A JPH04180897A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 固定床式脱窒方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04180897A true JPH04180897A (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=17959307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2306622A Pending JPH04180897A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 固定床式脱窒方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04180897A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009505822A (ja) * | 2005-08-24 | 2009-02-12 | パークソン コーポレーション | 脱窒プロセス及び脱窒装置 |
| JP2010094665A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-30 | Metawater Co Ltd | 窒素含有排水処理に伴う亜酸化窒素排出抑制方法 |
-
1990
- 1990-11-13 JP JP2306622A patent/JPH04180897A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009505822A (ja) * | 2005-08-24 | 2009-02-12 | パークソン コーポレーション | 脱窒プロセス及び脱窒装置 |
| JP2010094665A (ja) * | 2008-09-19 | 2010-04-30 | Metawater Co Ltd | 窒素含有排水処理に伴う亜酸化窒素排出抑制方法 |
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