JPH04171408A - 防かび光学系 - Google Patents

防かび光学系

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JPH04171408A
JPH04171408A JP29815990A JP29815990A JPH04171408A JP H04171408 A JPH04171408 A JP H04171408A JP 29815990 A JP29815990 A JP 29815990A JP 29815990 A JP29815990 A JP 29815990A JP H04171408 A JPH04171408 A JP H04171408A
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JP
Japan
Prior art keywords
mold
optical system
volatile
optical element
lens
Prior art date
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Pending
Application number
JP29815990A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Tezuka
手塚 利明
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光学素子にかびが発生することを防止した防
かび光学系に関する。
[従来の技術] 光学系におけるかびの問題は、光学系における異物の問
題として顕在化することが多い。これは、光学素子の表
面上に発生するかびの菌糸が原因の大半を占めており、
いわゆる「レンズかび」が発生した状態である。
このレンズかびの発生は、1次汚染と2次汚染との2種
類に概念的に分類することができる。1次汚染とは、製
造出荷時に製品の光学系が既1こかびに汚染されていた
場合で、光学系のあらゆる部分に無差別に発生すること
が多い。そして、1次汚染の発生時期は、出荷直後の場
合がほとんどである。これに対し、2次汚染とは、製品
使用時にかびに汚染される場合である。2次汚染の場合
には、外部から光学系内にかびが侵入するものであり、
光学素子周辺部からのかびの発生が多いという傾向を持
っている。また、光学系全体に発生するのではなく、特
定の面に集中して発生するという傾向も合わせ持ってい
る。そして、2次汚染の発生時期は、製品の使用開始後
数年経ってからが多い。
従来、このようなレンズかびの発生を防止した防かび光
学系として、特開昭61−228412号公報や実開平
1−125301号公報などに記載された技術が知られ
ている。これらの従来技術は、基本的に共通したもので
、揮発性防かび剤を使用して光学系全体を防かび性雰囲
気にすることとしている。
すなわち、第3図および第4図に示すように、レンズな
どの光学素子1を保持するレンズ鏡筒などの枠2に、α
−八へシンナモイル誘導体、クロロナフタレン類などの
揮発性防かび剤3を配置して、防かび光学系を構成して
いた。
[発明が解決しようとする課題] 最近では、製造環境の向上により、1次汚染によるレン
ズかびの発生は大幅に減少している。その結果、現在で
は、光学系において特定の面の外周にかびが発生する2
次汚染のみが主に問題となっている。
しかし、上記従来の防かび光学系は、1次汚染を防止す
るには効果があったが、防かび剤とじて揮発性のものを
使用して(/べたので、経時的に防かび効果が減少して
しまい、時間的に遅く発生する2次汚染に対しては、有
効ではなかった。
本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので
、かび発生の危険が長期間つきまとう2次汚染を有効に
防止できる防かび光学系を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明は、光学素子に防か
び性能を付与すべく防かび部材を備えてなる防かび光学
系において、光学素子の近傍に、ジンク−2−ピリジン
チオール−1−オキサイドまたはチアベンダゾールを含
有した非揮発性防かび部材を配置することとした。− また、本発明は、光学素子に防かび性能を付与すべく防
かび部材を備えてなる防かび光学系において、光学素子
の近傍に、合成樹脂中に銀または銅の粉末を分散配合し
た非揮発性防かび部材を配置することとした。
本発明において、光学素子の近傍に配置とは、光学素子
に接触させる場合も含み、光学素子が光学的機能を発揮
するのに悪影響を与えない程度に接近させて配置するも
のである。   −[作 用] 上記構成の防かび光学系において、ジンク−2−ピリジ
ンチオール−1−オキサイド若しくはチアベンダゾール
または銀若しくは銅のイオンは、人体等に無害で、強力
な防かび性能を発揮する;また、特にジンク−2−ピリ
ジンチオール−1−オキサイド、チアベンダゾールは、
従来使用していた揮発性の防かび剤よりも少ない薬材料
で極めて有効に防かび効果を発揮することができる。
[実施例] (第1実施例) 本実施例の防かび光学系は、第1図および第2図に示す
ようなもので、光学素子(レンズ)1と、この光学素子
lを保持する枠(レンズ鏡筒)2との間に、光学素子1
の外周面に接触してリング状の固形化した非揮発性防か
び部材4が配置されている。この非揮発性防かび部材4
は、Z−PT(ジンク−2−ピリジンチオール−1−オ
キサイド)を5重量%添加したポリエチレンにより形成
されている。
(第2実施例) 本実施例の防かび光学系は、前記第1実施例と同様の構
成であり、非揮発性防かび部材4の素材として、銀ゼオ
ライトを5重量%添加した低密度ポリエチレン樹脂を用
いた点が異なる。
上記各実施例の防かび光学系について、環境条件を高温
予洗(20℃、60%以上)とするかび抵抗性試験を行
ったところ、次表に示すような結果を得た。また、比較
のため、揮発性防かび剤を使用した従来例と防かび剤を
使用しなかった無処理のものについても実施例と同様の
試験を行い、その結果を同表中に併記した。
(以下余白) ○;かび発生せず △;かびが一部に発生 X;かびが全体に発生 上記表から明らかなように、本発明の実施例の防かび光
学系は、3年経過してもかびの発生はなく、2次汚染を
防止することができた。特に、第2実施例の防かび光学
系は、薬剤の使用を極端に嫌う環境での使用に有効であ
る。
これに対し、従来例では3年目にはかびが全体に発生し
てしまい、無処理のものでは1年目に既にかびが一部に
発生してしまい、いずれも2次汚染を防止することはで
きなかった。
なお、上記第1実施例においては、Z−PTを含有させ
たが、TBZ (チアベンダゾール)を用いても同様の
効果を得ることができる。また、Z−PT、TBZの防
かび剤を添加させる材料は、これら防かび剤が化学的に
干渉しないものであれば良く、実施例のほかにポリプロ
ピレンなとの樹脂が使用可能である。
さらに、第2実施例においては、銀イオンにより防かび
効果を得ることとしたが、銀イオンに代えて銅イオンに
よっても防かび効果を得ることができる。銀または銅の
添加量は1〜10重量%程度が好ましく、光学素子の径
や光学系の構造等により最適な添加量が決定される。ま
た、銀、銅を添加させる材料は、これら金属と化学的に
干渉しないものであれば良く、実施例のほかにメタクリ
ル樹脂(PMMA)やポリカーボネートなどの樹脂、シ
リコーンゴム等が使用可能である。さらに、この材料に
、光学系の基本性能を損なわないように着色することも
できる。銀、銅は、合成樹脂中に分散配合させることと
したが、綿状、板状等のものを合成樹脂中に埋設等して
も良い。
非揮発性防かび部材の形状は、リング状に限らず、半リ
ング状、板状、線状、棒状、ブロック状1円板状等にし
ても良い。
[発明の効果] 以上のように、本発明の防かび光学系によれば、従来の
防かび光学系よりも長期間かびの発生を防止することが
でき、使用する薬剤量も従来に比して格段に少なく、特
有の不快臭もなく、より安全にして確実に防かび効果を
発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞれ本発明の防かび光学系の
第1実施例を示す要部縦断面図および正面図、第3図お
よび第4図はそれぞれ従来の防かび光学系を示す要部縦
断面図および正面図である。 1・・・・・・光学素子 2・・・・・・枠 4・・・・・・非揮発性防かび部利 第1図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光学素子に防かび性能を付与すべく防かび部材を
    備えてなる防かび光学系において、光学素子の近傍に、
    ジンク−2−ピリジンチオール−1−オキサイドまたは
    チアベンダゾールを含有した非揮発性防かび部材を配置
    したことを特徴とする防かび光学系。
  2. (2)光学素子に防かび性能を付与すべく防かび部材を
    備えてなる防かび光学系において、光学素子の近傍に、
    合成樹脂中に銀または銅の粉末を分散配合した非揮発性
    防かび部材を配置したことを特徴とする防かび光学系。
JP29815990A 1990-11-02 1990-11-02 防かび光学系 Pending JPH04171408A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61228412A (ja) * 1985-04-01 1986-10-11 Nippon Kogaku Kk <Nikon> カビの発生が抑制された光学機器

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61228412A (ja) * 1985-04-01 1986-10-11 Nippon Kogaku Kk <Nikon> カビの発生が抑制された光学機器

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