JPH04150979A - 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置 - Google Patents

有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置

Info

Publication number
JPH04150979A
JPH04150979A JP27321190A JP27321190A JPH04150979A JP H04150979 A JPH04150979 A JP H04150979A JP 27321190 A JP27321190 A JP 27321190A JP 27321190 A JP27321190 A JP 27321190A JP H04150979 A JPH04150979 A JP H04150979A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carbon dioxide
solvent
gas
organic solvent
org
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27321190A
Other languages
English (en)
Inventor
Yosuke Yamada
要輔 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP27321190A priority Critical patent/JPH04150979A/ja
Publication of JPH04150979A publication Critical patent/JPH04150979A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置に関し
、アルコール系溶剤等を用いても安全に洗浄できるよう
企図したものである。
〈従来の技術〉 半導体製品やメツキ製品などを洗浄するのに、第3図に
示すような、洗浄装置が用いられる。
この洗浄装置では、洗浄槽1内に有機溶剤2を貯留し、
この有機溶剤2をと一夕3により加熱して有機溶剤ガス
4を発生させている。
上記有機溶剤2としては通常、トリクロルエチレン、ト
リクロルエタン、パークロルエチレンメチレンクロライ
ド、フロンR−113等の塩素系やフッ素系の有機溶剤
を用いる。
被洗浄物は、有機溶剤2中に浸漬して、その後、有機溶
剤ガス4にさらすことにより洗浄される。
一方、洗浄槽1内に充満した有機溶剤ガス4は、冷却管
5に触れて凝縮し、液となって回収I!6を通って回収
される。
ところで、冷却管5で回収されなかった有機溶剤ガス4
は、洗浄槽1の上面開口から外部に出ていく。一般に、
有機溶剤ガス4は有毒である。そこで作業者がこのガス
を吸うことを防ぐためにファン7及び排気ダクト8を設
けている。つま^、ファン7により、洗浄槽1外に出た
有機溶剤ガス4を吸引し排気ダクト8を通して大気中に
放出している。
〈発明が解決しようとする課題〉 上記洗浄装置では、有毒な有機溶剤ガス4を大気中に放
出しているので大気汚染の原因となる。
ところで、オゾン層破壊防止のため、フロン113.1
・1・1トリクロルエタン等の溶剤の使用が将来的に禁
止されることになった。また、トリクロルエチレン等の
溶剤は地下に浸透して地下水を汚染するという問題があ
る。したがって大気汚染や地下水汚染を生ずるここのな
い溶剤の開発が行なわれているが、なかなか代替となる
溶剤は完成していない。
一方、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶剤や
エチルシクロヘキサンは、大気汚染や地下水汚染の心配
は無く、洗浄力もあるが、引火点が低(引火や爆発の危
険があるので、洗浄用溶剤としては今まで使用されてい
なかった。ちなみにイソプロピルアルコール(03H,
O)の引火点は1℃、エチルシクロヘキサン(C,I(
、、)の引火点は19℃である。
本発明は、上記実状に艦み、大気汚染や地下水汚染の心
配の無いアルコール系溶剤等を用いて洗浄ができ、しか
も安全な有機溶剤洗浄方法及びその装置を提供すること
を目的とする。
く課題を解決するための手段〉 上記目的を達成する本発明は、洗浄槽内の空間のうち上
部空間に炭酸ガスを充満させ、この炭酸ガスをシールド
層として機能させ有機溶剤と大気とを遮断したことを、
その特徴とする。
く実 施 例〉 以下に本発明の実施例を図面に基づき詳細に説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示す。同図に示すよう
に洗浄槽10は、ヒータ11、冷却管12及び回収機1
3を備えている。この洗浄槽10には、洗浄用溶剤とし
てイソプロピルアルコール(分子量60.6)20が貯
留されており、イソプロピルアルコール20のガス21
が立ち昇っている。
炭酸ガスボンベ30から導出きれたパイプ31は洗浄槽
10の上部空間に達しており、洗浄槽10の上部空間に
炭酸ガス(分子量48)32が供給されるようになって
いる。
洗浄槽10の上部には槽内上部空間における炭酸ガス3
2の濃度を検出するためのセンサ40が設電されている
。このセンサ40としては02センサやC02センサが
採用される。
センサ40で検出した信号はコントローラ41に送られ
る。一方、パイプ31にはコントローラ41により開閉
制御されるバルブ42が介装されている。
上記構成となっている第1の実施例では、イソプロピル
アルコールガス21は炭酸ガス32よりも重く、炭酸ガ
ス32は空気(分子量約12)よりも重いため、洗浄槽
10の下部空間にはイソプロピルアルコールガス21が
充満し、上部空間には炭酸ガス32が充満することにな
る。したがって炭酸ガス32によりイソプロピルアルコ
ール20・やそのガス21と大気とがシールドされ、イ
ソプロピルアルコール20やガス21が引火することを
防止できる。
歯洗浄物を洗浄するときには、被洗浄物を槽内の炭酸ガ
ス32の層を通してイソプロピルアルコール20に浸漬
したりガス21にさらし、洗浄が終了したら炭酸ガス3
2の層を通して引き上げる。
更に、槽内上部空間における炭酸ガス濃度が低下したこ
とをセンサ40が検出したら、コントローラ41はバル
ブ42を開き、これにより炭酸ガスボンベ30からパイ
プ31を通って炭酸ガス32が槽10内に追加供給され
る。そして槽内の炭酸ガス濃度が設定値に達したことを
センサ40が検出したら、コントローラ41はバルブ4
2を閉じる。
また、洗浄をしないときには槽10の上面を蓋で塞ぐよ
うにしている。
第2図は本発明の第2の実施例を示す。この実施例では
、炭酸ガス槽50内に通常の洗浄槽10を設置している
。そして炭酸ガス槽50内に炭酸ガスボンベ30から炭
酸ガスを供給し、炭酸ガス槽50内の炭酸ガス濃度をセ
ンサ40で検査している。他の構成は、第1図に示す第
1実施例と同一であり、同一機能を果す部材には同一符
号を付し、重複する説明は省略する。
この第2の実施例でも、炭酸ガス32によりイソプロピ
ルアルコール20やそのガス21と空気とがシールドさ
れ、イソプロピルアルコール20やそのガス21が引火
することを防止できる。
なお、上記実施例では洗浄溶剤としてイソプロピルアル
コールを用いたが他のアルコール系溶剤や、エチルシク
ロヘキサンを用いることができる。つま9炭酸ガスより
も分子量の多い有機溶剤を用いることができる。例えば
ブタノール、ヘキサノール、ヘキシルエーテル、オクタ
ツール等を用いることができる。
〈発明の効果〉 以上実施例とともに具体的に説明したように本発明によ
れば、炭酸ガスよりも分子量の多い有機溶剤でありさえ
すれば、たとえ引火点の低い溶剤であっても、引火のお
それなく安全に洗浄を行うことができる。更に、炭酸ガ
スよりも分子量の多い有機溶剤の中には、大気汚染や地
下水汚染のおそれの無いものがあり、そのようなものを
選択して用いれば、環境汚染も防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示す構成図、第2図は
本発明の第2の実施例を示す構成図、第3図は従来技術
を示す構成図である。 図  面  中、 10は洗浄槽、 20はイソプロピルアルコール、 21はイソプロピルアルコールガス、 30は炭酸ガスボンベ、 31はパイプ、 32は炭酸ガス、 40はセンサ、 41はコントローラ、 42はバルブ、 50は炭酸ガス槽である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)洗浄槽に貯留して被洗浄物を洗浄する溶剤として
    、炭酸ガスよりも分子量の多い有機溶剤を用い、 洗浄槽内の空間のうち上部空間に炭酸ガスを充満させた
    ことを特徴とする有機溶剤を用いた洗浄方法。
  2. (2)炭酸ガスよりも分子量の多い有機溶剤を貯留した
    洗浄槽と、 洗浄槽内に炭酸ガスを供給する炭酸ガス供給源と、 洗浄槽内の空間のうち上部空間における炭酸ガスの濃度
    を検出するセンサと、 このセンサにより炭酸ガス濃度があらかじめ決めた設定
    濃度よりも低くなったことが検出されたら、前記炭酸ガ
    ス供給源から前記洗浄槽に炭酸ガスを送るように制御す
    る制御装置と、 を有することを特徴とする有機溶剤を用いた洗浄方法。
JP27321190A 1990-10-15 1990-10-15 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置 Pending JPH04150979A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27321190A JPH04150979A (ja) 1990-10-15 1990-10-15 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27321190A JPH04150979A (ja) 1990-10-15 1990-10-15 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04150979A true JPH04150979A (ja) 1992-05-25

Family

ID=17524650

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27321190A Pending JPH04150979A (ja) 1990-10-15 1990-10-15 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04150979A (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5673540A (en) * 1979-11-16 1981-06-18 Japan Fuirudo Kk Method of preventing solvent diffusion in cleaning vessel

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5673540A (en) * 1979-11-16 1981-06-18 Japan Fuirudo Kk Method of preventing solvent diffusion in cleaning vessel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5273060A (en) Alcohol spray cleaning system
JP6668317B2 (ja) 超臨界状態洗浄システムおよび方法
KR940027048A (ko) 기판의 세정 및 건조장치
JP2702275B2 (ja) 消火装置
TW200717632A (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method, and computer-readable storage medium
ATE255942T1 (de) Methode und apparat zur rückgewinnung eines lösungsmittels
JPH04150979A (ja) 有機溶剤を用いた洗浄方法及びその装置
JP2928432B2 (ja) 半導体ウエハの蒸気乾燥装置及びその消火方法及び洗浄システム
KR100899159B1 (ko) 포토 마스크 세정장치 및 방법
EP0400873B1 (en) Method and apparatus for cleaning object
KR102120493B1 (ko) 기판처리장치 및 기판처리장치의 오링 세정방법
KR101392510B1 (ko) 유류 저장탱크의 유해가스 치환장치
JP2000516334A (ja) 過熱蒸気ドライヤーシステム
JP3989432B2 (ja) 真空乾燥装置
JP3044381B2 (ja) 物品の洗浄方法およびその装置
KR102228517B1 (ko) 기판처리장치 및 이를 이용한 기판처리방법
JP4250980B2 (ja) 汚染土壌のリサイクルシステム
CN109112754A (zh) 一种干洗后衣物四氯乙烯残留的处理装置
JPH0331428Y2 (ja)
JPH0372984A (ja) 洗浄機構の溶剤回収装置
JP2557515B2 (ja) 水蒸気乾燥装置
FI113750B (fi) Menetelmä ja laitteisto puolijohdeteollisuuden työvälineiden pesemiseksi
JPH0416275A (ja) 洗浄装置
JPH0745032B2 (ja) 密閉式溶剤洗浄装置
JP2004016915A (ja) 分解対象物の分解方法及びその装置