JPH04174574A - Metallic-vapor laser device - Google Patents

Metallic-vapor laser device

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JPH04174574A
JPH04174574A JP30179090A JP30179090A JPH04174574A JP H04174574 A JPH04174574 A JP H04174574A JP 30179090 A JP30179090 A JP 30179090A JP 30179090 A JP30179090 A JP 30179090A JP H04174574 A JPH04174574 A JP H04174574A
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JP
Japan
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tube
wick
laser
metal vapor
laser light
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Application number
JP30179090A
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Japanese (ja)
Inventor
Ryoichi Otani
大谷 良一
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LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Toshiba Corp
Original Assignee
LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI, Toshiba Corp filed Critical LASER NOUSHIYUKU GIJUTSU KENKYU KUMIAI
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Abstract

PURPOSE:To obtain a desired wick performance and, at the same time, to reduce the laser light shielding amount of the wick by providing the wick formed by coating a tungsten material in a discharge tuber. CONSTITUTION:A heat insulating material 13 is put around the outer periphery of a ceramic tube 2 and a wick 20 is provided in the tube 2 by coating the inner surface of the tube 2 with a tungsten metal from a metallic vapor source 1 to the end section of the tube 2 in the axial direction. After the tube 2 is evacuated by actuating an evacuating system, a buffer gas Ne is supplied into the tube 2 through a gas supplying tube 3. Then plasma is produced in the tube 2 by actuating a pulsative high-voltage power source and the temperature of the plasma is raised to the temperature required for laser oscillation by means of the vapor source 1. Free electrons contained in the plasma are excited by the metallic vapor front the vapor source 1 and an inverted state is produced in the tube 2, resulting in the generation of laser light. The laser light adheres to the wick 20 after the power of the laser light is raised through a laser resonator. Since the wick 20 formed by coating the inner surface of the tube 2 is thin in thickness and does not shield the laser light, the output of this metallic- vapor laser device does not drop and highly efficient laser oscillation can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は金属蒸気レーザ装置に係り、特にレーサ光遮蔽
の少ないウィックを放電管に設けた金属蒸気レーザ装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a metal vapor laser device, and more particularly to a metal vapor laser device in which a discharge tube is provided with a wick that shields less laser light.

(従来の技術) 従来の金属蒸気レーザ装置は、例えば第3図に示すよう
に構成されている。すなわち、同図において、金属蒸気
源1が内部に配置されたセラミック管2の両端には、接
合部材2aを介して陽極4および陰極5が接続されて放
電管か形成されている。この放電管における陽極4およ
び陰極5には、それぞれ電極フランジ6が設けられてい
る。
(Prior Art) A conventional metal vapor laser device is configured as shown in FIG. 3, for example. That is, in the figure, an anode 4 and a cathode 5 are connected to both ends of a ceramic tube 2 in which a metal vapor source 1 is disposed via a joining member 2a, thereby forming a discharge tube. An anode 4 and a cathode 5 in this discharge tube are each provided with an electrode flange 6.

この電極フランジ6は上記した放電管を包囲する胴体9
および絶縁管10とブリュスタ管11との間に介在され
た電極支持フランジ7に取着固定されている。陽極4お
よび陰極5の各電極は、電極フランジ6を介して電極支
持フランジ7に固定されている。
This electrode flange 6 has a body 9 surrounding the discharge tube described above.
and is fixedly attached to the electrode support flange 7 interposed between the insulating tube 10 and the Brewster tube 11. Each of the anodes 4 and cathodes 5 is fixed to an electrode support flange 7 via an electrode flange 6.

セラミック管2および陽極4と陰極5の外周面は断熱材
13で包囲され、断熱材13の外部は胴体9および絶縁
管フランジ19を有する絶縁管10で覆われている。そ
れぞれの電極支持フランジ7には一対のブリュスタ管1
1が接続されており、このブリュスタ管11の開口部に
はそれぞれ窓12が取着され、これらの窓12の外側に
はaカミシー23と全反射ミラー14が配置され共振器
を形成している。
The outer peripheral surfaces of the ceramic tube 2, anode 4, and cathode 5 are surrounded by a heat insulating material 13, and the outside of the heat insulating material 13 is covered with an insulating tube 10 having a body 9 and an insulating tube flange 19. A pair of Brewster tubes 1 are attached to each electrode support flange 7.
A window 12 is attached to each opening of the Brewster tube 11, and an a-camisole 23 and a total reflection mirror 14 are arranged outside these windows 12 to form a resonator. .

第3図中において、左側に示されるブリュスタ管11に
は、例えばネオン(Ne)ガスを供給するガス供給管3
か接続され、また右側に示されるブリュスタ管11には
ガス排気管8が接続されている。左側の電極支持フラン
ジ7と絶縁管フランジ19との間には直流高電圧が印加
される。なお、同図中、符号15は充電コンデンサC1
,16は中間コンデンサC2,17は抵抗R118はサ
イラトロン、24はダイオードDをそれぞれ示している
In FIG. 3, the Brewster tube 11 shown on the left side has a gas supply tube 3 that supplies neon (Ne) gas, for example.
A gas exhaust pipe 8 is also connected to the Brewster tube 11 shown on the right. A high DC voltage is applied between the left electrode support flange 7 and the insulating tube flange 19. In addition, in the same figure, reference numeral 15 indicates charging capacitor C1.
, 16 is an intermediate capacitor C2, 17 is a resistor R118 is a thyratron, and 24 is a diode D, respectively.

上記の構成を有する金属蒸気レーザ装置では、次のよう
にしてレーザを発振する。
In the metal vapor laser device having the above configuration, laser oscillation is performed as follows.

まず、金属蒸気源1が内部に配置された放電管としての
セラミック管2内に、ガス供給管3から放電用バッファ
ガス、例えばネオンガスを供給する。次に、セラミック
管2の両端に設けられた陽極4と陰極5間に高電圧を印
加して、放電プラズマを形成する。この放電プラズマに
よりセラミック管2か高温に加熱されて、金属蒸気源1
からレーザ媒体となる蒸気化された金属粒子(金属蒸気
)か生成される。さらに、この金属蒸気はセラミック管
2内に拡散し、セラミック管2内の放電プラズマ中の自
由電子により励起される。この励起金属蒸気が低いエネ
ルギー準位に遷移する際にレーザ光を発振する。
First, a discharge buffer gas, such as neon gas, is supplied from the gas supply tube 3 into a ceramic tube 2 serving as a discharge tube in which a metal vapor source 1 is disposed. Next, a high voltage is applied between the anode 4 and cathode 5 provided at both ends of the ceramic tube 2 to form discharge plasma. This discharge plasma heats the ceramic tube 2 to a high temperature, and the metal vapor source 1
From this, vaporized metal particles (metal vapor) that become the laser medium are produced. Furthermore, this metal vapor diffuses into the ceramic tube 2 and is excited by free electrons in the discharge plasma within the ceramic tube 2. Laser light is emitted when this excited metal vapor transitions to a lower energy level.

上述したようにレーザ媒体となる金属蒸気の生成は、パ
ルス高電圧源を起動させて画電極4.5間に放電させ、
このパルス二極放電のエネルギーをセラミック管2に付
与して、このセラミック管2を加熱することにより行っ
ているか、例えば金属蒸気源1として銅を使用する場合
は、セラミック管2を常温から1500℃まで加熱して
いる。
As mentioned above, the generation of metal vapor that becomes the laser medium is achieved by activating a pulsed high voltage source and discharging it between the picture electrodes 4.5.
For example, when using copper as the metal vapor source 1, the ceramic tube 2 is heated from room temperature to 1500°C. It's heated up to.

(発明が解決しようとする課題) 上述したように、従来の金属蒸気レーザ装置では、セラ
ミック管2内に形成した放電プラズマの熱によってセラ
ミック管2内の金属蒸気源1を加熱し、レーザ発振に適
した金属蒸気量を発生させている。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional metal vapor laser device, the metal vapor source 1 in the ceramic tube 2 is heated by the heat of the discharge plasma formed in the ceramic tube 2, and the laser oscillation is prevented. A suitable amount of metal vapor is generated.

ところで、セラミック管2内の温度は放電プラズマによ
って上昇するが、これによって発生した熱の放散は断熱
材13を通過して外側へ放aされる径方向分の他に、ブ
リニスタ管11の開口部の窓12などから外側へ放電さ
れる軸方面分があり、セラミック管2内の温度は窓12
に向って急激に低下するため、その軸方向にも山形の分
布を持つ。
By the way, the temperature inside the ceramic tube 2 rises due to the discharge plasma, and the heat generated thereby is dissipated not only in the radial direction through the heat insulating material 13 and radiated outward, but also in the radial direction through the opening of the Blinister tube 11. There is an axial portion that is discharged outward from the window 12, etc., and the temperature inside the ceramic tube 2 is lower than the window 12.
Because it decreases rapidly toward , it also has a mountain-shaped distribution in the axial direction.

その結果、セラミック管2内に金属蒸気源1から発生し
た蒸気は、セラミック管2の軸方向の低温部に拡散して
付着する。この低温部に付着した金属を毛細管現象の作
用によって、金属蒸気源1に戻すためウィック20が用
いられている。ウィック20は金属蒸気が銅の場合、約
1000℃〜1500℃に加熱される他、高電圧放電下
で使用されるため、それに耐える強度が必要である。ま
た、溶融した金属を毛細管現象によって流通するための
構造が必要である。そのため、ウィック20は第4図に
示すように母材21と、母材21の内周側に設けた毛細
管部22とから構成されている。
As a result, the vapor generated from the metal vapor source 1 within the ceramic tube 2 diffuses and adheres to the low temperature portion of the ceramic tube 2 in the axial direction. A wick 20 is used to return the metal adhering to this low-temperature part to the metal vapor source 1 by the action of capillary action. When the metal vapor is copper, the wick 20 is heated to about 1000° C. to 1500° C. and is also used under high voltage discharge, so it needs to have the strength to withstand that. Additionally, a structure is required to allow the molten metal to flow through capillary action. Therefore, the wick 20 is composed of a base material 21 and a capillary tube portion 22 provided on the inner peripheral side of the base material 21, as shown in FIG.

このように、ある程度の強度と構造を有するウィック2
0をセラミック管2の内側に設けるため、レーザ光が遮
蔽され、レーザ出力が低下する。例えば、内径40mm
のレーザ管に2−の厚さのウィック20を第4図に示す
ように設置すると、レーザ出力が約20%も低下してし
まうという問題点があった。
In this way, the wick 2 has a certain degree of strength and structure.
0 is provided inside the ceramic tube 2, the laser light is blocked and the laser output is reduced. For example, inner diameter 40mm
When a wick 20 having a thickness of 2 mm was installed in a laser tube as shown in FIG. 4, there was a problem in that the laser output was reduced by about 20%.

そこで、本発明は上記事情を考慮してなされたもので、
その目的とするところは、所望のウィック性能が得られ
、且っレーザ光の遮蔽が少ない金属蒸気レーザ装置を提
供することにある。
Therefore, the present invention has been made in consideration of the above circumstances.
The purpose is to provide a metal vapor laser device that can obtain desired wick performance and has less shielding of laser light.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(課題を解決するための手段) 上記の目的を達成するために、本発明にあっては、内側
に金属蒸気を生成する金属蒸気源が配置された放電管を
放電加工してレーザ光を発生させる金属蒸気レーザ装置
において、上記放電管の内側にタングステン材料をコー
ティングしたウィックを設けたことを特徴とする。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve the above object, the present invention generates laser light by electrical discharge machining a discharge tube in which a metal vapor source that generates metal vapor is arranged. The metal vapor laser device is characterized in that a wick coated with tungsten material is provided inside the discharge tube.

(作用) 上記の構成を有する本発明においては、放電管にバッフ
ァガスを導入して放電を開始すると、プラズマが生起さ
れて放電管の温度は次第に上昇する。やがて金属蒸気源
が金属蒸気を生成し得る温度に達すると、放電管内に金
属蒸気が一様に分布する。この金属蒸気にプラズマ中の
自由電子が衝突して金属蒸気が励起され、放電管内は反
転分布の状態になりレーザ光が発生する。
(Function) In the present invention having the above configuration, when a buffer gas is introduced into the discharge tube and discharge is started, plasma is generated and the temperature of the discharge tube gradually rises. When the metal vapor source eventually reaches a temperature at which it can generate metal vapor, the metal vapor is uniformly distributed within the discharge tube. Free electrons in the plasma collide with this metal vapor to excite the metal vapor, creating a state of population inversion inside the discharge tube and generating laser light.

ここで、放電管内の金属蒸気はコーティングされたタン
グステン金属製のウィックに付着し、ウィック表面の凹
凸による毛細管現象によって金属蒸気源に移送される。
Here, the metal vapor within the discharge tube adheres to the coated tungsten metal wick and is transported to the metal vapor source by capillary action due to the unevenness of the wick surface.

したがって、放電管内側にウィックをコーティングした
ため、発振したレーザ光はウィックにより、遮蔽されず
高いレーサ出力が得られる。そして、セラミックにコー
ティングされているウィックは放電管の強度によって破
損されることもない。
Therefore, since the inside of the discharge tube is coated with the wick, the oscillated laser light is not blocked by the wick and a high laser output can be obtained. Furthermore, the ceramic-coated wick will not be damaged by the strength of the discharge tube.

(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図および第2図を参照し
て説明する。
(Example) An example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 and 2.

なお、従来の構成と同一または対応する部分には第3図
と同一の符号を用いて説明する。
Note that the same reference numerals as in FIG. 3 will be used to describe parts that are the same as or correspond to the conventional configuration.

第1図において、金属蒸気レーザ装置には放電管として
のセラミック管2か設けられ、このセラミック管2の両
端部には接続部2aを介して陽極4および陰極5か対向
して接続されている。これらの電極4.5間でパルス二
次放電か行われる。
In FIG. 1, the metal vapor laser device is provided with a ceramic tube 2 as a discharge tube, and an anode 4 and a cathode 5 are connected to opposite ends of the ceramic tube 2 via connecting portions 2a. . A pulsed secondary discharge takes place between these electrodes 4.5.

セラミック管2の外周には断熱材13か配置され、その
外周には金属製の胴体9か配置されている。
A heat insulating material 13 is arranged around the outer periphery of the ceramic tube 2, and a metal body 9 is arranged around the outer periphery.

また、セラミック管2の内側には金属蒸気源1からセラ
ミック管2の軸方向端部にかけてタングステン金属がコ
ーティングされたウィック20を設けである。この場合
、タングステン金属はセラミック管2の内側に溶射、蒸
着または粉末を塗布することにより、コーティングして
いる。
Furthermore, a wick 20 coated with tungsten metal is provided inside the ceramic tube 2 from the metal vapor source 1 to the axial end of the ceramic tube 2 . In this case, tungsten metal is coated on the inside of the ceramic tube 2 by thermal spraying, vapor deposition or powder application.

セラミック管2の両端部の電極外側には一対のブリュス
タ管11が接続され、左側のブリュスタ管11にはガス
供給系に接続されたガス供給管3が、また右側のブリュ
スタ管11にはガス排気系に接続されたガス排気管8が
それぞれ設けられている。ガス供給管3はセラミック管
2内にネオンガス等の放電用バッファガスを供給するも
のである。また、ガス排気管8はセラミック管2内のバ
ッファガス等を外部へ排出するものである。
A pair of Brewster tubes 11 are connected to the outside of the electrodes at both ends of the ceramic tube 2, the left Brewster tube 11 has a gas supply tube 3 connected to a gas supply system, and the right Brewster tube 11 has a gas exhaust tube. A gas exhaust pipe 8 connected to the system is provided respectively. The gas supply pipe 3 supplies a discharge buffer gas such as neon gas into the ceramic tube 2. Further, the gas exhaust pipe 8 is for discharging buffer gas and the like within the ceramic tube 2 to the outside.

ブリュスタ管11の窓12の外側には、それぞれ出力ミ
ラー23と全反射ミラー14が配置され、この出力ミラ
ー23および全反射ミラー14はレーザ共振器を構成し
ている。
An output mirror 23 and a total reflection mirror 14 are arranged outside the window 12 of the Brewster tube 11, respectively, and the output mirror 23 and the total reflection mirror 14 constitute a laser resonator.

さて、前述したパルス二極放電は、陽極4および陰極5
を支持しこれらに電流を流す電極支持フランジ7に接続
されたパルス高圧電源によりなされる。パルス高圧電源
は、充電コンデンサ15、中間コンデンサ16、抵抗1
7、サイラトロン18およびダイオード24等からなる
回路によって構成されている。
Now, the above-mentioned pulsed bipolar discharge has an anode 4 and a cathode 5.
This is done by a pulsed high-voltage power supply connected to an electrode support flange 7 that supports the electrodes and passes current through them. The pulse high voltage power supply has 15 charging capacitors, 16 intermediate capacitors, and 1 resistor.
7, a circuit consisting of a thyratron 18, a diode 24, etc.

このパルス高圧電源は、充電コンデンサ15に充電され
た電荷がサイラトロン18を点弧することにより、はぼ
10−7秒以下の立上り時間で放電電流を発生するよう
にされている。サイラトロン18はパルス放電スイッチ
ング素子である。発生させるパルス高電圧は、電圧が数
KV〜10数KV、繰返し周波数が数KH2〜数10K
 H2である。図中記号Aはアノード端子であり、Cは
カソード端子であり、Gはトリガー信号導入端子である
。その他の構成は第3図と同一であるのでその説明を省
略する。
This pulsed high-voltage power supply is designed to generate a discharge current with a rise time of approximately 10 -7 seconds or less by igniting the thyratron 18 with the charge stored in the charging capacitor 15 . Thyratron 18 is a pulse discharge switching element. The pulse high voltage to be generated has a voltage of several KV to several tens of KV, and a repetition frequency of several KH2 to several tens of KV.
It is H2. In the figure, symbol A is an anode terminal, C is a cathode terminal, and G is a trigger signal introduction terminal. The rest of the configuration is the same as that in FIG. 3, so the explanation thereof will be omitted.

次に作用を説明する。Next, the action will be explained.

まず、排気系(図示省略)を作動させて、セラミック管
2内を排気し、この排気後にガス供給管3を経由してネ
オンガス等のバッファガスを供給する。次にパルス高圧
電源を作動させて、セラミック管2内にプラズマを生起
させ、このプラズマによって金属蒸気源1が金属蒸気を
生成し得る温度まで昇温させる。レーサ発振に必要な温
度は、例えば金属蒸気源1か銅の場合には約1500℃
である。この状態が保持されることにより、セラミック
管2内に金属蒸気が一様に分布する。
First, an exhaust system (not shown) is operated to exhaust the inside of the ceramic tube 2, and after this exhaust, a buffer gas such as neon gas is supplied via the gas supply tube 3. Next, the pulsed high-voltage power supply is activated to generate plasma in the ceramic tube 2, and the plasma raises the temperature of the metal vapor source 1 to a temperature at which it can generate metal vapor. The temperature required for laser oscillation is, for example, approximately 1500°C in the case of metal vapor source 1 or copper.
It is. By maintaining this state, the metal vapor is uniformly distributed within the ceramic tube 2.

この金属蒸気にプラズマ中の自由電子が衝突して金属蒸
気が励起され、やがてセラミック管2内は反転分布の状
態となる。この状態では励起された金属蒸気が低エネル
ギー準位に遷移する際にレーザ光を発生する。セラミッ
ク管2内で発生したレーザ光は窓12を通過し、レーザ
共振器を構成する出力ミラー23および全反射ミラー1
4で反射する間にその振幅が増加してパワーアップし、
やがて出力ミラー23から取aされるレーザ光が十分な
出力に達する。ここで、発生した金属蒸気はセラミック
管2の端部の低温部に拡散してウィック20に付着し、
ウィック20表面の凹凸による毛細管現象によって金属
蒸気源1に移送し、金属蒸気源1より金属蒸気になる。
Free electrons in the plasma collide with this metal vapor to excite the metal vapor, and eventually the inside of the ceramic tube 2 enters a state of population inversion. In this state, laser light is generated when the excited metal vapor transitions to a lower energy level. The laser light generated within the ceramic tube 2 passes through the window 12, and passes through the output mirror 23 and total reflection mirror 1 that constitute a laser resonator.
While reflecting at 4, its amplitude increases and power increases,
Eventually, the laser beam a taken from the output mirror 23 reaches a sufficient output. Here, the generated metal vapor diffuses into the low temperature part at the end of the ceramic tube 2 and adheres to the wick 20,
The wick 20 is transferred to the metal vapor source 1 by capillary action due to the uneven surface thereof, and becomes metal vapor from the metal vapor source 1.

このように本実施例によれば、セラミック管2の内側に
コーティングされたウィック20は厚さ数10μmであ
るため、レーザ光を遮蔽することがなく、レーザ出力が
低下せず、高効率の発振が行える。また、放電管である
セラミック管2にコーティングするため、セラミックの
強度により、ウィックの破損も防止することができる。
According to this embodiment, since the wick 20 coated on the inside of the ceramic tube 2 has a thickness of several tens of micrometers, the laser beam is not blocked, the laser output is not decreased, and highly efficient oscillation is possible. can be done. Furthermore, since the ceramic tube 2, which is a discharge tube, is coated, the strength of the ceramic can prevent damage to the wick.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明によれば、レーザ光の遮蔽
によるレーザ出力の低下を招くことなく、金属蒸気の消
費量を低減させて所望のウィック性能が得られ、レーザ
発振を長時間安定して行うことができるという効果を奏
する。
As explained above, according to the present invention, desired wick performance can be obtained by reducing metal vapor consumption without causing a decrease in laser output due to shielding of laser light, and laser oscillation can be stabilized for a long time. This has the advantage that it can be carried out with ease.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る金属蒸気レーザ装置の一実施例を
回路図を併用して示す断面図、第2図は第1図のセラミ
ック管を示す断面図、第3図は従来の金属蒸気レーザ装
置を回路図を併用して示す断面図、第4図は第3図のセ
ラミック管を示す断面図である。 1・・・金属蒸気源、2・・・セラミック管(放電管)
、3・・・ガス供給管、4・・・陽極、5・・・陰極、
11・・・ブリュスタ管、13・・・断熱材、20・・
・ウィック。
Fig. 1 is a sectional view showing an embodiment of the metal vapor laser device according to the present invention together with a circuit diagram, Fig. 2 is a sectional view showing the ceramic tube of Fig. 1, and Fig. 3 is a sectional view of a conventional metal vapor laser device. FIG. 4 is a sectional view showing the laser device together with a circuit diagram, and FIG. 4 is a sectional view showing the ceramic tube of FIG. 3. 1... Metal vapor source, 2... Ceramic tube (discharge tube)
, 3... gas supply pipe, 4... anode, 5... cathode,
11...Brewster tube, 13...insulation material, 20...
・Wick.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 内側に金属蒸気を生成する金属蒸気源が配置された放電
管を放電加熱してレーザ光を発生させる金属蒸気レーザ
装置において、上記放電管の内側にタングステン材料を
コーティングしたウイックを設けたことを特徴とする金
属蒸気レーザ装置。
A metal vapor laser device that generates laser light by discharging and heating a discharge tube in which a metal vapor source that generates metal vapor is disposed inside, characterized in that a wick coated with tungsten material is provided on the inside of the discharge tube. metal vapor laser equipment.
JP30179090A 1990-11-07 1990-11-07 Metallic-vapor laser device Pending JPH04174574A (en)

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