JPH04137444A - 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ質量分析計Info
- Publication number
- JPH04137444A JPH04137444A JP2259601A JP25960190A JPH04137444A JP H04137444 A JPH04137444 A JP H04137444A JP 2259601 A JP2259601 A JP 2259601A JP 25960190 A JP25960190 A JP 25960190A JP H04137444 A JPH04137444 A JP H04137444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gate valve
- ion
- chamber
- ion lens
- electrically
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000008878 coupling Effects 0.000 title 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 title 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 title 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 title 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 claims description 10
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004904 shortening Methods 0.000 abstract 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 47
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高周波誘導コイルに高周波エネルギを供給し
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ該プラズマを利用して試料中の被測定元素を分析する
高周波誘導結合プラズマ質量分析計(以下、rICP−
MS、という)に間し、更に詳しくは、ゲートバルブに
イオンレンズの機能をもたせイオンの透過率を向上させ
たICP−MSに関する。
高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさ
せ該プラズマを利用して試料中の被測定元素を分析する
高周波誘導結合プラズマ質量分析計(以下、rICP−
MS、という)に間し、更に詳しくは、ゲートバルブに
イオンレンズの機能をもたせイオンの透過率を向上させ
たICP−MSに関する。
〈従来の技術〉
第2図は、ICP−MSの一般的な構成説明図である。
この図において、プラズマトーチ1の外室1bと最外室
ICにはガス調節器2を介してアルゴンガス供給源3か
らアルゴンガスが供給され、内室1aには試料導入装置
4内の固体試料がレーザ光源5から照射されたレーザ光
によって気化されてのちキャリアガスであるアルゴンガ
スによって搬入されるようになっている。尚、試料が液
体の場合は、第2図の試料導入装置4とレーザ光源5が
除去され、導入される液体試料を霧化してプラズマトー
チ1の内室1aに供給するネブライザが装着される。ま
た、試料は固体であることよりも液体であることが多い
。
ICにはガス調節器2を介してアルゴンガス供給源3か
らアルゴンガスが供給され、内室1aには試料導入装置
4内の固体試料がレーザ光源5から照射されたレーザ光
によって気化されてのちキャリアガスであるアルゴンガ
スによって搬入されるようになっている。尚、試料が液
体の場合は、第2図の試料導入装置4とレーザ光源5が
除去され、導入される液体試料を霧化してプラズマトー
チ1の内室1aに供給するネブライザが装着される。ま
た、試料は固体であることよりも液体であることが多い
。
更に、プラズマトーチ1に巻回された高周波誘導コイル
6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる
。
6には高周波電源10によって高周波電流が流され、該
コイル6の周囲に高周波磁界(図示せず)が形成されて
いる。この状態で上記高周波磁界の近傍でアルゴンガス
中に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の
作用によって瞬時に高周波誘導結合プラズマ7が生ずる
。
また、ノズル8とスキマー9に挟まれたフォアチェンバ
ー11内は、真空ポンプ12によって例えばI T o
r r 、に吸引されている。更に、センターチェン
バー13内には、アパーチャーレンズ14b、四重後レ
ンズ14C9及びアパーチャー14dが設けられると共
に、該センターチェンバー13の内部は第1油拡散ポン
プ15によって例えば10−’Torr、に吸引され、
エントランスレンズ14eと四重径マスフィルタ16を
収容しているリアチェンバー17内は第2油拡散ポンプ
18によって例えば10−’Torr、に吸引されてい
る。尚、スキマー9の後方には引出し電極14aが配置
されている。
ー11内は、真空ポンプ12によって例えばI T o
r r 、に吸引されている。更に、センターチェン
バー13内には、アパーチャーレンズ14b、四重後レ
ンズ14C9及びアパーチャー14dが設けられると共
に、該センターチェンバー13の内部は第1油拡散ポン
プ15によって例えば10−’Torr、に吸引され、
エントランスレンズ14eと四重径マスフィルタ16を
収容しているリアチェンバー17内は第2油拡散ポンプ
18によって例えば10−’Torr、に吸引されてい
る。尚、スキマー9の後方には引出し電極14aが配置
されている。
この状態で高周波誘導結合プラズマ中に上述のようにし
て気化された試料が導入され、イオン化や発光が行われ
る。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8とスキマ〜9
を経由してのち引出しt ’f114aとイオンレンズ
系4b〜14eを通って収束され、四重径マスフィルタ
16に導入される。
て気化された試料が導入され、イオン化や発光が行われ
る。該プラズマ7内のイオンは、ノズル8とスキマ〜9
を経由してのち引出しt ’f114aとイオンレンズ
系4b〜14eを通って収束され、四重径マスフィルタ
16に導入される。
四′j!!L極マスフィルタ16に入ったイオンのうち
目的の質量電荷比のイオンだけが、通過し二次電子増倍
管19に導かれて検出される。この検出信号が信号処理
部20に送出されて演算・処理されることによって、前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。
目的の質量電荷比のイオンだけが、通過し二次電子増倍
管19に導かれて検出される。この検出信号が信号処理
部20に送出されて演算・処理されることによって、前
記試料中の被測定元素分析値が求められるようになって
いる。
一方、第3図は第2図の一部拡大図であって従来例の要
部を示す図であり、図中、21はハウジングが金属で構
成されると共に電位が各チェンバー11.13.17と
同様アース電位に保たれているゲートバルブである。ま
た、ゲートバルブ21は次のような必要性があるため設
けられている。
部を示す図であり、図中、21はハウジングが金属で構
成されると共に電位が各チェンバー11.13.17と
同様アース電位に保たれているゲートバルブである。ま
た、ゲートバルブ21は次のような必要性があるため設
けられている。
即ち、ICP−MSの質量分析計部分やイオンレンズ系
14 b 〜14 eは高真空(10″4〜104to
rr、以下の真空)の下で動作させることが必要であり
、分析しないときであっても真空ポンプを動作させて真
空チェンバーを高真空にしておくことが必要である。こ
のため、非分析時(例えばスタンバイ時など)にはフォ
アチェンバー11とセンターチェンバー13の連通を遮
断し、分析時にはフォアチェンバー11とセンターチェ
ンバー13を連通させることが必要である。
14 b 〜14 eは高真空(10″4〜104to
rr、以下の真空)の下で動作させることが必要であり
、分析しないときであっても真空ポンプを動作させて真
空チェンバーを高真空にしておくことが必要である。こ
のため、非分析時(例えばスタンバイ時など)にはフォ
アチェンバー11とセンターチェンバー13の連通を遮
断し、分析時にはフォアチェンバー11とセンターチェ
ンバー13を連通させることが必要である。
〈発明が解決しようとする問題点〉
然しながら、上記従来例においては、引出し電極14a
とイオンレンズ糸14b〜14eの間隔が大きくなると
、イオンビームが細く維持できずに発散する傾向が大と
なり、その結果、イオンの透過率が低下して究極的にI
CP−MSとしての感度が低下するという欠点があった
。
とイオンレンズ糸14b〜14eの間隔が大きくなると
、イオンビームが細く維持できずに発散する傾向が大と
なり、その結果、イオンの透過率が低下して究極的にI
CP−MSとしての感度が低下するという欠点があった
。
また、イオンビームが一旦発散するとイオンレンズ系1
4b〜14eで再び収束させようとしても、イオンレン
ズに入るイオンの数が大きく減少するなめ、イオンレン
ズ系14b〜14e全体のイオン透過効率は大きく低下
するという欠点もあった。
4b〜14eで再び収束させようとしても、イオンレン
ズに入るイオンの数が大きく減少するなめ、イオンレン
ズ系14b〜14e全体のイオン透過効率は大きく低下
するという欠点もあった。
本発明は、かかる状況に鑑みてなされものであり、その
課題は、ゲートバルブにイオンレンズの機能をもたせイ
オンの透過率を向上させて分析感度を改善したTCP−
MSを提供することにある。
課題は、ゲートバルブにイオンレンズの機能をもたせイ
オンの透過率を向上させて分析感度を改善したTCP−
MSを提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
本発明は、ICP−MSにおいて、センターチェンバー
とゲートバルブを電気的に絶縁する第1の絶縁体と、フ
ォアチェンバーとゲートバルブを電気的に絶縁する第2
の絶縁体と、前記ゲートバルブに電圧を印加する可変電
圧電源とを設け、前記ゲートバルブを前記センターチェ
ンバーやフォアチェンバーから電気的に絶縁すると共に
前記ゲートバルブに所定の電圧を印加して前記ゲートバ
ルブにイオンレンズの機能をもたせたことにある。
とゲートバルブを電気的に絶縁する第1の絶縁体と、フ
ォアチェンバーとゲートバルブを電気的に絶縁する第2
の絶縁体と、前記ゲートバルブに電圧を印加する可変電
圧電源とを設け、前記ゲートバルブを前記センターチェ
ンバーやフォアチェンバーから電気的に絶縁すると共に
前記ゲートバルブに所定の電圧を印加して前記ゲートバ
ルブにイオンレンズの機能をもたせたことにある。
〈実施例〉
以下、本発明について図を用いて詳細に説明する。第1
図は本発明実施例の要部構成説明図であリ、図中、第3
図と同一記号は同一意味をもたせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、22aはセンターチェンバー1
3とゲートバルブ21を電気的に絶縁する絶縁体、22
bはフォアチェンバー13とゲートバルブ21を電気的
に絶縁する絶縁体、23はゲートバルブ21に電圧を印
加する可変電圧を源である。尚、フォアチェンバ11と
センターチェンバー13は電気的に導通されている。ま
た、絶縁体22a、22bはチェンバー13.11の内
側面からできるだけ見にくいように外側面の近くに装着
されていることが望ましい。
図は本発明実施例の要部構成説明図であリ、図中、第3
図と同一記号は同一意味をもたせて使用しここでの重複
説明は省略する。また、22aはセンターチェンバー1
3とゲートバルブ21を電気的に絶縁する絶縁体、22
bはフォアチェンバー13とゲートバルブ21を電気的
に絶縁する絶縁体、23はゲートバルブ21に電圧を印
加する可変電圧を源である。尚、フォアチェンバ11と
センターチェンバー13は電気的に導通されている。ま
た、絶縁体22a、22bはチェンバー13.11の内
側面からできるだけ見にくいように外側面の近くに装着
されていることが望ましい。
このような要部構成からなる本発明の実施例において、
分析開始前の所謂スタンバイ時には、可変電圧電源23
からゲートバルブ21に印加される電圧が零とされてゲ
ートバルブ21が第1図の破線で示すように閉となり、
ゲートバルブ21がセンターチェンバー13とフォアチ
ェンバー11の連通を遮断する役割を果たす。
分析開始前の所謂スタンバイ時には、可変電圧電源23
からゲートバルブ21に印加される電圧が零とされてゲ
ートバルブ21が第1図の破線で示すように閉となり、
ゲートバルブ21がセンターチェンバー13とフォアチ
ェンバー11の連通を遮断する役割を果たす。
一方、分析時には、可変電圧電源23からゲートバルブ
21に所定の電圧が印加され、ゲートバルブ21が第1
図の実線で示すように開となり、ゲートバルブ21がイ
オンレンズとして機能するようになる。このため、IC
P−MSの機能上、引出し電極14aとイオンレンズ1
4bの距離が短縮化されたようになる。よって、イオン
レンズ系を構成するレンズの数が1枚増加したのと同様
となり、イオンレンズ系の調整の自由度が1つ増えイオ
ンレンズを緻密に調整できるようになる。
21に所定の電圧が印加され、ゲートバルブ21が第1
図の実線で示すように開となり、ゲートバルブ21がイ
オンレンズとして機能するようになる。このため、IC
P−MSの機能上、引出し電極14aとイオンレンズ1
4bの距離が短縮化されたようになる。よって、イオン
レンズ系を構成するレンズの数が1枚増加したのと同様
となり、イオンレンズ系の調整の自由度が1つ増えイオ
ンレンズを緻密に調整できるようになる。
従って、ゲートバルブ21を設けることによってICP
−MSが若干大型化することなどはなんら問題とならな
い、尚、可変電圧電源23からゲートバルブ21に印加
される電圧は、手動若しくはコンピュータなどで制御可
能である。
−MSが若干大型化することなどはなんら問題とならな
い、尚、可変電圧電源23からゲートバルブ21に印加
される電圧は、手動若しくはコンピュータなどで制御可
能である。
このようにゲートバルブ21がイオンレンズとして機能
し、引出し電極14aとイオンレンズ14bの距離が短
縮化されたと同様の効果が得られるため、引出し電極1
4aを通過したイオンビームが発散したとしても、イオ
ンレンズとして機能するゲートバルブ21で再び細く絞
ることがことができる。このため、引出し電極14aと
イオンレンズ14bの距離が大でイオンビームが発散し
たのち再び収束させてもイオンレンズに入るイオン数が
大きく減少していた前記従来例に比し、イオンビーム発
散時のイオンのロスが激減し、その結果、イオンレンズ
系14b〜14e全体のイオン透過効率が大きく改善さ
れるようになる。
し、引出し電極14aとイオンレンズ14bの距離が短
縮化されたと同様の効果が得られるため、引出し電極1
4aを通過したイオンビームが発散したとしても、イオ
ンレンズとして機能するゲートバルブ21で再び細く絞
ることがことができる。このため、引出し電極14aと
イオンレンズ14bの距離が大でイオンビームが発散し
たのち再び収束させてもイオンレンズに入るイオン数が
大きく減少していた前記従来例に比し、イオンビーム発
散時のイオンのロスが激減し、その結果、イオンレンズ
系14b〜14e全体のイオン透過効率が大きく改善さ
れるようになる。
尚、本発明実施例の他の部分の動作は、第2図を用いて
詳述した前記従来例の場合と同一であるためここでの重
複説明は省略する。また、本発明は上述の実施例に限定
されることなく種々の変形が可能であり、例えば、引出
し電極14aの後方に複数個のイオンレンズを配置して
イオンレンズ系の調整の自由度を更に向上させるたり、
ゲートバルブ21をイオンレンズ14bの代わりとし第
1図のイオンレンズ14bを除去するようにしても良い
ものとする。
詳述した前記従来例の場合と同一であるためここでの重
複説明は省略する。また、本発明は上述の実施例に限定
されることなく種々の変形が可能であり、例えば、引出
し電極14aの後方に複数個のイオンレンズを配置して
イオンレンズ系の調整の自由度を更に向上させるたり、
ゲートバルブ21をイオンレンズ14bの代わりとし第
1図のイオンレンズ14bを除去するようにしても良い
ものとする。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したように、本発明は、ICP−MSに
おいて、ゲートバルブをイオンレンズとして機能させ引
出し!極とイオンレンズの距離が短縮化されたと同様の
効果が得られるような構成であるため、引出し電極を通
過したイオンビームが発散したとしても、イオンレンズ
として機能するゲートバルブで再び細く絞ることがこと
ができるようになる。このため、引出し電極とイオンレ
ンズの距離が大でイオンビームが発散したのち再び収束
させてもイオンレンズに入るイオン数が大きく減少して
いた前記従来例に比し、イオンビーム発散時のイオンの
ロスが激減し、その結果、イオンレンズ系全体のイオン
透過効率が大きく改善され、究極的に、ゲートバルブに
イオンビームの機能をもたせイオンの透過率を向上させ
て分析感度を改善したICP−MSが実現する。
おいて、ゲートバルブをイオンレンズとして機能させ引
出し!極とイオンレンズの距離が短縮化されたと同様の
効果が得られるような構成であるため、引出し電極を通
過したイオンビームが発散したとしても、イオンレンズ
として機能するゲートバルブで再び細く絞ることがこと
ができるようになる。このため、引出し電極とイオンレ
ンズの距離が大でイオンビームが発散したのち再び収束
させてもイオンレンズに入るイオン数が大きく減少して
いた前記従来例に比し、イオンビーム発散時のイオンの
ロスが激減し、その結果、イオンレンズ系全体のイオン
透過効率が大きく改善され、究極的に、ゲートバルブに
イオンビームの機能をもたせイオンの透過率を向上させ
て分析感度を改善したICP−MSが実現する。
第1図は本発明実施例の要部構成説明図、第2図は高周
波誘導プラズマ質量分析装置の一般的な構成説明図、第
3図は従来例の要部構成説明図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、 6・・・・・・高周波誘導コイル、 7・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、8・・・・・
・ノズル、9・・・・・・スキマー 10・・・・・・
高周波電源11・・・・・・フォアチェンバー 13・・・・・・センターチェンバー 14a・・・・・・引出し電極、 14b〜14e・・・・・・イオンレンズ系、16・・
・・・・マスフィルタ、 17・・・・・・リアチェンバー、20・・・・・・信
号処理部、21・・・・・・ゲートバルブ、 22a、22b・・・・・・絶縁体、 23・・・・・・可変電圧電源 第 図
波誘導プラズマ質量分析装置の一般的な構成説明図、第
3図は従来例の要部構成説明図である。 1・・・・・・プラズマトーチ、 6・・・・・・高周波誘導コイル、 7・・・・・・高周波誘導結合プラズマ、8・・・・・
・ノズル、9・・・・・・スキマー 10・・・・・・
高周波電源11・・・・・・フォアチェンバー 13・・・・・・センターチェンバー 14a・・・・・・引出し電極、 14b〜14e・・・・・・イオンレンズ系、16・・
・・・・マスフィルタ、 17・・・・・・リアチェンバー、20・・・・・・信
号処理部、21・・・・・・ゲートバルブ、 22a、22b・・・・・・絶縁体、 23・・・・・・可変電圧電源 第 図
Claims (1)
- 高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供給し高周波磁
界を形成して高周波誘導結合プラズマを生じさせ該プラ
ズマを利用して試料中の被測定元素を分析する高周波誘
導結合プラズマ質量分析計において、センターチェンバ
ーとゲートバルブを電気的に絶縁する第1の絶縁体と、
フオアチェンバーとゲートバルブを電気的に絶縁する第
2の絶縁体と、前記ゲートバルブに電圧を印加する可変
電圧電源とを具、し、前記ゲートバルブを前記センター
チェンバーやフォアチェンバーから電気的に絶縁すると
共に前記ゲートバルブに所定の電圧を印加して前記ゲー
トバルブにイオンレンズの機能をもたせたことを特徴と
する高周波誘導結合プラズマ質量分析計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2259601A JP2953010B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2259601A JP2953010B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04137444A true JPH04137444A (ja) | 1992-05-12 |
JP2953010B2 JP2953010B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=17336366
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2259601A Expired - Fee Related JP2953010B2 (ja) | 1990-09-28 | 1990-09-28 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2953010B2 (ja) |
-
1990
- 1990-09-28 JP JP2259601A patent/JP2953010B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2953010B2 (ja) | 1999-09-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5334834A (en) | Inductively coupled plasma mass spectrometry device | |
JP2516840B2 (ja) | プラズマ質量分析計 | |
JP3160050B2 (ja) | 質量分析計 | |
US20020089332A1 (en) | Probe assembly for detecting an ion in a plasma generated in an ion source | |
JPH04137444A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JP2000164169A (ja) | 質量分析計 | |
JPH04137448A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JP2956139B2 (ja) | 四重極マスフィルタ | |
JP2792140B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH0465059A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
JP3136567B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH0431759A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ分析装置 | |
JPS62202450A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 | |
JPH0638372Y2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
JPH05242859A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH04137446A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH04137447A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH04104449A (ja) | 高周波誘導プラズマ質量分析計 | |
JPH05242860A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JP2926949B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH04137449A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JP3123654B2 (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 | |
JPH11297266A (ja) | 質量分析計およびイオン源 | |
JPS5836818B2 (ja) | スパッタ中性粒子質量分析計 | |
JPH05275055A (ja) | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |