JPH04177219A - 液晶表示装置およびそれに用いるマイクロレンズの形成方法 - Google Patents
液晶表示装置およびそれに用いるマイクロレンズの形成方法Info
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- JPH04177219A JPH04177219A JP2305560A JP30556090A JPH04177219A JP H04177219 A JPH04177219 A JP H04177219A JP 2305560 A JP2305560 A JP 2305560A JP 30556090 A JP30556090 A JP 30556090A JP H04177219 A JPH04177219 A JP H04177219A
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、プラスチックフィルム基板を用いた液晶表示
装置に関する。
装置に関する。
特開昭61−208080号公報には、赤、緑、青に着
色したマイクロレンズをガラス基板上に各画素毎に対応
して配置したカラー液晶表示装置が記載されており、該
マイクロレンズは、ゼラチン、カゼイン、ニカワ、紫外
線硬化型アクリル樹脂、紫外線硬化型スピロアセタール
樹脂、ポリイミド樹脂またはポリアミド樹脂を染色した
ものにより形成されている。
色したマイクロレンズをガラス基板上に各画素毎に対応
して配置したカラー液晶表示装置が記載されており、該
マイクロレンズは、ゼラチン、カゼイン、ニカワ、紫外
線硬化型アクリル樹脂、紫外線硬化型スピロアセタール
樹脂、ポリイミド樹脂またはポリアミド樹脂を染色した
ものにより形成されている。
一方、特開昭56−155920号公報により液晶表示
装置における基板としてプラスチックフィルムを用いる
ことも提案されている。
装置における基板としてプラスチックフィルムを用いる
ことも提案されている。
しかしながら、特開昭61−208080号公報の技術
において、ガラス基板のかわりにプラスチックフィルム
基板を使用することはできない。なんとなれば、特開昭
61−208080号公報の技術は、前記マイクロレン
ズ形成用材料を凸状に積層し、150〜350℃の高温
で30分〜1時間加熱処理することによりマイクロレン
ズを形成しなければならない。
において、ガラス基板のかわりにプラスチックフィルム
基板を使用することはできない。なんとなれば、特開昭
61−208080号公報の技術は、前記マイクロレン
ズ形成用材料を凸状に積層し、150〜350℃の高温
で30分〜1時間加熱処理することによりマイクロレン
ズを形成しなければならない。
このような高温熱履歴は、到底プラスチックフィルム基
板の耐えられるところではないからである。
板の耐えられるところではないからである。
したがって、従来技術においては、プラスチックフィル
ム上にマイクロレンズを形成するなどということは思い
もつかなかったのである。
ム上にマイクロレンズを形成するなどということは思い
もつかなかったのである。
本発明の目的は、プラスチックフィルム基板上にマイク
ロレンズを形成した液晶表示装置を提供する点にある。
ロレンズを形成した液晶表示装置を提供する点にある。
本発明は、透明電極層を有するプラスチックフィルム基
板同志を液晶層を介して対向配置してなる液晶表示装置
において、プラスチックフィルム基板上にマイクロレン
ズを有することを特徴とする液晶表示装置に関する。
板同志を液晶層を介して対向配置してなる液晶表示装置
において、プラスチックフィルム基板上にマイクロレン
ズを有することを特徴とする液晶表示装置に関する。
前記マイクロレンズは、ケイ素アルコキシド、金属アル
コキシドおよびこれと類似の結合をもつ化合物よりなる
群から選らばれた少くとも1種の化合物を主成分とする
ゲル状材料の焼成物であることが好ましい。
コキシドおよびこれと類似の結合をもつ化合物よりなる
群から選らばれた少くとも1種の化合物を主成分とする
ゲル状材料の焼成物であることが好ましい。
ケイ素アルコキシドは1式
%式%
(式中、R,〜R4はCH3,C2H5,C,H,。
C4Hg等のアルキル基であり、R1−R4は同一の基
でも異なった基でもよ い。) で表わされるものである。
でも異なった基でもよ い。) で表わされるものである。
金属アルコキシドは、前記式中のSiが金属、例えばT
iにおきかわった1式 %式% (式中R8〜R1については前記と同じ)を意味する。
iにおきかわった1式 %式% (式中R8〜R1については前記と同じ)を意味する。
また、これと類似の結合をもつ化合物とは、金属−酸素
−炭素の結合をもつ、いわゆる全翼有機化合物を意味す
る。
−炭素の結合をもつ、いわゆる全翼有機化合物を意味す
る。
また、前記マイクロレンズが着色されていてもよく、三
色に着色されておれば、必要に応じてカラーフィルタを
兼ねることもできる。前記着色は、ゲル状材料にイオン
発色団、染料、顔料等を添加することにより行う。
色に着色されておれば、必要に応じてカラーフィルタを
兼ねることもできる。前記着色は、ゲル状材料にイオン
発色団、染料、顔料等を添加することにより行う。
前記透明電極に接続した補助電極を有するタイプのもの
は、従来、その存在により開口率が低下し、明るさの低
下を招いていたが、本発明は、マイクロレンズの存在に
より、その欠点を解消できるので9本発明の効果が大い
に生かせるケースである。
は、従来、その存在により開口率が低下し、明るさの低
下を招いていたが、本発明は、マイクロレンズの存在に
より、その欠点を解消できるので9本発明の効果が大い
に生かせるケースである。
また、本発明の他の1つは、プラスチックフィルム基板
上のマイクロレンズ形成用個所のみをレジストして前記
プラスチックフィルム表面の撥水化処理を行い、レジス
トを除去後、請求項2記載のゲル状材料をマイクロレン
ズ形成用個所にのみ付着させ、ついでこれを焼成するこ
とを特徴とするプラスチックフィルム基板上のマイクロ
レンズの形成方法に関する。
上のマイクロレンズ形成用個所のみをレジストして前記
プラスチックフィルム表面の撥水化処理を行い、レジス
トを除去後、請求項2記載のゲル状材料をマイクロレン
ズ形成用個所にのみ付着させ、ついでこれを焼成するこ
とを特徴とするプラスチックフィルム基板上のマイクロ
レンズの形成方法に関する。
第4図には、マイクロレンズの着色方法を示す、これは
5前述のゲル状材料母材にイオン発色団材料を添加する
ことにより達成できる。例えば、Cr”+黄色、Co”
青、U1澄、CdSe赤などがイオン発色団と着色の関
係例モある。
5前述のゲル状材料母材にイオン発色団材料を添加する
ことにより達成できる。例えば、Cr”+黄色、Co”
青、U1澄、CdSe赤などがイオン発色団と着色の関
係例モある。
第4図の場合は、プラスチックフィルム基板3の表面を
フォトリソグラフィーによりマイクロレンズ形成用個所
にレジストパターンを形成し、フッ素プラズマ処理を行
った後(あるいは。
フォトリソグラフィーによりマイクロレンズ形成用個所
にレジストパターンを形成し、フッ素プラズマ処理を行
った後(あるいは。
カップリング剤としてSi系の溶液を塗布し、200℃
程度でベークする表面処理等の表面活性化処理で代替す
ることができる。)、例えばCr6 *を添加したガラ
ス前駆体を塗布する。黄色のガラス前駆体はレジストパ
ターンのあった個所にのみ付着する。これを焼成すると
、第4図(a)のように黄色のマイクロレンズ(Y)が
完成する。つぎに、第4図(b)で示すように0□プラ
ズマ処理により表面の発水性を解き、つぎに、第4図(
c)に示すように青のマイクロレンズ形成用個所にレジ
ストパターン31を形成する。以下、黄色のマイクロレ
ンズ(Y)と同様の方法で青色のマイクロレンズ(B)
を形成し〔第4図(d))、さらに同様にして赤色のマ
イクロレンズ(R)を形成する〔第4図(e)〕。
程度でベークする表面処理等の表面活性化処理で代替す
ることができる。)、例えばCr6 *を添加したガラ
ス前駆体を塗布する。黄色のガラス前駆体はレジストパ
ターンのあった個所にのみ付着する。これを焼成すると
、第4図(a)のように黄色のマイクロレンズ(Y)が
完成する。つぎに、第4図(b)で示すように0□プラ
ズマ処理により表面の発水性を解き、つぎに、第4図(
c)に示すように青のマイクロレンズ形成用個所にレジ
ストパターン31を形成する。以下、黄色のマイクロレ
ンズ(Y)と同様の方法で青色のマイクロレンズ(B)
を形成し〔第4図(d))、さらに同様にして赤色のマ
イクロレンズ(R)を形成する〔第4図(e)〕。
このように、マイクロレンズを着色すると、マイクロレ
ンズによりカラーフィルタを兼ねさせることもできるし
1着色の具合によりカラーフィルタと併用することもで
きる。マイクロレンズとカラーフィルタを兼用させれば
、工程のWIg!8化と光透過率の向上を計ることがで
きる。
ンズによりカラーフィルタを兼ねさせることもできるし
1着色の具合によりカラーフィルタと併用することもで
きる。マイクロレンズとカラーフィルタを兼用させれば
、工程のWIg!8化と光透過率の向上を計ることがで
きる。
TE01 (Si (QC2H,)4)に、15%モ
ルCsとエタノール希釈H20を加えて加水分解重合を
行う、Csは、硝酸セシウム(Cs NO,)をエチレ
ングリコールに溶解させ、規定量を与える。さらに表面
張力を減少させるためにジメチルフォルムアミド(DM
F)をくわえる。この時均−分散させるために超音波を
利用した。このガラス前駆体を80℃5時間以上熟成さ
せた。脱脂洗浄したPF基板3上にフォトリソグラフィ
ーによりマイクロレンズのレジストパターン21を東京
応化社製のノボラックである0FPR800により形成
し、フッ素ラジカルによる基板の表面改質を行った。こ
の処理により基板の臨界表面張力は20dyn/cn以
下に成り、超発水性を示した。次にし゛シスト剥離後、
前述の前駆体をスピンナーを用いて塗布し、仮焼きを行
いゲル溶媒を乾燥させた。塗布により表面改質を行って
ないところは、すなわちレジストのあったところのみに
ガラス前駆体が凝集する。
ルCsとエタノール希釈H20を加えて加水分解重合を
行う、Csは、硝酸セシウム(Cs NO,)をエチレ
ングリコールに溶解させ、規定量を与える。さらに表面
張力を減少させるためにジメチルフォルムアミド(DM
F)をくわえる。この時均−分散させるために超音波を
利用した。このガラス前駆体を80℃5時間以上熟成さ
せた。脱脂洗浄したPF基板3上にフォトリソグラフィ
ーによりマイクロレンズのレジストパターン21を東京
応化社製のノボラックである0FPR800により形成
し、フッ素ラジカルによる基板の表面改質を行った。こ
の処理により基板の臨界表面張力は20dyn/cn以
下に成り、超発水性を示した。次にし゛シスト剥離後、
前述の前駆体をスピンナーを用いて塗布し、仮焼きを行
いゲル溶媒を乾燥させた。塗布により表面改質を行って
ないところは、すなわちレジストのあったところのみに
ガラス前駆体が凝集する。
最後に、220℃程度で焼成固化すると透明なマイクロ
レンズ11が得られた。。
レンズ11が得られた。。
第2図に本発明の断面図を示す。図中11はマイクロレ
ンズ、7は補助電極を示す。拡散板1を通った光は、マ
イクロレンズ11によって屈折し、ITO部6を通過し
て液晶部9に達する。
ンズ、7は補助電極を示す。拡散板1を通った光は、マ
イクロレンズ11によって屈折し、ITO部6を通過し
て液晶部9に達する。
このとき画像信号に応じて液晶素子が回転し。
この透過光を制御する。マイクロレンズ11がない従来
例の場合には、透明電極6上に設けられた補助電極7に
よって光が遮られ画像が暗くなってしまう(第1図参照
)が、マイクロレンズ11を設けることにより光を屈折
させ入射光を完全に利用することができる。
例の場合には、透明電極6上に設けられた補助電極7に
よって光が遮られ画像が暗くなってしまう(第1図参照
)が、マイクロレンズ11を設けることにより光を屈折
させ入射光を完全に利用することができる。
ポリマーフィルムを基板(以下PF基板と称する)3と
する場合には、その耐熱性が240”C程度なので通常
のマイクロレンズ11(イオン交換法など)は用いるこ
とはできない。
する場合には、その耐熱性が240”C程度なので通常
のマイクロレンズ11(イオン交換法など)は用いるこ
とはできない。
第3図にマイクロレンズの作製方法を示す。
PF基板3上にフォトリソグラフィー法を用いて、マイ
クロレンズを作成する場所にレジスト21をマスクとし
て残し、他をフッ素プラズマにより表面改質を行った後
〔第3図(a)]、レジスト21を除去し〔第31ff
l (b) )ケイ素アルコキシド、金属アルコキシド
及びこれと類似の結合をもつ化合物を主体とするゲル状
材料を。
クロレンズを作成する場所にレジスト21をマスクとし
て残し、他をフッ素プラズマにより表面改質を行った後
〔第3図(a)]、レジスト21を除去し〔第31ff
l (b) )ケイ素アルコキシド、金属アルコキシド
及びこれと類似の結合をもつ化合物を主体とするゲル状
材料を。
所望とする個所に付着させ、焼成することでマイクロレ
ンズ11を形成するものである〔第3図(c))、曲率
により焦点距離を決定でき、またケイ素アルコキシド、
金属アルコキシド及びこれと類似の結合を持つ化合物を
主体とするゲル状材料の屈折率を調製するため、イオン
半径の大きい金属イオンをゲルに分散して屈折率と半球
形状により焦点深度を決定する。屈折率を大きくしたい
場合、ガラス前駆体作成時に、表1に示したイオン半径
の大きい材料を添加することで得られる。1例を挙げる
とCs+イオンを15モル%程度このガラス前駆体に入
れることで屈折率は1.8〜2.0のものが得られる。
ンズ11を形成するものである〔第3図(c))、曲率
により焦点距離を決定でき、またケイ素アルコキシド、
金属アルコキシド及びこれと類似の結合を持つ化合物を
主体とするゲル状材料の屈折率を調製するため、イオン
半径の大きい金属イオンをゲルに分散して屈折率と半球
形状により焦点深度を決定する。屈折率を大きくしたい
場合、ガラス前駆体作成時に、表1に示したイオン半径
の大きい材料を添加することで得られる。1例を挙げる
とCs+イオンを15モル%程度このガラス前駆体に入
れることで屈折率は1.8〜2.0のものが得られる。
表1 各種イオンのイオン半径と電子分極率次に印刷法
を用いてカラーフィルタ4を作製し、保護膜5としてア
クリル系樹脂をスピンナーをもちいて作製した。その上
に透明電極(JT○)6を1500人スパッタリング法
で作製しレジストを塗布して上下電極をパターニングす
る。
を用いてカラーフィルタ4を作製し、保護膜5としてア
クリル系樹脂をスピンナーをもちいて作製した。その上
に透明電極(JT○)6を1500人スパッタリング法
で作製しレジストを塗布して上下電極をパターニングす
る。
配線抵抗の低抵抗化のためにアルミニウムを1000人
をスパッタ法を用いて作成し、フォトリソグラフィー法
を用いてパターニングして、補助電極12を形成した。
をスパッタ法を用いて作成し、フォトリソグラフィー法
を用いてパターニングして、補助電極12を形成した。
ポリイミド系の配向剤を塗布し配向膜7を形成したのち
、ラビング処理を行う。スクリーン印刷法を用いてシー
ル剤(エポキシ系接着剤)印刷し、2枚の基板を張り合
わせたのち真空脱気して、液晶(メルク社製: Z L
l−2293)を注入した。注入口を接着剤で封止し
たのち、補償板9.偏光板2、拡散板1を張り合わせて
液晶ユニットを作成した。TAB法を用いて駆動回路に
実装した。この製品を従来品と比較したところ明るさが
20%程度向上したことが明らかになった。
、ラビング処理を行う。スクリーン印刷法を用いてシー
ル剤(エポキシ系接着剤)印刷し、2枚の基板を張り合
わせたのち真空脱気して、液晶(メルク社製: Z L
l−2293)を注入した。注入口を接着剤で封止し
たのち、補償板9.偏光板2、拡散板1を張り合わせて
液晶ユニットを作成した。TAB法を用いて駆動回路に
実装した。この製品を従来品と比較したところ明るさが
20%程度向上したことが明らかになった。
本発明により、今まで製造できなかった問題点を解決し
、プラスチックフィルム基板上にマイクロレンズを形成
することを可能とした。そのため、補助電極により開口
率が低くなっても。
、プラスチックフィルム基板上にマイクロレンズを形成
することを可能とした。そのため、補助電極により開口
率が低くなっても。
光透過率を低下させることがなくなった。
ガラス前駆体(ゲル)を用いることで、プラスチックフ
ィルム基板上のマイクロレンズのサイズ及び曲率が自由
に操作することが出来るので、任意の仕様が検討、設計
できる。工程中の高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶
融炉等を必要とせず、簡易なプロセスで、容易に作成が
可能になった。
ィルム基板上のマイクロレンズのサイズ及び曲率が自由
に操作することが出来るので、任意の仕様が検討、設計
できる。工程中の高温処理やイオン注入機、拡散炉、溶
融炉等を必要とせず、簡易なプロセスで、容易に作成が
可能になった。
マイクロレンズの曲率のみでは困難な焦点距離が必要と
なる場合、任意のイオン濃度添加ができる。また金属イ
オンの種類も、自由に選択できる。イオン交換法ではイ
オン半径が大きすぎると、溶融塩中でも拡散係数が小さ
くて目標値のモル%の含有が不可能な場合がある(溶融
塩中とは、例えばC1のイオン交換を行うときC1の硝
酸塩を600℃に加熱し溶融させてイオン交換を行うこ
とを指す。)。カラー化については、これも任意にその
イオン発色団が添加できる。さらにR(赤)、G(緑)
、B(青)などカラー化の形成プロセスでもカラーフィ
ルタ作成プロセスに変更を加えること無く行えるため、
多種のカラーマイクロレンズが同一基板に形成できた。
なる場合、任意のイオン濃度添加ができる。また金属イ
オンの種類も、自由に選択できる。イオン交換法ではイ
オン半径が大きすぎると、溶融塩中でも拡散係数が小さ
くて目標値のモル%の含有が不可能な場合がある(溶融
塩中とは、例えばC1のイオン交換を行うときC1の硝
酸塩を600℃に加熱し溶融させてイオン交換を行うこ
とを指す。)。カラー化については、これも任意にその
イオン発色団が添加できる。さらにR(赤)、G(緑)
、B(青)などカラー化の形成プロセスでもカラーフィ
ルタ作成プロセスに変更を加えること無く行えるため、
多種のカラーマイクロレンズが同一基板に形成できた。
マイクロレンズを着色して、カラーフィルタを省略する
ことができるので、工程の簡略化、構造の簡素化、コス
トの低下をはかることができた。
ことができるので、工程の簡略化、構造の簡素化、コス
トの低下をはかることができた。
第1図は、マイクロレンズを持たない従来型の液晶表示
装置の断面図、第2図は1本発明実施例の液晶表示装置
の断面図、第3図(a)。 (b) 、 (c) 、第4図(a)、(b)、(c
)(d)、(e)は、それぞれ本発明方法によりプラス
チックフィルム基板上にマイクロレンズを形成するため
の工程図である。 1・・・拡散板 2・・・偏光板3・・・プラ
スチックフィルム基板 4・・・カラーフィルター
装置の断面図、第2図は1本発明実施例の液晶表示装置
の断面図、第3図(a)。 (b) 、 (c) 、第4図(a)、(b)、(c
)(d)、(e)は、それぞれ本発明方法によりプラス
チックフィルム基板上にマイクロレンズを形成するため
の工程図である。 1・・・拡散板 2・・・偏光板3・・・プラ
スチックフィルム基板 4・・・カラーフィルター
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、透明電極層を有するプラスチックフィルム基板同志
を液晶層を介して対向配置してなる液晶表示装置におい
て、プラスチックフィルム基板上にマイクロレンズを有
することを特徴とする液晶表示装置。 2、前記マイクロレンズが、ケイ素アルコキシド、金属
アルコキシドおよびこれと類似の結合をもつ化合物より
なる群から選らばれた少くとも1種の化合物を主成分と
するゲル状材料の焼成物である請求項1記載の液晶表示
装置。 3、前記マイクロレンズが着色されている請求項1また
は2記載の液晶表示装置。 4、前記透明電極に接続した補助電極を有する請求項1
、2または3記載の液晶表示装置。 5、プラスチックフィルム基板上のマイクロレンズ形成
用個所のみをレジストして前記プラスチックフィルム表
面の発水化処理を行い、レジストを除去後、請求項2記
載のゲル状材料をマイクロレンズ形成用個所にのみ付着
させ、ついでこれを焼成することを特徴とするプラスチ
ックフィルム基板上のマイクロレンズの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305560A JPH04177219A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 液晶表示装置およびそれに用いるマイクロレンズの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2305560A JPH04177219A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 液晶表示装置およびそれに用いるマイクロレンズの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04177219A true JPH04177219A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17946625
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2305560A Pending JPH04177219A (ja) | 1990-11-09 | 1990-11-09 | 液晶表示装置およびそれに用いるマイクロレンズの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04177219A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5349453A (en) * | 1991-08-23 | 1994-09-20 | Sony Corporation | Liquid crystal display device with microlenses on same plane as switching elements |
KR19990080391A (ko) * | 1998-04-16 | 1999-11-05 | 김영환 | 액정 표시 소자 및 그의 제조방법 |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP2305560A patent/JPH04177219A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5349453A (en) * | 1991-08-23 | 1994-09-20 | Sony Corporation | Liquid crystal display device with microlenses on same plane as switching elements |
KR19990080391A (ko) * | 1998-04-16 | 1999-11-05 | 김영환 | 액정 표시 소자 및 그의 제조방법 |
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