JPH04177716A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH04177716A JPH04177716A JP2304042A JP30404290A JPH04177716A JP H04177716 A JPH04177716 A JP H04177716A JP 2304042 A JP2304042 A JP 2304042A JP 30404290 A JP30404290 A JP 30404290A JP H04177716 A JPH04177716 A JP H04177716A
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- exposure apparatus
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Links
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は定期的に装置内のXYスデーシや感光基板の移
送手段等の可動部にグリースを自動供給することを可能
としノこ露光装置に関するものである。
送手段等の可動部にグリースを自動供給することを可能
としノこ露光装置に関するものである。
[従来の技術]
所定の駆動信号に従って、ウニへ等の感光基板をXYス
デーシの所定箇所にj『1次移送し、XYステージ上に
移送された感光基板上の極小領域を位置決めし、そのX
Yステーシ上の感光基板の領域にマスクに形成されたパ
ターンを露光する露光装置では、極小領域の位置決めに
数710μm以下の高い精度を要求される。
デーシの所定箇所にj『1次移送し、XYステージ上に
移送された感光基板上の極小領域を位置決めし、そのX
Yステーシ上の感光基板の領域にマスクに形成されたパ
ターンを露光する露光装置では、極小領域の位置決めに
数710μm以下の高い精度を要求される。
そのため、露光装置のXYステーシの所定箇所に移送す
る移送手段では駆動の安定性を、またXYステーシの位
置決め手段では高い制御+11を要求ざれるものである
。
る移送手段では駆動の安定性を、またXYステーシの位
置決め手段では高い制御+11を要求ざれるものである
。
特に、XYステージの位置決め手段では、高い精度を要
求されるため、該手段の可動部に供給されるグリースの
疲労、酸化1コミや塵の混入等による劣化さえも高い精
度を達成するための制御側に景三響を与える。
求されるため、該手段の可動部に供給されるグリースの
疲労、酸化1コミや塵の混入等による劣化さえも高い精
度を達成するための制御側に景三響を与える。
このため、露光装置の移送手段や位置決め手段等の可動
部の定期的なメンテナンスが必要と?7っている。
部の定期的なメンテナンスが必要と?7っている。
露光装置の×Yステージ送りネジ部等に必要なグリース
供給作業・目、の流体であり、従来、このような高粘度
のグリースを必要部分にイ共給する場合には、人手によ
り汗射器(グリースカン)、手動ポンプ等でメンテナン
スを行うしかなかった。そのメンテナンスの際には、人
手による作業であり、装置全体を開放するため、露光装
置の運転は停止する必要かあった。
供給作業・目、の流体であり、従来、このような高粘度
のグリースを必要部分にイ共給する場合には、人手によ
り汗射器(グリースカン)、手動ポンプ等でメンテナン
スを行うしかなかった。そのメンテナンスの際には、人
手による作業であり、装置全体を開放するため、露光装
置の運転は停止する必要かあった。
[発明か解決しようとする課題]
このような方法においては、その都度装置を一定期間停
止させなりれはグリース補充を行うことかできず、また
人手による作業であるために、頻繁(例えは1〜2日に
1回)にグリース供給作業を行うことかてきノ1かった
。
止させなりれはグリース補充を行うことかできず、また
人手による作業であるために、頻繁(例えは1〜2日に
1回)にグリース供給作業を行うことかてきノ1かった
。
更に、定期的なメンテナンスを行えは直に安定した制御
性を得らねることに776す、結果的にメンテナンス終
了後の立ら1−げ時には、新しいグリースに馴染ませる
時間を必要とし、グリースイ」1給作業間隔か長くなり
、生産料を低下させる原因ともなフていた。
性を得らねることに776す、結果的にメンテナンス終
了後の立ら1−げ時には、新しいグリースに馴染ませる
時間を必要とし、グリースイ」1給作業間隔か長くなり
、生産料を低下させる原因ともなフていた。
また、人手による不安定な作業に頼らざるを行ないため
、逆にXYスデーシの安定な制御性を妨げる原因となる
こともあった。
、逆にXYスデーシの安定な制御性を妨げる原因となる
こともあった。
本発明は、装置本体の運転を停止にすることtt Lに
効果的なグリース供給作業を行うこと及びそれによって
、特に高い精度を供給されるXYスデーシの精度及び制
御性等を安定化した露光装置を得ること目的とする。
効果的なグリース供給作業を行うこと及びそれによって
、特に高い精度を供給されるXYスデーシの精度及び制
御性等を安定化した露光装置を得ること目的とする。
[課題を解決するだめの手段]
本発明に係る露光装置では、所定の駆動信号に従って可
動部を駆動してマスクに形成されたパターンを感光基板
に露光する露光装置において、前記可動部の摺面部分に
グリースを補充するための注入孔が設けられ。
動部を駆動してマスクに形成されたパターンを感光基板
に露光する露光装置において、前記可動部の摺面部分に
グリースを補充するための注入孔が設けられ。
該注入孔を介して前記可動部に対して所定量のグリース
を供給するグリース供給手段と。
を供給するグリース供給手段と。
前記露光装置の所定の動作に関連してグリース供給指令
信号を前記グリース供給手段に与える制御手段とを備え
たものである。
信号を前記グリース供給手段に与える制御手段とを備え
たものである。
本発明てはXYステージの送りネジ部に設りだグリース
補充用の穴部と、露光装置の内部或いは外部に設置した
グリース供給手段との間を常時グリース注入用のチュー
ブで接続するようにした。
補充用の穴部と、露光装置の内部或いは外部に設置した
グリース供給手段との間を常時グリース注入用のチュー
ブで接続するようにした。
更に具体的には、前述の可動部は感光基板を載置して水
平面内で移動可能なステージてあり、前述の制御手段は
、所定時間、前記露光装置の積算稼動時間、前記感光基
板の処理枚数、及び前記ステージの積算移動距離のうち
の少なくとも1つに基ついて前記グリース供給指令信号
を与えるものである。
平面内で移動可能なステージてあり、前述の制御手段は
、所定時間、前記露光装置の積算稼動時間、前記感光基
板の処理枚数、及び前記ステージの積算移動距離のうち
の少なくとも1つに基ついて前記グリース供給指令信号
を与えるものである。
[作用]
本発明においては、所定の駆動信号に従って可動部を駆
動してマスクに形成されたパターンな感光基板に露光す
る露光装置において、前記可動部の摺面部分にグリース
を補充するための注入孔か設けられ、該注入孔を介して
前記可動部に対して所定量のグリースを供給するグリー
ス供給手段 −と1前記露光装置の所定の動作に関
連してグリ−ス供給指令信号を前記グリース供給手段に
与える制御手段とを備えたものであるため、グリース供
給手段か作動ずれは、露光装置木杯の運転を停止するこ
となしに、露光装置の可動部例えは感光基板を移送する
移送手段の滑りネジやXYステージの送りネジ部等に自
動的にグリースの補充を行うことかてぎるようになる。
動してマスクに形成されたパターンな感光基板に露光す
る露光装置において、前記可動部の摺面部分にグリース
を補充するための注入孔か設けられ、該注入孔を介して
前記可動部に対して所定量のグリースを供給するグリー
ス供給手段 −と1前記露光装置の所定の動作に関
連してグリ−ス供給指令信号を前記グリース供給手段に
与える制御手段とを備えたものであるため、グリース供
給手段か作動ずれは、露光装置木杯の運転を停止するこ
となしに、露光装置の可動部例えは感光基板を移送する
移送手段の滑りネジやXYステージの送りネジ部等に自
動的にグリースの補充を行うことかてぎるようになる。
後述する実施例のグリース供給手段は、具体的にはグリ
ースポンプ、定量弁7供給デユープから構成され、この
グリースポンプと定月1弁の開閉とをシーケンサか制御
しCいる。グリースポンプは常時グリース供給に充分な
圧力(10〜+5Jf/c+n2)て定量弁に対してグ
リースの送出を行う。
ースポンプ、定量弁7供給デユープから構成され、この
グリースポンプと定月1弁の開閉とをシーケンサか制御
しCいる。グリースポンプは常時グリース供給に充分な
圧力(10〜+5Jf/c+n2)て定量弁に対してグ
リースの送出を行う。
定量弁はシーケンサから1回指令が来るごとに任意の一
定微小量だけグリースを通過させる機能を持つ。シーケ
ンサは制御手段から一すえられるグリース供給指令信号
を受り、グリースポンプ、定量弁の作動コントロールを
行う。
定微小量だけグリースを通過させる機能を持つ。シーケ
ンサは制御手段から一すえられるグリース供給指令信号
を受り、グリースポンプ、定量弁の作動コントロールを
行う。
また、制御手段の具体的な例としては、Jl富露光装置
本体のメインコントローラは被露光物の感光基板(例え
ばウェハ)の処理枚数を苓にモニターしており、処理枚
数か一定数に達した[11点てグリース供給手段内のシ
ーケンサに作動化ちを発するように設定してもよく、−
口の処理枚数かある程度法まっている場合には、稼動時
間を積算する積算タイマーで行ってもよい。
本体のメインコントローラは被露光物の感光基板(例え
ばウェハ)の処理枚数を苓にモニターしており、処理枚
数か一定数に達した[11点てグリース供給手段内のシ
ーケンサに作動化ちを発するように設定してもよく、−
口の処理枚数かある程度法まっている場合には、稼動時
間を積算する積算タイマーで行ってもよい。
更により簡単に、露光装置本体のメインコントローラを
接続するようなシステムを取らす、シーケンサに外部ス
イッチ(露光装置外部、あるいはクリーンルーム外部に
設置する)をイqけて、決まった時間に人手にj:って
スイッチを押すことににってグリース供給指令を与える
ような簡i1j 7jシステムを組んてもよい。
接続するようなシステムを取らす、シーケンサに外部ス
イッチ(露光装置外部、あるいはクリーンルーム外部に
設置する)をイqけて、決まった時間に人手にj:って
スイッチを押すことににってグリース供給指令を与える
ような簡i1j 7jシステムを組んてもよい。
また、個々のグリース供給箇所へのグリースの供給量や
供給時期もシーケンサによって、個々に制御を行っても
にい。この■i’7、露光装置本体のメインコントロー
ラには、各可動部の移動Wト1加か予め設定されている
ので、この移動距離を積算することにより、最適なグリ
ース供給量や供給[1,11期を判断て各る。
供給時期もシーケンサによって、個々に制御を行っても
にい。この■i’7、露光装置本体のメインコントロー
ラには、各可動部の移動Wト1加か予め設定されている
ので、この移動距離を積算することにより、最適なグリ
ース供給量や供給[1,11期を判断て各る。
こうい−)た作用ににって、XYステージは當に安定し
たグリースイj(給を受りることかてぎるようになり、
グリースの劣化もなく、結果的に安疋した制御性を示す
ことかできるようになる。
たグリースイj(給を受りることかてぎるようになり、
グリースの劣化もなく、結果的に安疋した制御性を示す
ことかできるようになる。
[実施例]
第1図は本発明の一実施例の構成を示す説明図である。
図において、グリース供給手段(lO)はグリースポン
プ(11)、定量弁(12)、及び供給チューブ(17
a) (17b) (18)から構成され、これらグリ
ースポンプ(11)の駆動と定量弁(12)の開閉とを
シーケンサ(13)が制御している。グリースポンプ(
11)と定量弁(12)はグリース注入用の供給デユー
プ(18)で接続されており、更に定量弁(12)とX
Yステージ(19)のxIlll送りネジ(15)のグ
リース汀人孔か供給チューブ(17a) 、同しくY軸
送りネジ(16)のクリースン主入子しかf共給デユー
プ(17b) で接糸光されている。グリースポンプ(
illは餡時グリースの供給に充分な圧力(I O〜I
5 kgf/cm2)て定量弁(12)によってグリ
ースの送出を行う。
プ(11)、定量弁(12)、及び供給チューブ(17
a) (17b) (18)から構成され、これらグリ
ースポンプ(11)の駆動と定量弁(12)の開閉とを
シーケンサ(13)が制御している。グリースポンプ(
11)と定量弁(12)はグリース注入用の供給デユー
プ(18)で接続されており、更に定量弁(12)とX
Yステージ(19)のxIlll送りネジ(15)のグ
リース汀人孔か供給チューブ(17a) 、同しくY軸
送りネジ(16)のクリースン主入子しかf共給デユー
プ(17b) で接糸光されている。グリースポンプ(
illは餡時グリースの供給に充分な圧力(I O〜I
5 kgf/cm2)て定量弁(12)によってグリ
ースの送出を行う。
ここて、露光装置本体のメインコントローラ(14)に
おいてカウントしているウェハの処理枚数か設定枚数に
達すると、グリース供給手段(10)内のシーケンサ(
13)に指令が与えられ、定量弁(12)を数回たり作
動し、XYステージ(19)のX軸の送りネジ部(15
)、X軸の送りネジ部(16)に所定量のグリースか供
給されることになる。
おいてカウントしているウェハの処理枚数か設定枚数に
達すると、グリース供給手段(10)内のシーケンサ(
13)に指令が与えられ、定量弁(12)を数回たり作
動し、XYステージ(19)のX軸の送りネジ部(15
)、X軸の送りネジ部(16)に所定量のグリースか供
給されることになる。
第2図は本発明の別の実施例の構成を示す説明図である
。図に示す通り、グリース供給手段(20)はグリース
ポンプ(21)、 X軸足量弁(22a) 、 Y軸足
量弁(22b) 、及び供給デユープ(28a) (2
8b)(27a) (27b)から構成され、これらグ
リースポンプ(21)と各定量弁(22a) (22b
)とをシーケンサ(23)か制御している。グリースポ
ンプ(21)とX軸足量弁、Y軸足量弁はグリース注入
用の供給チューブ(28a) (28b)で接続されて
おり、X軸足量弁(22a)とXYステージのX軸送り
ネジ(25)、Y軸足量弁(22b) とY軸送りネジ
(26)かやはり供給チj、−ブ(27a) (27b
)て接続されている。ここて、露光装置本体のメインコ
ン1−ローラ(24)においてカウントしているウェハ
の処理枚数か設定枚数に達すると、グリース供給手段内
のシーケンサ(23)に指令かりえられ、各定411介
(22a)(22b)が所定回たけ作動し、xYスプー
ンのX軸の送りネジ部(25)、X軸の送りネジ部(2
1i)にグリースが供給さJすることにt2る。第3図
は第2図の実施例の制御−1−程の流れの一実施例を示
したフロー図である。
。図に示す通り、グリース供給手段(20)はグリース
ポンプ(21)、 X軸足量弁(22a) 、 Y軸足
量弁(22b) 、及び供給デユープ(28a) (2
8b)(27a) (27b)から構成され、これらグ
リースポンプ(21)と各定量弁(22a) (22b
)とをシーケンサ(23)か制御している。グリースポ
ンプ(21)とX軸足量弁、Y軸足量弁はグリース注入
用の供給チューブ(28a) (28b)で接続されて
おり、X軸足量弁(22a)とXYステージのX軸送り
ネジ(25)、Y軸足量弁(22b) とY軸送りネジ
(26)かやはり供給チj、−ブ(27a) (27b
)て接続されている。ここて、露光装置本体のメインコ
ン1−ローラ(24)においてカウントしているウェハ
の処理枚数か設定枚数に達すると、グリース供給手段内
のシーケンサ(23)に指令かりえられ、各定411介
(22a)(22b)が所定回たけ作動し、xYスプー
ンのX軸の送りネジ部(25)、X軸の送りネジ部(2
1i)にグリースが供給さJすることにt2る。第3図
は第2図の実施例の制御−1−程の流れの一実施例を示
したフロー図である。
第4図は本発明の更に別の実施例の構成を示す説明図で
ある。グリース供給手段はグリースポンプ(41)、定
量弁(42a) (42h) 、及び供給デユープから
構成され、これらグリースポンプ(41)ど各定量弁(
42a) (42b)とを各シーケン”)(43a)
(43b)か制御している。第2図に示した実施例と相
違するところは、シーケンサ(43a) (43b)が
xYスデーシ(図示せず)のXY各輔の送りネジ(45
) (46)に対して独立に存在することである。
ある。グリース供給手段はグリースポンプ(41)、定
量弁(42a) (42h) 、及び供給デユープから
構成され、これらグリースポンプ(41)ど各定量弁(
42a) (42b)とを各シーケン”)(43a)
(43b)か制御している。第2図に示した実施例と相
違するところは、シーケンサ(43a) (43b)が
xYスデーシ(図示せず)のXY各輔の送りネジ(45
) (46)に対して独立に存在することである。
通常、本露光装置に使用しているようなXYステージに
ついていは、X軸、Y軸の送りネジ(45)(46)の
使用頻度・走行距離は互いに相違している。各送りネジ
(45) (46)の安定した走行に必要なグリース供
給量は当然各送りネジの使用頻度・走行距離に応じて変
わるへきものである。本実施例及び前述の実施例で示し
た定量弁は、シーケンサからの指令1回あたり一定量の
グリースを通過させるだけでなく、その通過量をもある
程度任意に設定てぎる。しかし、XY各軸の送りネジに
対しより効率の高い潤滑を行なうためには、X−Y各軸
の定量弁に対しそれぞれ個別に動作指令回数を与えられ
るように個別のシーケンサ(43a) (43b)をX
−Y各軸に独立に用意した。
ついていは、X軸、Y軸の送りネジ(45)(46)の
使用頻度・走行距離は互いに相違している。各送りネジ
(45) (46)の安定した走行に必要なグリース供
給量は当然各送りネジの使用頻度・走行距離に応じて変
わるへきものである。本実施例及び前述の実施例で示し
た定量弁は、シーケンサからの指令1回あたり一定量の
グリースを通過させるだけでなく、その通過量をもある
程度任意に設定てぎる。しかし、XY各軸の送りネジに
対しより効率の高い潤滑を行なうためには、X−Y各軸
の定量弁に対しそれぞれ個別に動作指令回数を与えられ
るように個別のシーケンサ(43a) (43b)をX
−Y各軸に独立に用意した。
このような構成をとることによって、Y軸には全くグリ
ース供給を行なわすx!l1IIIのみに供給すること
も可能となり、その逆も可能となる。第5図は第4図の
実施例の制御工程の流れの一実施例を示したフロー図で
ある。
ース供給を行なわすx!l1IIIのみに供給すること
も可能となり、その逆も可能となる。第5図は第4図の
実施例の制御工程の流れの一実施例を示したフロー図で
ある。
前述までの実施例では、ウェハの処理枚数に応して、グ
リース併給を行なう方法を示したか、他の制御手段とし
ては、メインコントローラで予め設定されている各可動
部の移動距離を積算して最適なグリース供給量や供給時
期を判断することもできる。また、l 1]当りの感光
基板の処理枚数かある程度法まっている場合には、露光
装置本体のメインコントローラで予め設定されている露
光装置の積算稼動時間てもグリースイ1+、給時期を同
断可能であり、より簡便には、露光装置本体の運転時間
に応じて(例えば、12時間に1回、2日に1回等)グ
リースイノ(給を行なっても良い。
リース併給を行なう方法を示したか、他の制御手段とし
ては、メインコントローラで予め設定されている各可動
部の移動距離を積算して最適なグリース供給量や供給時
期を判断することもできる。また、l 1]当りの感光
基板の処理枚数かある程度法まっている場合には、露光
装置本体のメインコントローラで予め設定されている露
光装置の積算稼動時間てもグリースイ1+、給時期を同
断可能であり、より簡便には、露光装置本体の運転時間
に応じて(例えば、12時間に1回、2日に1回等)グ
リースイノ(給を行なっても良い。
第6図は更に別の実施例の構成を示す説明図である。本
実施例の場合は、各シーケンサ(63a)(63b)
と露光装置本体のメインコントローラを接続するよう
なシステムを取らず、各シーケンサ(63a) (53
b)に外部スイッチ(70) (露光装置外部、あるい
はクリーンルーム外部に設置する)をイ」けて、決まっ
た時間に人手によって外部スイッチ(70)を押すこと
によってグリース供給指令を与えるような簡単なシステ
ムを組んでもよい。
実施例の場合は、各シーケンサ(63a)(63b)
と露光装置本体のメインコントローラを接続するよう
なシステムを取らず、各シーケンサ(63a) (53
b)に外部スイッチ(70) (露光装置外部、あるい
はクリーンルーム外部に設置する)をイ」けて、決まっ
た時間に人手によって外部スイッチ(70)を押すこと
によってグリース供給指令を与えるような簡単なシステ
ムを組んでもよい。
更にこの場合には、各送りネジ(65) (66)とx
Y軸との摺面部分や送りネジのグリース溜りに溜った古
いグリースを取り除くときには、外部スイッチ(70)
を多数回作動させることにより、古いグリースを押出す
ような使い方も可能となる。
Y軸との摺面部分や送りネジのグリース溜りに溜った古
いグリースを取り除くときには、外部スイッチ(70)
を多数回作動させることにより、古いグリースを押出す
ような使い方も可能となる。
また、前述の各実施例ではグリースは開放系の場合を示
したが、送りネジ部を密閉式として、供給されたグリー
スによって押し出される古いグリースの逃げを設けた密
閉式の場合も同様に作用することは言うまでもない。尚
、以上の各実施例ではXYステージを例に挙げて説明を
行ったが、本発明は露光装置の全ての可動部に対して全
く同様に適用できることは言うまでもない。この際、グ
リース供給のタイミングは各可動部の使用状態、必要な
移動頻度等に応じて適宜定めてやれば良い。
したが、送りネジ部を密閉式として、供給されたグリー
スによって押し出される古いグリースの逃げを設けた密
閉式の場合も同様に作用することは言うまでもない。尚
、以上の各実施例ではXYステージを例に挙げて説明を
行ったが、本発明は露光装置の全ての可動部に対して全
く同様に適用できることは言うまでもない。この際、グ
リース供給のタイミングは各可動部の使用状態、必要な
移動頻度等に応じて適宜定めてやれば良い。
[発明の効果]
本発明は以上説明したとおり、所定の駆動信号に従って
可動部を駆動してマスクに形成されたパターンを感光基
板に露光する露光装置において;前記可動部の摺面部分
にグリースを補充するための注入孔が設けられ、該注入
孔を介して前記可動部に対して所定量のグリースを供給
するグリース供給手段と:前記露光装置の所定の動作に
関連してグリース供給指令信号を前記グリース供給手段
に与える制御手段とを備えたものであるため、グリース
供給手段が作動すれは、露光装置本体の運転を停止する
ことなしに、露光装置の可動部例えば感光基板を移送す
る移送手段の滑りネジやXYステージの送りネジ部等に
自動的にグリースの補充を行うことかできるようになり
、結果的に露光ノ 装置のXYステージや感光基板の移送手段等の可動部等
の安定性や制御性が保証できるようになり、高い精度が
達成されることとなる。また、グリース交換に伴う装置
内への異物の混入までも大幅に低減でき、例えば感光基
板上への異物のイ」着による歩留りの低下を防止できる
。更に、本発明では可動部のグリースを一度に全部交換
するのではなく、一定時間毎に所定量ずつグリースを供
給しているため、特にグリース供給後に可動部を新しい
グリースに馴染ませる時間を必要とせず、従ってスルー
ブツトの低下を[防止することか−Cきる。
可動部を駆動してマスクに形成されたパターンを感光基
板に露光する露光装置において;前記可動部の摺面部分
にグリースを補充するための注入孔が設けられ、該注入
孔を介して前記可動部に対して所定量のグリースを供給
するグリース供給手段と:前記露光装置の所定の動作に
関連してグリース供給指令信号を前記グリース供給手段
に与える制御手段とを備えたものであるため、グリース
供給手段が作動すれは、露光装置本体の運転を停止する
ことなしに、露光装置の可動部例えば感光基板を移送す
る移送手段の滑りネジやXYステージの送りネジ部等に
自動的にグリースの補充を行うことかできるようになり
、結果的に露光ノ 装置のXYステージや感光基板の移送手段等の可動部等
の安定性や制御性が保証できるようになり、高い精度が
達成されることとなる。また、グリース交換に伴う装置
内への異物の混入までも大幅に低減でき、例えば感光基
板上への異物のイ」着による歩留りの低下を防止できる
。更に、本発明では可動部のグリースを一度に全部交換
するのではなく、一定時間毎に所定量ずつグリースを供
給しているため、特にグリース供給後に可動部を新しい
グリースに馴染ませる時間を必要とせず、従ってスルー
ブツトの低下を[防止することか−Cきる。
第1図は本発明の一実施例の構成を示す説明図、第2図
は本発明の別の実施例の構成を示−・j−説明図、第3
図は第2図の実施例の制御丁イ?の流れを示したフロー
図、第4図は本発明の更に別の実施例の構成を示す説明
図、第5図は第4図の実施例の制御工程の流れを示した
フロー図、第6図は更に別の実施例の構成を示す説明図
である。 [主要部分の符号の説明] (II) (21) (4+) (61) グリース
ポンプ(12) (22a) (22b) (42a)
(42b) (52a) (62b) :定量弁(1
3) (23) (43a) (43b) (63a)
(53b) シーケンサ(14) (N) (N)
装置本体のメインコントローラ(15) (25)
(45) (65) ステージX軸送りネジ部(1
6) (26) (46) (66) ステージYI
Nl送りネジ部(17a)(17b)(27a)(27
b)(ia)(47b)(67a)(67b)イノ支給
チューブ(送りネジ・定量弁間) (18a) (18b)(28a)(28b)(48a
) (48b)(fi8a) (68b)供給チーI2
−ブ(定量弁・ポンプ間) (19) : X Yスデーシ (10) (20) (40) (u) グリース供
給下段(70) 外部スイッチ
は本発明の別の実施例の構成を示−・j−説明図、第3
図は第2図の実施例の制御丁イ?の流れを示したフロー
図、第4図は本発明の更に別の実施例の構成を示す説明
図、第5図は第4図の実施例の制御工程の流れを示した
フロー図、第6図は更に別の実施例の構成を示す説明図
である。 [主要部分の符号の説明] (II) (21) (4+) (61) グリース
ポンプ(12) (22a) (22b) (42a)
(42b) (52a) (62b) :定量弁(1
3) (23) (43a) (43b) (63a)
(53b) シーケンサ(14) (N) (N)
装置本体のメインコントローラ(15) (25)
(45) (65) ステージX軸送りネジ部(1
6) (26) (46) (66) ステージYI
Nl送りネジ部(17a)(17b)(27a)(27
b)(ia)(47b)(67a)(67b)イノ支給
チューブ(送りネジ・定量弁間) (18a) (18b)(28a)(28b)(48a
) (48b)(fi8a) (68b)供給チーI2
−ブ(定量弁・ポンプ間) (19) : X Yスデーシ (10) (20) (40) (u) グリース供
給下段(70) 外部スイッチ
Claims (2)
- (1)所定の駆動信号に従って可動部を駆動してマスク
に形成されたパターンを感光基板に露光する露光装置に
おいて、 前記可動部の摺面部分にグリースを補充するための注入
孔が設けられ; 該注入孔を介して前記可動部に対して所定量のグリース
を供給するグリース供給手段と;前記露光装置の所定の
動作に関連してグリース供給指令信号を前記グリース供
給手段に与える制御手段とを備えたことを特徴とする露
光装置。 - (2)前記可動部は、前記感光基板を載置して水平面内
で移動可能なステージであり、 前記制御手段は、所定時間、前記露光装置の積算稼動時
間、前記感光基板の処理枚数、及び前記ステージの積算
移動距離のうちの少なくとも1つに基づいて前記グリー
ス供給指令信号を与えることを特徴とする前記請求項1
に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2304042A JPH04177716A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2304042A JPH04177716A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04177716A true JPH04177716A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17928354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2304042A Pending JPH04177716A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04177716A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006203175A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-08-03 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
CN100435276C (zh) * | 2004-12-22 | 2008-11-19 | 东京毅力科创株式会社 | 真空处理装置 |
JP2011029230A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置 |
JP2014105772A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Rinnai Corp | 電動式流量調節弁 |
JP2021042764A (ja) * | 2019-09-06 | 2021-03-18 | 川崎重工業株式会社 | 基板搬送装置の給脂装置 |
-
1990
- 1990-11-13 JP JP2304042A patent/JPH04177716A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006203175A (ja) * | 2004-12-22 | 2006-08-03 | Tokyo Electron Ltd | 真空処理装置 |
CN100435276C (zh) * | 2004-12-22 | 2008-11-19 | 东京毅力科创株式会社 | 真空处理装置 |
US7611124B2 (en) | 2004-12-22 | 2009-11-03 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
JP4588620B2 (ja) * | 2004-12-22 | 2010-12-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空処理装置 |
US8113487B2 (en) | 2004-12-22 | 2012-02-14 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
US8523138B2 (en) | 2004-12-22 | 2013-09-03 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus |
JP2011029230A (ja) * | 2009-07-21 | 2011-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置 |
JP2014105772A (ja) * | 2012-11-27 | 2014-06-09 | Rinnai Corp | 電動式流量調節弁 |
JP2021042764A (ja) * | 2019-09-06 | 2021-03-18 | 川崎重工業株式会社 | 基板搬送装置の給脂装置 |
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