JPH04168286A - エッチング浴の管理方法 - Google Patents

エッチング浴の管理方法

Info

Publication number
JPH04168286A
JPH04168286A JP29612990A JP29612990A JPH04168286A JP H04168286 A JPH04168286 A JP H04168286A JP 29612990 A JP29612990 A JP 29612990A JP 29612990 A JP29612990 A JP 29612990A JP H04168286 A JPH04168286 A JP H04168286A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
etching
stabilizer
amount
concentration
hydrogen peroxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP29612990A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiya Kimura
俊哉 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Toppan Circuit Solutions Toyama Inc
Original Assignee
NEC Toppan Circuit Solutions Toyama Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Toppan Circuit Solutions Toyama Inc filed Critical NEC Toppan Circuit Solutions Toyama Inc
Priority to JP29612990A priority Critical patent/JPH04168286A/ja
Publication of JPH04168286A publication Critical patent/JPH04168286A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、エツチング浴の管理方法に関し、特に安定剤
及びエツチングスピードの管理方法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、エツチング浴は基本的に過酸化水素、硫酸およ
び安定剤で構成されており、エツチング処理を行うこと
により過酸化水素および硫酸が消耗するとエツチング速
度が低下するのでこれらの濃度を一定に維持するため、
一定時間毎にサンプリングし過酸化水素を酸化還元滴定
法で分析し、又硫酸濃度を中和滴定法により分析して各
々の含有量を管理していたが、エツチング洛中の過酸化
水素はエツチング処理による洛中の金属イオン濃度の増
加に伴い、金属イオンとの接触により次のような自己分
解反応を起こす。
H202→H20+ 1 / 202 この自己分解反応は、安定剤濃度が低いほど急激に進行
する。また、自己分解反応を抑える為に、安定剤、濃度
を高くしすぎると、エツチング速度が大幅に低下する。
従ってエツチング洛中の金属イオン濃度の増加に伴う安
定剤の濃度管理は重要であるが、エツチング浴が含有す
る安定剤量は極めて微量であり直接的な分析定量が困難
であるため、従来は、過酸化水素の添加量に合わせて所
定量の安定剤を添加していた。
また、エツチングスピードに関しては、エツチング槽か
らサンプリングし、あらかじめ荷重を測定した銅板を一
定時間浸漬し、その荷重変化によりエツチングスピード
を測定していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の管理方法では安定剤の量を定期的に知ることがで
きず、適正な安定剤濃度の管理が困難となり、過酸化水
素の自己分解反応の抑制や一定のエツチング速度管理が
困難であること、サンプリングルエツチングスピード測
定という操作を行うことによるタイムラグにより、エツ
チング浴の混成電位が変化し、正確なスピードを測定す
ることが困難であるという課題があった。
本発明の目的は、このような従来方法の欠点を解決した
エツチング浴を安定剤及びエツチングスピードも正確に
管理できるエツチング浴の管理方法を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のエツチング浴の管理方法は、エツチング槽から
一定量のエツチング液をサンプリングする工程と、前記
サンプリング液に含有する過酸化水素量を酸素還元滴定
法により分析し過酸化水素の初期濃度を求める工程と、
更に前記サンプリング液の所定量に対し一定量の金属イ
オンを含有する溶液を添加してから一定時間経過後に酸
化還元滴定法により分析し過酸化水素の濃度を求める工
程と、前記の過酸化水素濃度の変化量に基づきエツチン
グ浴に含有する安定剤の濃度を求め安定剤の設定濃度に
対して不足する安定剤の量を演算し、安定剤の不足量を
エツチング浴に補充する工程と、エツチング液中に一定
面積の銅板を一定時間浸漬し、その重量変化によりエツ
チングスピードを測定する工程と、エツチングスピード
が一定の管理範囲から外れたアラームを発する工程とを
含むことを特徴として構成される。
すなわち本発明によれば、安定剤濃度を推定し、不足す
る安定剤の量をエツチング浴に補充するもと及び正確な
エツチングスピードを測定できるという効果が得られる
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。第1図
は本発明の一実施例を説明するためのエツチング浴の構
成を示すブロック図である。
一定時間毎にエツチング槽1よりサンプリングしたエツ
チング液中の金属イオン濃度、過酸化水素濃度、硫酸濃
度を自動分析装置5にて分析し、分析した値をコントロ
ーラー6にて演算し、過酸化水素濃度、硫酸濃度を標準
値に合わせる為の補充量を定量ポンプ8,9に伝送し、
各薬液タンクより循環槽4へ補充する。更に、一定時間
毎にエツチング浴を反応セルフにサンプリングし、スタ
ーラ−10で攪拌しながら一定量の金属溶液(例;銅1
00〜10000 PPM、鉄10〜11000PP 
)をポンプ11で送液し一定時間経過後に、自動分析装
置5で過酸化水素濃度を分析し、金属イオン添加前の濃
度からの変化量よりエツチング洛中の安定剤濃度をコン
トローラー6にて演算し、不足安定剤添加量を定量ポン
プ12へ伝送し、循環槽4へ補充する。循環槽4へ補充
された薬液は、循環ポンプ2にて、エツチング槽1へ送
り込まれる。
上述した方法により、一定時間毎の分析値に基づき安定
剤の補充を繰り返しながら、エツチング洛中の安定剤濃
度の管理を行う。
また、循環ポンプ2より、常時フローセル13にエツチ
ング液を送液しており、銅板14を吊したデジタル重量
計15を下降させ、銅板をエツチング液に一定時間浸漬
させ、エッチングスピードを重量変化量よりコントロー
ラー6にて演算し、管理範囲内を外れる場合は、アラー
ムを発する。
尚、デジタル重量計15での重量変化量が所定量となる
時間を測定し、管理範囲を外れる場合は、アラームを発
することもできる。
〔発明の効果〕
前述したように、本発明は、エツチング液中の適正な安
定剤濃度の維持管理及びエツチングスピード管理を可能
にすることにより、 (1)過酸化水素の分解反応を抑制し、過酸化水素の使
用量を低減できる。
(2)過酸化水素濃度を一定範囲に維持できることによ
り、安定なエツチングスピードを得ることができる。
(3〉エツチングスピードが管理範囲を外れた場合は、
アラームにより検知でき、不具合品発生を防止できる。
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を説明するためのエツチング
浴の構成を示すブロック図である。 1・・・エツチング槽、2・・・循環ポンプ、3・・・
熱交換器、4・・・循環槽、5・・・自動分析装置、6
・・・コントローラー(アラーム付き)、7・・・反応
セル、8・・・硫酸用定量ポンプ、9・・・過酸化水素
用定量ポンプ、10・・・スターラー、11・・・金属
溶液添加用ポンプ、12・・・安定剤用定量ポンプ、1
3・・・フローセル、14・・・銅板、15・・・デジ
タル重量計、21・・・過酸化水素タンク、22・・・
硫酸タンク、23・・・安定剤タンク、24・・・金属
溶液タンク。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  エッチング槽から一定量のエッチング液をサンプリン
    グする工程と、前記サンプリング液に含有する過酸化水
    素量を酸化還元滴定法により分析し過酸化水素の初期濃
    度を求める工程と、更に前記サンプリング液の所定量に
    対し一定量の金属イオンを含有する溶液を添加してから
    一定時間経過後に酸化還元滴定法により分析し過酸化水
    素の濃度を求める工程と、前記の過酸化水素濃度からの
    変化量に基づきエッチング浴に含有する安定剤の濃度を
    求め安定剤の設定濃度に対して不足する安定剤の量を演
    算し安定剤の不足量をエッチング槽に補充する工程と、
    エッチング液中に一定面積の銅板を一定時間浸漬し、そ
    の重量変化によりエッチングスピードを測定する工程と
    、エッチングスピードが一定の管理範囲から外れたらア
    ラームを発する工程とを含むことを特徴とするエッチン
    グ浴の管理方法。
JP29612990A 1990-10-31 1990-10-31 エッチング浴の管理方法 Pending JPH04168286A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29612990A JPH04168286A (ja) 1990-10-31 1990-10-31 エッチング浴の管理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29612990A JPH04168286A (ja) 1990-10-31 1990-10-31 エッチング浴の管理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04168286A true JPH04168286A (ja) 1992-06-16

Family

ID=17829519

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29612990A Pending JPH04168286A (ja) 1990-10-31 1990-10-31 エッチング浴の管理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04168286A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009191312A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Nippon Aqua Kk エッチング制御装置
JP2010243200A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Adeka Corp 過酸化水素含有水溶液中の過酸化水素濃度の測定方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009191312A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Nippon Aqua Kk エッチング制御装置
JP2010243200A (ja) * 2009-04-01 2010-10-28 Adeka Corp 過酸化水素含有水溶液中の過酸化水素濃度の測定方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8008087B1 (en) Analysis of silicon concentration in phosphoric acid etchant solutions
US5175502A (en) Method and apparatus for determining acid concentration
JPH04168286A (ja) エッチング浴の管理方法
Brunt Rapid determination of sulfide in waste waters by continuous flow analysis and gas diffusion and a potentiometric detector
JPS628040A (ja) 洗浄装置
Pratt Automated, high-precision coulometric titrimetry part II. Strong and weak acids and bases
KR101046218B1 (ko) 스테인리스강의 혼합산 산세 용액의 유리산 농도 분석 방법
US5065417A (en) Method and apparatus for monitoring the partial density of metal and acid in pickling baths
US5286358A (en) Method of analyzing the complexing power of a pickling liquor
JPH02254181A (ja) エッチング浴の安定剤の管理方法
JPH05263279A (ja) ステンレス鋼帯の脱スケール用硝フッ酸浴の管理方法およびその連続脱スケール装置
JP3069951B2 (ja) 第二鉄イオンを含む過酸化水素溶液の濃度管理方法
CN114942299B (zh) 基于高锰酸盐指数自动分析仪的滴定终点分析方法及系统
US4597806A (en) Process for maintaining the zinc content in zinc phosphate baths
JPH0137690B2 (ja)
Burrows et al. Kinetics of the copper-ferric chloride reaction and the effects of certain inhibitors
JPH01313754A (ja) 塩素濃度の測定方法
JPH06228776A (ja) エッチング浴の管理方法
Eckfeldt et al. Continuous coulometric analysis of chlorine bleach solutions
JPH0235809Y2 (ja)
JP2010243200A (ja) 過酸化水素含有水溶液中の過酸化水素濃度の測定方法
Tutunji Determination of formation constants of metal complexes by potentiometric stripping analysis
JPH04333581A (ja) エッチング浴の管理方法
Beronius Electrochemical Precision Measurements of the Rate of Halogen Exchange Between Organic and Inorganic Iodides
JP3342241B2 (ja) ステンレス鋼の酸洗方法及びその装置