JPH04145997A - 水の浄化法 - Google Patents
水の浄化法Info
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- JPH04145997A JPH04145997A JP26866790A JP26866790A JPH04145997A JP H04145997 A JPH04145997 A JP H04145997A JP 26866790 A JP26866790 A JP 26866790A JP 26866790 A JP26866790 A JP 26866790A JP H04145997 A JPH04145997 A JP H04145997A
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は水の浄化法に関するものである。
［従来の技術］
水の浄化方法は相当以前より種々の方法で行われてきて
いるものであるが、オゾンの発生に紫外線を利用するこ
とが多く、この程度のオゾンでは実験室的な量の浄化に
は役立つが実際の家庭用や工場用には全く役に立たない
ものである。
いるものであるが、オゾンの発生に紫外線を利用するこ
とが多く、この程度のオゾンでは実験室的な量の浄化に
は役立つが実際の家庭用や工場用には全く役に立たない
ものである。
またこの方式の水を物品の消毒に利用するという思想は
なかった。
なかった。
［発明が解決しようとする課題］
本発明は、以上のような事項に鑑み、開発したもので、
特にビルに適応する浄化方法を提供することを第１の目
的とし、オゾンの発生装置は電解法によるものとなし、
更に、天然石と活性炭とを利用し、殺菌効果としては紫
外線を利用したもので、大量の水の浄化に適し、且つ、
コンパクトな装置とすることができるシステｌ＼を提供
することを一つの目的とし、他の一つの目的としてはこ
れらのオゾンを多量に含有する水を物品特に食器の殺菌
に利用することを目的とするものである。
特にビルに適応する浄化方法を提供することを第１の目
的とし、オゾンの発生装置は電解法によるものとなし、
更に、天然石と活性炭とを利用し、殺菌効果としては紫
外線を利用したもので、大量の水の浄化に適し、且つ、
コンパクトな装置とすることができるシステｌ＼を提供
することを一つの目的とし、他の一つの目的としてはこ
れらのオゾンを多量に含有する水を物品特に食器の殺菌
に利用することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
次に本発明の方式について説明する。
水槽に溜められた水は前記水槽の底部より、装置内に設
けられた供給ポンプにより吸引され、装置内に入り、オ
ゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と共に混入し、
溶存物質を酸化し、低分子化を行い、これら高オゾン含
有水は吸着槽に移送され、活性炭によって異臭等を吸着
され、更に、天然石によってミネラルの溶出を行い、次
に紫外線殺菌高度処理槽に入り、殺菌され、最後に、流
量に応じて塩素が注入され、給水に供され、給水が行わ
れない場合は水槽と本装置との間で水が循環され得るよ
うになし、更にこれらの方式中において、電気的切替に
より、前記オゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と
共に混入した水を物品の消毒をする工程に給水され得る
ようなし、或は又前記紫外線殺菌高度処理槽に入り、殺
菌された水に更にオゾンを注入して物品の消毒をする工
程に給水され得るようになしたものである。
けられた供給ポンプにより吸引され、装置内に入り、オ
ゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と共に混入し、
溶存物質を酸化し、低分子化を行い、これら高オゾン含
有水は吸着槽に移送され、活性炭によって異臭等を吸着
され、更に、天然石によってミネラルの溶出を行い、次
に紫外線殺菌高度処理槽に入り、殺菌され、最後に、流
量に応じて塩素が注入され、給水に供され、給水が行わ
れない場合は水槽と本装置との間で水が循環され得るよ
うになし、更にこれらの方式中において、電気的切替に
より、前記オゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と
共に混入した水を物品の消毒をする工程に給水され得る
ようなし、或は又前記紫外線殺菌高度処理槽に入り、殺
菌された水に更にオゾンを注入して物品の消毒をする工
程に給水され得るようになしたものである。
また、好ましくは、オゾン発生装置のオゾン発生電解水
と電解室冷却水は高度処理槽から供水され、これらの水
は冷却後、余剰分冷却水として外部に排出することな（
利用し、これに発生オゾンを混気し、この水を給水循環
ポンプ入口前に注入し得る構成となし、且つ、電解槽へ
の冷却水の逆流を防止する為の逆止弁を設け、給水循環
ポンプの停止時にはこれに対応してオゾン発生装置を停
止させ、ガスの発生を停止させる構成とすることであり
、又、紫外線殺菌高度処理槽は紫外線ランプの外側にほ
ぼ２ｍｍ程度の間隙を設けて石英管を設け、更にその外
側に適正な大きさの外套を設置し、これらの上下端に前
記石英管を貫挿し得る貫通孔を設けた上蓋と下蓋を被せ
、前記両差と石英管との間に０リングを設け、更に、紫
外線ランプの両端を押圧する冠状蓋を夫々電線を貫通さ
せて被冠し、これを前記上蓋と下蓋とに簡易ボルト止め
すると共に、両０リングをおさえ得る構成とすることで
あり、更に、塩素濃度を均一化し、塩素濃度センサーに
より濃度を調整し得るように、塩素注入装置は中央部が
大径の膨室部となし、該膨室部の両端部に多孔板を設置
し、塩素注入をこの膨室部の前方で行うことである。
と電解室冷却水は高度処理槽から供水され、これらの水
は冷却後、余剰分冷却水として外部に排出することな（
利用し、これに発生オゾンを混気し、この水を給水循環
ポンプ入口前に注入し得る構成となし、且つ、電解槽へ
の冷却水の逆流を防止する為の逆止弁を設け、給水循環
ポンプの停止時にはこれに対応してオゾン発生装置を停
止させ、ガスの発生を停止させる構成とすることであり
、又、紫外線殺菌高度処理槽は紫外線ランプの外側にほ
ぼ２ｍｍ程度の間隙を設けて石英管を設け、更にその外
側に適正な大きさの外套を設置し、これらの上下端に前
記石英管を貫挿し得る貫通孔を設けた上蓋と下蓋を被せ
、前記両差と石英管との間に０リングを設け、更に、紫
外線ランプの両端を押圧する冠状蓋を夫々電線を貫通さ
せて被冠し、これを前記上蓋と下蓋とに簡易ボルト止め
すると共に、両０リングをおさえ得る構成とすることで
あり、更に、塩素濃度を均一化し、塩素濃度センサーに
より濃度を調整し得るように、塩素注入装置は中央部が
大径の膨室部となし、該膨室部の両端部に多孔板を設置
し、塩素注入をこの膨室部の前方で行うことである。
［作 用］
本発明は以上のような方式でこれが使用に際しては、水
を使用している間においては、先ず水槽に溜められた水
は、前記水槽の底部に設けられた管より、装置内に設け
られた供給循環ポンプにより吸引されて、装置内に入り
、オゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と共に混入
され、溶存物質の酸化低分子化を行い、オゾンにより、
臭気、微量有機物、塩素化合物を低分子化し、これら高
オゾン含有水は吸着槽に移送され、活性炭により異臭等
を吸着され、さらに天然石によってミネラルの溶出を行
い、臭気残留塩素の吸着除去、雑菌類繁殖抑制等を行い
、浄化され、次に、紫外線殺菌高度処理槽に入り、紫外
線によって菌細胞内の核蛋白の分子構造を変化または分
解し、菌の新陳代謝に障書を生じさせ、増殖力を失わせ
、照射エネルギーを大にすることによって、細胞破壊を
生じさせ、菌を死滅させて殺菌され、最後に、流量に応
じて塩素が注入され、給水に供されるものであり、また
、給水が行われない場合は水槽と本装置との間で上水が
循環され得るようにしたものである。
を使用している間においては、先ず水槽に溜められた水
は、前記水槽の底部に設けられた管より、装置内に設け
られた供給循環ポンプにより吸引されて、装置内に入り
、オゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と共に混入
され、溶存物質の酸化低分子化を行い、オゾンにより、
臭気、微量有機物、塩素化合物を低分子化し、これら高
オゾン含有水は吸着槽に移送され、活性炭により異臭等
を吸着され、さらに天然石によってミネラルの溶出を行
い、臭気残留塩素の吸着除去、雑菌類繁殖抑制等を行い
、浄化され、次に、紫外線殺菌高度処理槽に入り、紫外
線によって菌細胞内の核蛋白の分子構造を変化または分
解し、菌の新陳代謝に障書を生じさせ、増殖力を失わせ
、照射エネルギーを大にすることによって、細胞破壊を
生じさせ、菌を死滅させて殺菌され、最後に、流量に応
じて塩素が注入され、給水に供されるものであり、また
、給水が行われない場合は水槽と本装置との間で上水が
循環され得るようにしたものである。
更にこれらの方式中の配管に電磁弁を設けて、電気的切
替によって、前記オゾン発生装置から発生したオゾンを
圧力と共に混入した水を物品の消毒をする工程に給水さ
れ得るようなし、この殺菌で不足の場合は、前記紫外線
殺菌高度処理槽に入り、殺菌された水に更にオゾンを注
入して物品の消毒をする工程に給水され得るようになし
たものである。このように物品の消毒に利用する場合、
例えば、食品工場において食器の消毒に利用すれば、洗
剤を利用するのとは異なり公害の問題はなく、極めて大
きな効果が−」二がるものである。
替によって、前記オゾン発生装置から発生したオゾンを
圧力と共に混入した水を物品の消毒をする工程に給水さ
れ得るようなし、この殺菌で不足の場合は、前記紫外線
殺菌高度処理槽に入り、殺菌された水に更にオゾンを注
入して物品の消毒をする工程に給水され得るようになし
たものである。このように物品の消毒に利用する場合、
例えば、食品工場において食器の消毒に利用すれば、洗
剤を利用するのとは異なり公害の問題はなく、極めて大
きな効果が−」二がるものである。
従って、本発明の方式は、給水中も給水がされない場合
も常に水が浄化装置内を通過しているものであるから、
水の浄化の効果は大きい。
も常に水が浄化装置内を通過しているものであるから、
水の浄化の効果は大きい。
更に、前記のように食品加工工場等に設置した場合は食
器の殺菌に極めて簡易に利用出来、且つ充分な効果が期
待し得るものである。
器の殺菌に極めて簡易に利用出来、且つ充分な効果が期
待し得るものである。
勿論食器の消毒のみに限定するものではないことは云う
迄もないことである。
迄もないことである。
また、オゾン発生装置のシステムを前記のようにするこ
とにより、処理水の無駄を省くことが出来ると共に、発
生オゾンの完全な利用が出来、また安全に利用出来るも
のであると共に、紫外線殺菌高度処理槽も紫外線ランプ
の取替えとが極めて容易となり、殺菌力も向上するもの
で、更に、塩素注入部の構成によって塩素が水中に充分
混合されるものである。
とにより、処理水の無駄を省くことが出来ると共に、発
生オゾンの完全な利用が出来、また安全に利用出来るも
のであると共に、紫外線殺菌高度処理槽も紫外線ランプ
の取替えとが極めて容易となり、殺菌力も向上するもの
で、更に、塩素注入部の構成によって塩素が水中に充分
混合されるものである。
尚、上記の水は上水が好ましいがこれに代わり得る水で
あれば上水に限定するものではない。
あれば上水に限定するものではない。
［実施例］
次に本発明について、一実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
水槽１等に溜められた水は前記水槽１の底部より、装置
２内に設けられた供給循環ポンプ３により吸引されて、
装置２内に入り、電解法によるオゾン発生装置４から発
生したオゾンを圧力と共に混入され、溶存物質の酸化低
分子化を行い、オゾンによって、臭気、微量有機物、塩
素化合物を低分子化し、次の活性炭によって異臭等が吸
着され易くし、その後吸着槽５に移送され、該吸着槽５
内の活性炭に前記異臭等が吸着され、更に天然石によっ
てミネラルの微量溶出を行い、臭気残留塩素の吸着除去
、雑菌類の繁殖抑制等を行い、次に紫外線殺菌高度処理
槽６に入る。この時、水は充分な照射を得るようにラン
プの回りを渦巻状に流れるように、前記槽内６に切線方
向に流入し得るようになっていることが好ましい。また
この紫外線殺菌高度処理槽６の紫外線ランプは殺菌作用
が最も強い波長２６０ｎｍ付近の紫外線エネルギーを利
用している。このようにして殺菌された水は、最後に、
制御機構７を有する塩素注入装置８によって流量に応じ
て塩素が注入される。この場合の塩素の量は厚生省の水
道法の最低必要量（０，１〜０゜３ｐｐｍ）を注入し、
給水に供され、給水が行われない場合は水槽１と本装置
２との間で上水が循環され得るようにしたものである。
２内に設けられた供給循環ポンプ３により吸引されて、
装置２内に入り、電解法によるオゾン発生装置４から発
生したオゾンを圧力と共に混入され、溶存物質の酸化低
分子化を行い、オゾンによって、臭気、微量有機物、塩
素化合物を低分子化し、次の活性炭によって異臭等が吸
着され易くし、その後吸着槽５に移送され、該吸着槽５
内の活性炭に前記異臭等が吸着され、更に天然石によっ
てミネラルの微量溶出を行い、臭気残留塩素の吸着除去
、雑菌類の繁殖抑制等を行い、次に紫外線殺菌高度処理
槽６に入る。この時、水は充分な照射を得るようにラン
プの回りを渦巻状に流れるように、前記槽内６に切線方
向に流入し得るようになっていることが好ましい。また
この紫外線殺菌高度処理槽６の紫外線ランプは殺菌作用
が最も強い波長２６０ｎｍ付近の紫外線エネルギーを利
用している。このようにして殺菌された水は、最後に、
制御機構７を有する塩素注入装置８によって流量に応じ
て塩素が注入される。この場合の塩素の量は厚生省の水
道法の最低必要量（０，１〜０゜３ｐｐｍ）を注入し、
給水に供され、給水が行われない場合は水槽１と本装置
２との間で上水が循環され得るようにしたものである。
一ヒ記オゾン発生装置４は電解槽１３と純水器１４とで
構成されており、オゾン発生電解水と電解室冷却水は高
度処理槽から給水され、これらの水は冷却後余剰分冷却
水として外部に排出することなく利用し、これに発生オ
ゾンを混入し、給水循ＦＷポンプ３人口前に注入し、吸
引された水が前記給水循環ポンプ３によりオゾンと水が
撹拌接触され溶存物質を酸化、低分子化し得る構成とな
し、且つまた、電解槽１３への水の逆止弁１５を設け、
給水循環ポンプ３の停止時にはこれに対応してオゾン発
生装置４を停止させ、ガスの発生を停止させる構成とす
ることが好ましい、また、紫外線殺菌高度処理槽６は紫
外線ランプ１６の外側にほぼ２ｍｍ程度の間隙を設けて
石英管１７を設け、更にその外側に適正な大きさの外套
１７を設置し、これらの上下端に前記石英管１７を貫挿
し得る貫通孔を設けた上蓋１８と下蓋１９を被せ、前記
両差１８．１９と石英管１７との間に０リング２０を設
け、更に、紫外線ランプ１６の両端を押圧する冠状蓋２
１．２２を夫々電線を貫通させて被冠し、之を前記上蓋
１８と下蓋１９とにボルト止めすると共に、両Ｏリング
２０・をおさえ得る構成とする。
構成されており、オゾン発生電解水と電解室冷却水は高
度処理槽から給水され、これらの水は冷却後余剰分冷却
水として外部に排出することなく利用し、これに発生オ
ゾンを混入し、給水循ＦＷポンプ３人口前に注入し、吸
引された水が前記給水循環ポンプ３によりオゾンと水が
撹拌接触され溶存物質を酸化、低分子化し得る構成とな
し、且つまた、電解槽１３への水の逆止弁１５を設け、
給水循環ポンプ３の停止時にはこれに対応してオゾン発
生装置４を停止させ、ガスの発生を停止させる構成とす
ることが好ましい、また、紫外線殺菌高度処理槽６は紫
外線ランプ１６の外側にほぼ２ｍｍ程度の間隙を設けて
石英管１７を設け、更にその外側に適正な大きさの外套
１７を設置し、これらの上下端に前記石英管１７を貫挿
し得る貫通孔を設けた上蓋１８と下蓋１９を被せ、前記
両差１８．１９と石英管１７との間に０リング２０を設
け、更に、紫外線ランプ１６の両端を押圧する冠状蓋２
１．２２を夫々電線を貫通させて被冠し、之を前記上蓋
１８と下蓋１９とにボルト止めすると共に、両Ｏリング
２０・をおさえ得る構成とする。
上記の塩素注入装置８は塩素の混合を良くするために、
木管の塩素注入部より後に位置する部分の径を大とし、
その膨室部２３の前部と後部に多孔板２４．２５を設け
、中央部において、水の流れが乱流になるように設計し
、塩素の混合が円滑に行われるようにすることが好まし
い。
木管の塩素注入部より後に位置する部分の径を大とし、
その膨室部２３の前部と後部に多孔板２４．２５を設け
、中央部において、水の流れが乱流になるように設計し
、塩素の混合が円滑に行われるようにすることが好まし
い。
このように構成することにより、塩素濃度センサーを前
記膨室部２３の直後に設置することができるため、塩素
濃度の調整を自動的に且つ時間的遅れが少なくできるも
のである。
記膨室部２３の直後に設置することができるため、塩素
濃度の調整を自動的に且つ時間的遅れが少なくできるも
のである。
更に、適宜の配管に電磁弁１２・・を設け、電解法によ
るオゾン発生装置４から発生したオゾンを圧力と共に混
入された配管より更に分枝配管し、これを物品の消毒に
使用し得るように構成し、更に、この水の殺菌処理が不
十分な場合には、前言己紫外線殺菌高度処理槽６に入り
、殺菌された配管より分枝配管させ、この水にオゾンを
吸入させ得るようになしたものである。この場合、物品
としては食器等が好ましくこの装置を食品加工工場等に
設置することが好ましい。
るオゾン発生装置４から発生したオゾンを圧力と共に混
入された配管より更に分枝配管し、これを物品の消毒に
使用し得るように構成し、更に、この水の殺菌処理が不
十分な場合には、前言己紫外線殺菌高度処理槽６に入り
、殺菌された配管より分枝配管させ、この水にオゾンを
吸入させ得るようになしたものである。この場合、物品
としては食器等が好ましくこの装置を食品加工工場等に
設置することが好ましい。
以上のような構成中において、ポンプの作動が停止した
場合、バイパスに依って供給が自動的に行われるように
なっていることが好まし、い。
場合、バイパスに依って供給が自動的に行われるように
なっていることが好まし、い。
尚、図面において、９は塩素注入濃度監視機構であり、
１０は給水が行われない時の水の流れの方法を示す矢印
で、１１は給水時の水の流れの方向を示す矢印である。
１０は給水が行われない時の水の流れの方法を示す矢印
で、１１は給水時の水の流れの方向を示す矢印である。
また、給水循環ポンプ３および塩素注入濃度監視機構９
は電話回線による監視機構を有し、本装置は常に２４時
間体制で完全に監視できるものである。
は電話回線による監視機構を有し、本装置は常に２４時
間体制で完全に監視できるものである。
この場合、上記水槽ｌとは、既に設置されている水槽及
び、装置と一体的に組み合わされている水槽等を含めた
ものを指し、また、既に設置されている水槽と本装置と
の組合わせ、或はまた、新しくビルを建設されるときは
本装置と水槽とを一体的に組合わせた方式を使用する等
種々の方式が考えられるものである。
び、装置と一体的に組み合わされている水槽等を含めた
ものを指し、また、既に設置されている水槽と本装置と
の組合わせ、或はまた、新しくビルを建設されるときは
本装置と水槽とを一体的に組合わせた方式を使用する等
種々の方式が考えられるものである。
［発明の効果］
本発明は以上のような方式であるから、オゾンの供給が
多く、大量の水の浄化が容易にでき、且つまた、給水中
も給水がされない場合も常に水が浄化装置内を通過して
いるものであるから、水の浄化の効果は大きいもので、
更に、物品の消毒にも利用出来、特に食品加工工場等に
設置した場合は食器の殺菌に極めて簡易、安全に利用出
来、且つまた、洗剤を利用するのとは異なり公害の問題
はなく、極めて大きな効果が期待し得るものであり、ま
た、オゾン発生装置のシステムを前記のようにすること
により、処理水の無駄を省くことが出来ると共に、発生
オゾンの完全な利用が出来、また安全に利用出来るもの
であると共に、紫外線殺菌高度処理槽も紫外線ランプの
取替えや保守管理等が極めて容易となり、殺菌力も向上
するもので、更に、塩素注入部の構成によって塩素が水
中に充分混合されるものである。
多く、大量の水の浄化が容易にでき、且つまた、給水中
も給水がされない場合も常に水が浄化装置内を通過して
いるものであるから、水の浄化の効果は大きいもので、
更に、物品の消毒にも利用出来、特に食品加工工場等に
設置した場合は食器の殺菌に極めて簡易、安全に利用出
来、且つまた、洗剤を利用するのとは異なり公害の問題
はなく、極めて大きな効果が期待し得るものであり、ま
た、オゾン発生装置のシステムを前記のようにすること
により、処理水の無駄を省くことが出来ると共に、発生
オゾンの完全な利用が出来、また安全に利用出来るもの
であると共に、紫外線殺菌高度処理槽も紫外線ランプの
取替えや保守管理等が極めて容易となり、殺菌力も向上
するもので、更に、塩素注入部の構成によって塩素が水
中に充分混合されるものである。
第１図は本発明の原理的な流れ図、第２図は同本発明の
構成要部の一つであるオゾン発生装置に関連する要部の
配管図、第３図は同じく本発明の構成要部の一つである
紫外線殺菌高度処理槽の正面図で一部を切断する、第４
図は同紫外線殺菌高度処理槽の要部の拡大断面図、第５
図は同本発明の構成要部の−っである塩素混合部の拡大
図。 １ ・ ２ ・ ３ ・ ４ ・ ５ ・ ６ ・ ８ ・ １３・ １６・ Ｉ７・ １８・ １９・ ２０・ ２３・ ２４゜ ・・水槽 ・装置 ・・供給循環ポンプ ・・オゾン発生装置 ・吸着槽 ・紫外線殺菌高度処理槽 ・・塩素注入装置 ・・電解槽 ・紫外線ランプ ・・石英管 ・・上蓋 ・・下蓋 ・・０リング ２２・・・冠状蓋 ・膜室部 ２５・・・多孔板。 第２図 第５図 第３図 第４図
構成要部の一つであるオゾン発生装置に関連する要部の
配管図、第３図は同じく本発明の構成要部の一つである
紫外線殺菌高度処理槽の正面図で一部を切断する、第４
図は同紫外線殺菌高度処理槽の要部の拡大断面図、第５
図は同本発明の構成要部の−っである塩素混合部の拡大
図。 １ ・ ２ ・ ３ ・ ４ ・ ５ ・ ６ ・ ８ ・ １３・ １６・ Ｉ７・ １８・ １９・ ２０・ ２３・ ２４゜ ・・水槽 ・装置 ・・供給循環ポンプ ・・オゾン発生装置 ・吸着槽 ・紫外線殺菌高度処理槽 ・・塩素注入装置 ・・電解槽 ・紫外線ランプ ・・石英管 ・・上蓋 ・・下蓋 ・・０リング ２２・・・冠状蓋 ・膜室部 ２５・・・多孔板。 第２図 第５図 第３図 第４図
Claims (4)
- （１）水槽等に溜められた水は前記水槽の底部より、装
置内に設けられた供給ポンプにより吸引されて、装置内
に入り、オゾン発生装置から発生したオゾンを給水循環
ポンプに注入し、撹拌接触、圧力と共に混入し、溶存物
質を酸化し、低分子化を行い、この高オゾン含有水は吸
着槽に移送され、活性炭によって異臭を吸着させ、更に
天然石によってミネラルの溶出を行い、次に紫外線殺菌
高度処理槽に入り、殺菌され、最後に、水槽の流量に応
じて塩素が注入され、給水に供され、或は、給水が行わ
れない場合は水槽と本装置との間で水が循環され得るよ
うになし、更にこれらの方式中に於て電気的切替により
、前記オゾン発生装置から発生したオゾンを圧力と共に
混入した水を物品の消毒をする工程に給水し得るような
し、或は又前記紫外線殺菌高度処理槽に入り、殺菌され
た水に更にオゾンを注入して物品の消毒をする工程に給
水し得るようになしたことを特徴とする水の浄化法。 - （２）第１項記載のオゾン発生装置のオゾン発生電解水
と電解室冷却水は高度処理水から供水され、これらの水
は冷却後余剰分冷却水として外部に排出することなく利
用し、これに発生オゾンを混入し、給水循環ポンプ入口
前に注入し、吸引された水がポンプによりオゾンと水の
撹拌接触され溶存物質を酸化、低分子化し得る構成とな
し、且つ、電解槽への冷却水の逆流防止用の逆止弁を設
け、給水循環ポンプの停止時にはこれに対応してオゾン
発生装置を停止させ、ガスの発生を停止させると共に、
必要オゾン量は電気的調節が出来る構成としたことを特
徴とする水の浄化法。 - （３）第１項記載の紫外線殺菌高度処理槽は紫外線ラン
プの外側にほぼ２ｍｍ程度の間隙を設けて石英管を設け
、更にその外側に適正な大きさの外套を設置し、これら
の上下端に前記石英管を貫挿し得る貫通孔を設けた上蓋
と下蓋を被せ、前記両蓋と石英管との間にＯリングを設
け、更に、紫外線ランプの両端を押圧する冠状蓋を夫々
電線を貫通させて被冠し、之を前記上蓋と下蓋とにボル
ト止めすると共に、両Ｏリングをおさえ得る構成とした
ことを特徴とする水の浄化法。 - （４）第１項記載の塩素注入をする塩素注入装置は中央
部が大径の膨室部となし、該膨室部の両端部に多孔板を
設置し、塩素注入をこの膨室部の前方で行うことにより
塩素濃度の均一化と塩素濃度センサーにより濃度を調整
し得ることを特徴とする水の浄化法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26866790A JPH0651190B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 水の浄化法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26866790A JPH0651190B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 水の浄化法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04145997A true JPH04145997A (ja) | 1992-05-19 |
| JPH0651190B2 JPH0651190B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=17461725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26866790A Expired - Fee Related JPH0651190B2 (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 水の浄化法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0651190B2 (ja) |
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-
1990
- 1990-10-05 JP JP26866790A patent/JPH0651190B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH0651190B2 (ja) | 1994-07-06 |
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