JPH04136456U - ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター - Google Patents

ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター

Info

Publication number
JPH04136456U
JPH04136456U JP4828291U JP4828291U JPH04136456U JP H04136456 U JPH04136456 U JP H04136456U JP 4828291 U JP4828291 U JP 4828291U JP 4828291 U JP4828291 U JP 4828291U JP H04136456 U JPH04136456 U JP H04136456U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
quartz tube
immersion heater
heater
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4828291U
Other languages
English (en)
Inventor
治 拜田
Original Assignee
川崎製鉄株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 川崎製鉄株式会社 filed Critical 川崎製鉄株式会社
Priority to JP4828291U priority Critical patent/JPH04136456U/ja
Publication of JPH04136456U publication Critical patent/JPH04136456U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体の製造工程中ウェーハにウエット処理
を行う液槽の液体加熱用投げ込みヒーターの異常を早期
に検知し、交換できるようにする。 【構成】 投げ込みヒーターの石英管を気密とするとと
もに、その内に圧力センサーまたは温度センサーを発熱
体とともに封入し、石英管の破損や穴あきを圧力や温度
の変化として電気信号で取り出せる構成とした。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、半導体を製造する工程中ウェーハにウエット処理を行う液槽の液体 加熱用投げ込みヒーターに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来用いられているウェーハ処理装置用投げ込みヒーター(以下ヒーターと略 す)は、カンタル線などの発熱体を石英管に入れ、純水や薬液などの液体との接 触を防止した構造である。その際石英管両端は完全な気密状態ではない。 上記ヒーターを長時間使用していると、高温に加熱された発熱体の影響で石英 管にピンホールができ、石英管内に液が侵入する事故が起こる場合がある。特に 最近は自動化が進んでオペレータが装置に近づく機会が少なくなり、石英管が破 損した場合やピンホールが発生して管内に液が侵入した場合でも見逃されるケー スがあった。このような場合、ヒーターに用いられている金属がバルク薬液や純 水中に拡散し、浸漬されたウェーハを汚染する恐れがある。
【0003】 上記のような事故を防ぐため実開平2−2831号公報では以下のような提案 がされている。すなわち「ヒーターの発熱体を二重石英管の内管内に収め、内外 管の中間領域に減圧したヘリウムガスを封入する。このヘリウムガスの温度をモ ニターする手段を備えて、温度変化によって石英管の割れを検知する。また、外 管が割れた場合でもバルク液や純水を汚染することがない。」としている。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
しかし、二重管ではコスト高となり、また加熱が間接的で制御が難しいという 問題があった。また別の解決法としてはヒーターの交換を早めに行うという方法 があるが、この方法は確実でないうえにまだ使用しうるヒーターを取り替えなけ ればならないためコストが高くなるという問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本考案は、ウェーハにウェット処理を行う液槽の液体加熱用投げ込みヒータ ーであって、大気圧とは異なる圧力に保った石英管内に、発熱体とともに管内の 圧力変動を検知する圧力センサーを封入することを特長とするヒーターであり、 またウェーハにウェット処理を行う液槽の液体加熱用投げ込みヒータであって 、大気圧とは異なる圧力に保った石英管内に、発熱体とともに管内の温度変動を 検知する温度センサーを封入することを特長とするヒーターである。
【0006】
【作用】
石英管を二重管とせず、かつ気密にした石英管内に圧力センサーまたは温度セ ンサを封入することによってコスト高と加熱の制御性の問題が解決した。 石英管を気密にする場合、石英管内は大気圧に対し加圧、減圧いずれでも良い 。なお、圧力センサー感度および液槽内の液温度変動による圧力変動より充分大 きくするために、1.5気圧以上の加圧もしくは0.5気圧以下の減圧とするの が好ましい。石英管が正常な場合は、石英管は大気圧とは異なる圧力に保たれる 。 石英管が破損した場合には、圧力は急激に大きく変化する。この現象を半導体 圧力センサーなどにより検知することができる。石英管に微細な穴があいた場合 には、徐々に圧力が大気圧に近づく。いずれの場合にも石英管内の圧力センサー が大きく変化した場合又は大気圧を示す場合を異常とするように警報回路を組み 上げれば良い。
【0008】 温度センサーを用いる場合は石英管の異常によって液が侵入し、温度が低下す るので、この変化を検出して警報を出すようにすれば良い。
【0009】
【実施例】
図1に示すように石英管に分岐部を設け、その中に半導体の圧力センサー3を 取りつけた。発熱体2にはカンタル線を用いた。石英管内には2気圧のヘリウム ガスを封入した。
【0010】 本ヒーター5個を実使用するに際し、圧力が1.5気圧より低下すると警報を 発生するシステムを使用したが、各ヒーターで警報を発生した時点で、ヒーター を点検したところ、ピンホールやヒビ割れが発生していることが判明した。即ち 、ヒーターの完全な破損やヒーター内に水が入るような大きな穴あきに至る前に 100%その前兆を発見することができた。
【0011】 本考案により、前述のようにヒーター故障を早い時期に発見できるようになっ た。従来は、早い目に新品に交換することにより使用中に破損することを防いで いた。これに比べ本考案は寿命近くまでヒーターを使用できるのでヒーターのコ ストを低減することができる。 また、従来は上記のように早い目に新品に換えたとしても不良品は予想より早 い時期に破損する場合があった。この場合、この槽で処理したウェーハのロット はすべて不良品にしなければならなかったが、この問題も解決した。 本考案の実施例ではヘリウムガスを用いたが、発熱体と反応しないガスであれ ばヘリウムガス以外のガスを使用することができる。
【0012】
【考案の効果】
本考案に係るヒーターを使用するとヒーターの故障を早い時期に確実に発見で きるようになり、コスト低減に大いに寄与した。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案の一実施例を示す説明図である。
【符号の説明】
1 石英管 2 発熱体 3 圧力センサー 4 圧力センサーリード線

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハにウエット処理を行う液槽の液
    体加熱用投げ込みヒーターであって、大気圧とは異なる
    圧力に保った石英管内に、発熱体とともに管内の圧力変
    動を検知する圧力センサーを封入することを特長とする
    ウェーハ処理装置用投げ込みヒーター。
  2. 【請求項2】 ウェーハにウエット処理を行う液槽の液
    体加熱用投げ込みヒーターであって、大気圧とは異なる
    圧力に保った石英管内に、発熱体とともに管内の温度変
    動を検知する温度センサーを封入することを特長とする
    ウェーハ処理装置用投げ込みヒーター。
JP4828291U 1991-05-30 1991-05-30 ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター Pending JPH04136456U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4828291U JPH04136456U (ja) 1991-05-30 1991-05-30 ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4828291U JPH04136456U (ja) 1991-05-30 1991-05-30 ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04136456U true JPH04136456U (ja) 1992-12-18

Family

ID=31926845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4828291U Pending JPH04136456U (ja) 1991-05-30 1991-05-30 ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04136456U (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH06244259A (ja) 基板の温度測定装置
JP4055839B2 (ja) 液面検出装置及び方法
CN111180365B (zh) 进气系统和进气方法
KR102246922B1 (ko) 기판 처리 시스템 및 제어 장치
JPH04136456U (ja) ウエーハ処理装置用投げ込みヒーター
JP2006017691A (ja) 化学タンクの腐食監視制御システム
TWI837575B (zh) 基板處理方法、基板處理裝置、半導體裝置之製造方法及程式
JP2010071579A (ja) 燃焼状態監視装置及び燃焼状態監視方法
JP3009204B2 (ja) 熱処理装置
KR20070030615A (ko) 반도체 확산설비의 배기유니트
JP2009140044A (ja) 製造装置異常検査システム
CN213422330U (zh) 一种用于乳化液处理的液位计
JPH11125690A (ja) 多重シース型ナトリウム漏洩検出装置
KR102023117B1 (ko) 배관유닛 및 이를 포함하는 히팅 시스템
JPH0244681A (ja) 工業用ヒータ及びその破損監視方法
JP3550673B2 (ja)
JP4294104B2 (ja) 真空排気装置
JP3864572B2 (ja) 反応ガス供給管の折損検出装置
JPH0465117A (ja) 原料ボンベ中の液体原料の検知方法
KR20020093203A (ko) 반도체 제조설비의 케미컬온도 측정장치
KR20040022649A (ko) 반도체 소자 제조용 웨이퍼 처리 시스템
JP2007263821A (ja) クリーンルームの空気清浄度モニタリング方法及びこれに用いる空気清浄度モニタリング装置
JPH02181625A (ja) 液用ガラスヒータの破損検知方法
JP2551760Y2 (ja) 浸漬ヒータ
KR200267970Y1 (ko) 온도보정용열전대