JPH0417558Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、溶銑を鋳床において連続的に予備処
理する場合に用いる精錬剤投射装置に関する。

〔従来の技術〕

従来、高炉から排出される溶銑を連続的に予備
処理する場合に用いる精錬剤投射装置としては、
特開昭57−200510号公報に開示されている、ガス
を用いて精錬剤を加速する投射添加装置が知られ
ている。この装置の概要を第５図に示す。この装
置では、ガスを精錬剤投射時の加速用として使用
するだけでなく、投射位置（溶銑の下降流動域）
までの精錬剤の輸送手段として気流輸送を採用し
ている。

すなわち、精錬剤は一旦、密閉式のホツパ１３
に貯蔵し、加圧した後、水平および垂直の長距離
配管を介して投射位置まで気流輸送によつて輸送
される。このため、精錬剤の受入れはバツチ処理
となり、連続供給はできない。連続供給を行う場
合には複数のホツパ１３を備え、各ホツパ１３を
適宜切替えて使用する必要がある。

〔考案が解決しようとする問題点〕

従来技術では、精錬剤をホツパから投射場所へ
輸送するのに上述のような気流輸送を使用してい
るため、気流輸送特有の問題を回避することがで
きず、特に精錬剤のような比重が大きく、かつ、
摩耗性の大きい粉体を取扱う場合には問題が大き
くなる。これらの問題点を要約すれば、 精錬剤を投射場所まで気流輸送で輸送するの
で、輸送配管の曲り部や絞り部での摩耗が大き
くなり、維持経費が高くなる。

精錬剤を加速して溶銑に投射する以外に、精
錬剤を貯蔵ホツパから水平および垂直の長距離
配管を介して投射場所まで輸送するのにも気流
を使用するので、高圧、多量のガスを必要と
し、その経費は増大する。

気流輸送可能な粒度の精錬剤以外は使用でき
ない。

精錬剤を一時的に貯蔵するホツパを耐圧構造
に構成する必要があり設備費の高騰を招く。

反応界面においては出来るだけ広範囲に精錬
剤を投射することが反応効率向上に有効である
が、精錬剤の輸送管は円管であるので投射位置
で精錬剤を均一に分散させることが困難であ
る。

本考案は上述の問題点を解決するために提案さ
れたものであり、使用する精錬剤の粒径に大きな
制限なく、設備および運用経費の安い精錬剤投射
装置を提供することを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は上述の問題点を解決するもので、溶銑
を連続予備処理する精錬剤投射装置に適用され、
次の技術手段を採つた。すなわち、 精錬剤を一時的に貯蔵する大気開放式ホツパの
下部に、重力により精錬剤を下方に落下させる切
出し手段を備え、切出し手段の鉛直下方に直結さ
れ切出し手段から排出された精錬剤を加速して溶
銑中に吹込むガス投射手段を併用するとともに、
切出し手段に圧力シール機能を備えた。

〔作用〕

本考案は、精錬剤を投射地点まで輸送する機能
と、精錬剤を溶銑中に投射するのに必要な運動の
エネルギーを付与する機能と分離するとともに、
精錬剤の投入に重力とガス吹込みエネルギーを併
用することにより、上述の問題点の解決を図るも
のである。すなわち、 投射位置までの精錬剤の輸送は、ベルトコン
ベア、パイプコンベア等の機械的な輸送手段を
採用することによつて動力費および維持経費を
低減することができると同時に精錬剤の粒度に
対する制限を殆ど無くすることができる。

精錬剤の重力による自然落下のみでは、助走
距離を大きくする必要があり、また、最終速度
に限界があるので、自然落下エネルギーと吹込
みガスによる運動のエネルギーとを併用して効
率よく溶銑の予備処理を行なうことができる。

〔実施例〕

本考案の一実施例の縦断面図を第１図に示す。
本装置は、精錬剤を一時的に貯蔵する大気開放式
ホツパ１、重力を利用する精錬剤の切出し手段と
してホツパ１の下部に配設された圧力シール型ロ
ータリーバルブ２、ロータリーバルブ２の下部に
設けたインジエクシヨン室３、ガスの投射手段と
してインジエクシヨン室３に鉛直に直結された投
射管４および投射管４に加圧ガス（例えば、空気
や不活性ガス）を吹込むガス吹込口５などから構
成されている。

精錬剤の投射位置は、従来から行われているよ
うに溶銑の下降流動域とする。すなわち、上流側
溶銑樋６から下流側溶銑樋７への落下流８により
下流側溶銑樋７内に生じる下降流動域に投射す
る。具体的には落下流８の主流と下流側溶銑樋７
内の液面の交点近傍としている。

投射管４の断面は第３図ｂに示すような偏平形
状に形成されており、その長手方向の寸法は、下
流側溶銑樋７の幅寸法に合せているので、精錬剤
は下流側溶銑樋７内の全域に均一に投射すること
ができる。

精錬剤の粒度が比較的粗い場合には、ロータリ
ーバルブ２は第２図に示すような噛込み防止機構
を備えることが望ましい。第２図では、バルブを
矢印の方向に回転させて精錬剤を排出している。

また、ロータリーバルブ２に圧力シール機能を
備えたので、インジエクシヨン室３には負圧部を
設ける必要が無く、ガス吹込口５から吹込まれる
加圧ガスにより正圧状態となつて耐摩耗対策上最
も有利となるような構造を採ることができる。そ
の一例を第３図に示す。第３図はインジエクシヨ
ン室の詳細を示し、ガス吹込口５、ガイドベーン
９、シユート１０等から構成されている。加圧ガ
イドは左右のガイド吹込口５からガイドベーン９
とシユート１０の間を通つて投射管４へ導かれ
る。この時気流はコアンダ効果によつてガイドベ
ーン９から遊離することなくスムースに流れるこ
とができる。シユート１０を介して供給される精
錬剤はガイドベーン９上を流れる気流によりガイ
ドベーン９と直接衝突することなく集束されて投
射管４へ供給される。このようにして精錬剤は投
射管４を通過する間に重力およびガス気流によつ
て必要な速度まで加速され溶銑中に投射される。

第４図には、第１図に示す圧力シール機能を備
えたロータリーバルブ２の代りにボール弁１１お
よびダブルダンパ１２を用いた例を示している。
この装置では、より高圧のシールが可能であり精
錬剤の投射速度の向上を図ることができる。

〔考案の効果〕

本考案は次のような優れた効果を奏する。

精錬剤の輸送に気流輸送を用いる従来装置で
は、精錬剤の粒径が−１mm以下となると乾燥工
程を必要としていたが、本考案では粒径に制約
なく、通常のベルトコンベア、ホツパでハンド
リングできる程度の粒子であれば適用できると
いう利点がある。このような粒子の選択幅の拡
大は精錬剤コストの削減にも大きく寄与する。

気流輸送は鉛直な投射管部のみであるので、
摩耗部位が殆どなく、投射管インジエクシヨン
室の材料として安価な通常の炭素行鋼を使用す
ることが可能であり、また、精錬剤を一時的に
貯蔵するホツパは、大気圧開放下で連続供給で
きることから、従来装置に比べ非常に安価で簡
便な設備とすることができる。

気流輸送の部分が減少するので使用電力量を
従来の1/5以下に軽減できる。

精錬剤の切出しをロータリーバルブで行つて
いるので、ロータリーバルブ下部のインジエク
シヨン室および投射管を偏平角形にすることに
より、精錬剤の反応界面を容易に拡散させるこ
とができ、精錬反応の効率向上を図ることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第４図は本考案の一実施例の説明図で
あり、第１図は縦断面図、第２図は噛込み防止機
構を備えたロータリーバルブを適用した例、第３
図は他の実施例のインジエクシヨン室の詳細図で
あり、第３図ａは縦断面図、第３図ｂは第３図ａ
のＡ−Ａ矢視図、第４図は圧力シール機能として
ロータリーバルブの代りにボール弁およびダブル
ダンパを使用した例、第５図は従来例の説明図で
ある。 １……大気開放式ホツパ、２……ロータリーバ
ルブ、３……インジエクシヨン室、４……投射
管、５……ガス吹込口、６……上流側溶銑樋、７
……下流側溶銑樋、８……落下流、９……ガイド
ベーン、１０……シユート、１１……ボール弁、
１２……ダブルダンパ、１３……密閉式ホツパ。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 溶銑を連続予備処理する精錬剤投射装置におい
   て、 精錬剤を一時的に貯蔵する大気開放式ホツパの
   下部に、重力により精錬剤を下方に落下させる切
   出し手段を備え、該切出し手段の鉛直下方に直結
   され該切出し手段から排出された精錬剤を加速し
   て溶銑中に吹込むガス投射手段を併用するととも
   に、前記切出し手段に圧力シール機能を備えたこ
   とを特徴とする精錬剤投射装置。