JPH0416545B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0416545B2 JPH0416545B2 JP60262524A JP26252485A JPH0416545B2 JP H0416545 B2 JPH0416545 B2 JP H0416545B2 JP 60262524 A JP60262524 A JP 60262524A JP 26252485 A JP26252485 A JP 26252485A JP H0416545 B2 JPH0416545 B2 JP H0416545B2
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- JP
- Japan
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- crucible
- nozzle
- vapor
- molten
- steam
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば薄膜形成装置における溶融
蒸着物質の蒸気を噴出孔から噴出させる溶融装置
に関するものである。
蒸着物質の蒸気を噴出孔から噴出させる溶融装置
に関するものである。
第３図は特公昭54−9592号公報に開示された従
来の溶融物質の蒸気噴出装置を示す断面図であ
る。図において、１はルツボ、２はこのルツボ１
を電子衝撃によつて加熱するためのボンバードフ
イラメント、３はルツボ１のふたに設けられた１
個もしくは複数個の噴出孔、４はルツボ１内の溶
融物質、５は噴出孔３から噴出した噴出蒸気が加
速冷却されて生成したクラスタ、１３はボンバー
ドフイラメント２を加熱するための交流電源、１
４はボンバードフイラメント２に対してルツボ１
を正電位に保つための直流電源である。
来の溶融物質の蒸気噴出装置を示す断面図であ
る。図において、１はルツボ、２はこのルツボ１
を電子衝撃によつて加熱するためのボンバードフ
イラメント、３はルツボ１のふたに設けられた１
個もしくは複数個の噴出孔、４はルツボ１内の溶
融物質、５は噴出孔３から噴出した噴出蒸気が加
速冷却されて生成したクラスタ、１３はボンバー
ドフイラメント２を加熱するための交流電源、１
４はボンバードフイラメント２に対してルツボ１
を正電位に保つための直流電源である。
上記のように構成された従来の蒸気噴出装置に
おいて、交流電源１３によつて加熱されたボンバ
ードフイラメント２から飛び出す電子が直流電源
１４により正電位となつているルツボ１に衝突し
て加熱されたルツボ１内に発生する溶融物質４の
蒸気はルツボ１内の圧力を高め、噴出孔３から高
真空中に噴出する。この際の噴出蒸気５はルツボ
１内外の圧力差による断熱膨張によつて加速冷却
され、10〜1000個程度の原子が緩く結合した塊状
原子集団であるクラスタ５に変化する。また、こ
のクラスタ５の生成時の断熱膨張によつて噴出孔
３の周辺部の熱が奪われるために、噴出孔３の周
辺部のルツボ１へも電子が衝突するように噴出孔
３の上部にもボンバードフイラメント２が設けら
れている。
おいて、交流電源１３によつて加熱されたボンバ
ードフイラメント２から飛び出す電子が直流電源
１４により正電位となつているルツボ１に衝突し
て加熱されたルツボ１内に発生する溶融物質４の
蒸気はルツボ１内の圧力を高め、噴出孔３から高
真空中に噴出する。この際の噴出蒸気５はルツボ
１内外の圧力差による断熱膨張によつて加速冷却
され、10〜1000個程度の原子が緩く結合した塊状
原子集団であるクラスタ５に変化する。また、こ
のクラスタ５の生成時の断熱膨張によつて噴出孔
３の周辺部の熱が奪われるために、噴出孔３の周
辺部のルツボ１へも電子が衝突するように噴出孔
３の上部にもボンバードフイラメント２が設けら
れている。
上記のような従来の蒸気噴出装置では、噴出す
る蒸気はルツボ１内外の圧力差によつて断熱膨張
して冷却され、この際のほとんどの場合は例えば
薄膜形成装置における真空槽の圧力（背圧）は臨
界圧より低いために、噴射する蒸気は冷却されて
その温度はルツボ１温度の3/4以下にまで下がる
ので、噴出蒸気の一部は凝縮してルツボ１のふた
の上部や噴出孔３に付着するために蒸発量が減少
して蒸着効率が低くなるばかりではなく、遂には
噴出孔３を閉鎖してしまうと連続して蒸気を噴出
することができなくなることと、噴出孔３の上方
に設けた一部のボンバードフイラメント２に蒸気
が接触するために放電現象を生じたり、あるいは
このボンバードフイラメント２がスパツタされて
細くなるために特性が不安定になるなどの問題が
あつた。
る蒸気はルツボ１内外の圧力差によつて断熱膨張
して冷却され、この際のほとんどの場合は例えば
薄膜形成装置における真空槽の圧力（背圧）は臨
界圧より低いために、噴射する蒸気は冷却されて
その温度はルツボ１温度の3/4以下にまで下がる
ので、噴出蒸気の一部は凝縮してルツボ１のふた
の上部や噴出孔３に付着するために蒸発量が減少
して蒸着効率が低くなるばかりではなく、遂には
噴出孔３を閉鎖してしまうと連続して蒸気を噴出
することができなくなることと、噴出孔３の上方
に設けた一部のボンバードフイラメント２に蒸気
が接触するために放電現象を生じたり、あるいは
このボンバードフイラメント２がスパツタされて
細くなるために特性が不安定になるなどの問題が
あつた。
この発明はかから問題点を解消するためになさ
れたもので、例えば薄膜形成装置の場合ではその
蒸着効率を高めることができ、連続して蒸着物質
の蒸気を噴射する蒸気噴出装置を得ることを目的
とする。
れたもので、例えば薄膜形成装置の場合ではその
蒸着効率を高めることができ、連続して蒸着物質
の蒸気を噴射する蒸気噴出装置を得ることを目的
とする。
この発明に係る溶融物質の蒸気噴出装置は、ル
ツボの上面部に上部の口径の方が大きい円錐筒状
のノズルを固定し、このノズルの外周部を覆い、
かつるつぼの上方端と接触する金属製のカバーで
覆つたものである。
ツボの上面部に上部の口径の方が大きい円錐筒状
のノズルを固定し、このノズルの外周部を覆い、
かつるつぼの上方端と接触する金属製のカバーで
覆つたものである。
この発明におけるルツボ上面に固定したノズル
は、筒状の内壁面によつて溶融物質の拡散を抑制
し、ノズルの外周部に設けた金属板のカバーは、
その下方端はルツボと接触しているので、ノズル
周辺部の熱を吸収し、この吸収した熱をノズル内
部に伝導するので、ルツボ上部の噴出孔付近の急
激な温度低下は防止され徐々に冷却することによ
り、大きなクラスターが安定的に生成する。
は、筒状の内壁面によつて溶融物質の拡散を抑制
し、ノズルの外周部に設けた金属板のカバーは、
その下方端はルツボと接触しているので、ノズル
周辺部の熱を吸収し、この吸収した熱をノズル内
部に伝導するので、ルツボ上部の噴出孔付近の急
激な温度低下は防止され徐々に冷却することによ
り、大きなクラスターが安定的に生成する。
またそのために、噴出孔の目づまりおよびノズ
ル自体の内壁部に対する溶融物質の付着がなくな
るので、効率よく連続的に安定した溶融物質の蒸
気を噴出する。
ル自体の内壁部に対する溶融物質の付着がなくな
るので、効率よく連続的に安定した溶融物質の蒸
気を噴出する。
第１図はこの発明の一実施例による溶融物質の
蒸気噴出装置の構成を示す断面図であり、１〜
５，１３，１４は従来例を示した第３図における
同符号と同一部分である。６はルツボ１の上面部
に固定された上端面の口径が拡がつた円錐筒状の
ノズル、７はこのノズル６の外周部に設けた金属
板製のカバーである。
蒸気噴出装置の構成を示す断面図であり、１〜
５，１３，１４は従来例を示した第３図における
同符号と同一部分である。６はルツボ１の上面部
に固定された上端面の口径が拡がつた円錐筒状の
ノズル、７はこのノズル６の外周部に設けた金属
板製のカバーである。
上記のように構成されたこの発明による蒸気噴
出装置において、ルツボ１内で溶融した溶融物質
４の蒸気は噴出孔３より高真空中に噴射されて断
熱膨張する。この断熱膨張の際の噴出クラスタ５
はノズル６の内壁部の空間によつて拡散を制約さ
れながら効率よく上方へ噴射される。一方、ノズ
ル６の外周部に設けられた金属製カバー７はその
下方端がルツボ１の上部と接触しているので、周
辺部の熱を吸収し、この吸収した熱をノズル６に
伝導するのでノズル６内の空間部におけるクラス
タ５生成時の温度低下が抑制される。このため
に、噴出孔３に蒸発物質の付着が解消されて目づ
まりがなくなるので、連続して安定なクラスタ５
が生成される。
出装置において、ルツボ１内で溶融した溶融物質
４の蒸気は噴出孔３より高真空中に噴射されて断
熱膨張する。この断熱膨張の際の噴出クラスタ５
はノズル６の内壁部の空間によつて拡散を制約さ
れながら効率よく上方へ噴射される。一方、ノズ
ル６の外周部に設けられた金属製カバー７はその
下方端がルツボ１の上部と接触しているので、周
辺部の熱を吸収し、この吸収した熱をノズル６に
伝導するのでノズル６内の空間部におけるクラス
タ５生成時の温度低下が抑制される。このため
に、噴出孔３に蒸発物質の付着が解消されて目づ
まりがなくなるので、連続して安定なクラスタ５
が生成される。
第２図は上記の実施例を用いた薄膜形成装置の
構成を示す断面図であり、８はクラスタ５をイオ
ン化するイオン化電子放出フイラメント、９はこ
のイオン化電子放出フイラメント８から放出され
た電子を加速するグリツド、１０はイオン化した
クラスタ５を加速制御する加速電極、１１は表面
に薄膜を蒸着させる被蒸着材、１２は真空槽であ
る。
構成を示す断面図であり、８はクラスタ５をイオ
ン化するイオン化電子放出フイラメント、９はこ
のイオン化電子放出フイラメント８から放出され
た電子を加速するグリツド、１０はイオン化した
クラスタ５を加速制御する加速電極、１１は表面
に薄膜を蒸着させる被蒸着材、１２は真空槽であ
る。
この薄膜形成装置はイオン化されたクラスタ５
の運動エネルギを電界内で調節しながら被蒸着材
１１に形成される薄膜の蒸着を制御するように構
成されているので、上記実施例の蒸気噴出装置を
使用すると、ノズル６内を経てクラスタ５が安定
して供給されるので、均質な薄膜が効率よく形成
される。
の運動エネルギを電界内で調節しながら被蒸着材
１１に形成される薄膜の蒸着を制御するように構
成されているので、上記実施例の蒸気噴出装置を
使用すると、ノズル６内を経てクラスタ５が安定
して供給されるので、均質な薄膜が効率よく形成
される。
この発明は以上説明したとおり、ルツボの上部
に設けた円錐筒状のノズルによつてクラスタの拡
散を抑制し、またこのノズルの外周部に設けた金
属板製のカバーによつてノズル内部における温度
低下を防止するように構成したので、効率よく安
定したクラスタを生成することができるために、
均質な薄膜が形成される蒸着製品が得られる効果
がある。
に設けた円錐筒状のノズルによつてクラスタの拡
散を抑制し、またこのノズルの外周部に設けた金
属板製のカバーによつてノズル内部における温度
低下を防止するように構成したので、効率よく安
定したクラスタを生成することができるために、
均質な薄膜が形成される蒸着製品が得られる効果
がある。
第１図はこの発明の一実施例による溶融物質の
蒸気噴出装置の構成を示す断面図、第２図は第１
図の蒸気噴出装置を用いた薄膜形成装置の構成を
示す断面図、第３図は従来の溶融物質の蒸気噴出
装置の構成の一例を示した断面図である。 図において、１はルツボ、２はボンバードフイ
ラメント、３は噴出孔、４は溶融物質、５はクラ
スタ、６はノズル、７はカバー、１３は交流電
源、１４は直流電源である。なお、図中同一符号
は同一又は相当部分を示すものとする。
蒸気噴出装置の構成を示す断面図、第２図は第１
図の蒸気噴出装置を用いた薄膜形成装置の構成を
示す断面図、第３図は従来の溶融物質の蒸気噴出
装置の構成の一例を示した断面図である。 図において、１はルツボ、２はボンバードフイ
ラメント、３は噴出孔、４は溶融物質、５はクラ
スタ、６はノズル、７はカバー、１３は交流電
源、１４は直流電源である。なお、図中同一符号
は同一又は相当部分を示すものとする。
Claims (1)
- １ 溶融物質の蒸気を噴出孔から噴出させるルツ
ボ、該ルツボの周辺部に設けられ電子を衝突させ
て加熱するためのボンバードフイラメント、上記
ルツボの上部に固定された円すい筒状に形成され
たノズル、及び該ノズル外周部を覆い、かつ上記
ルツボの上方端と接触する金属製のカバーを備
え、上記ノズル及び金属製のカバーによつて上記
溶融物質の蒸気の急激な冷却による凝縮を抑制す
ることを特徴とする溶融物質の蒸気噴出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26252485A JPS62124271A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 溶融物質の蒸気噴出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26252485A JPS62124271A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 溶融物質の蒸気噴出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62124271A JPS62124271A (ja) | 1987-06-05 |
| JPH0416545B2 true JPH0416545B2 (ja) | 1992-03-24 |
Family
ID=17376991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26252485A Granted JPS62124271A (ja) | 1985-11-25 | 1985-11-25 | 溶融物質の蒸気噴出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62124271A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006111961A (ja) * | 2004-09-17 | 2006-04-27 | Nippon Seiki Co Ltd | 蒸着源装置 |
| JP2007297695A (ja) * | 2006-05-08 | 2007-11-15 | Fujifilm Corp | 真空蒸着用ルツボおよび真空蒸着装置 |
| JP5542610B2 (ja) * | 2010-10-19 | 2014-07-09 | 三菱伸銅株式会社 | 真空蒸着装置 |
| KR101710063B1 (ko) * | 2016-07-26 | 2017-02-28 | 에스엔유 프리시젼 주식회사 | 열 기상 증착장치 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57134555A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for forming thin film |
-
1985
- 1985-11-25 JP JP26252485A patent/JPS62124271A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57134555A (en) * | 1981-02-10 | 1982-08-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and device for forming thin film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62124271A (ja) | 1987-06-05 |
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