JPH04132990A - 真空プロセス装置におけるｘ線検出器保護用フイルタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、真空プロセス装置における成膜中の膜の元素
組成と結晶構造をその場観察する反射型高速電子線回折
（ＲＨＥＥＤ）−全反射角Ｘ線分光法（ＴＲＡＸＳ）装
置に用いられ得るＸ線検出器保護用フィルタに関するも
のである。

［従来の技術〕 従来成膜中の膜の元素組成をその場観察するため真空プ
ロセス装置において用いられてきたＸ線検出器保護用フ
ィルタとしては、添付図面の第３図に示すように、観察
すべき試料Ａから発生したＸ線信号を検知するＸ線検出
器Ｂの前面にフィルタ窓Ｃを配置した構造のものが知ら
れており、Ｘ線検出器Ｂとその前面に設けられたフィル
タ窓Ｃは真空プロセス装置例えば成膜装置の真空チャン
バ内に配置されている。試料Ａから発生したＸ線信号は
フィルタ窓Ｃを透過し、Ｘ線検出器Ｂに入射する。フィ
ルタ窓Ｃは真空シールとして用いられるだけでなく、例
えば試料Ａにおける蒸着物質や電子線がＸ線検出器Ｂに
入射するのを防ぎ、蒸着物質による汚染や電子線による
損傷からＸ線検出器Ｂを保護する働きをしている。

［発明が解決しようとする課題］ このように真空成膜装置において成膜中の膜の元素組成
をその場観察するため真空成膜装置内にＸ線検出器を設
ける際には蒸発物質によるＸ線検８器の汚染が問題とな
るため、従来のフィルタ付きＸ線検出器では検出器の前
面にフィルタを固定配置している。この構造では、蒸発
物質によるＸ線検出器の汚染はフィルタによって防げる
か、蒸発物質はフィルタに付着するため、付着の度合い
によりフィルタを清浄したり交換する必要がある。

しかし、この場合フィルタは非常に薄いため洗浄は困難
であり、Ｘ線検出器自体真空中に保つ必要があるので蒸
発物質の付着で汚染されたフィルタを交換することも容
易でない等の問題点がある。

そこで、本発明は、上記のような従来技術のもつ問題点
を解決して真空雰囲気を破らずに清浄化及び交換の可能
な真空プロセス装置におけるＸ線検出器保護用フィルタ
を提供することを目的としている。

［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、本発明による真空プロセ
ス装置におけるＸ線検出器保護用フィルタにおいては、
真空プロセス装置内における観察すべき試料とＸ線検出
器との間でＸ線検出器の入射経路を横切って可動ホルダ
ーが設けられ、この可動ホルダーに複数のフィルタ板が
取付けられ、またＸ線検出器の入射経路を横切る位置か
ら離れかつ可動ホルダーに隣接した位置には各フィルタ
板を加熱清浄化する手段が設けられることを特徴として
いる。

［作　　用］ 本発明による真空プロセス装置におけるＸ線検出器保護
用フィルタにおいては、Ｘ線検出器の前面に可動のフィ
ルタ板を設けることにより検出器本体は蒸着物質等によ
る汚染や電子線による損傷から保護され、この際、フィ
ルタ板は蒸着物質等が付着して汚染されるが、ホルダー
を動かすことにより次の清浄なフィルタ板が検出器の入
射開口の前面に移動させ、引き続き観察動作を行うこと
ができる。また蒸着物質等が付着して汚染されたフィル
タ板は、Ｘ線検出器の入射経路を横切る位置から離れか
つ可動ホルダーに隣接した位置に設けられた加熱清浄化
手段によって加熱清浄化され、後での使用のために準備
される。

［実施例コ 以下添付図面の第１図及び第２図を参照して本発明の実
施例について説明する。

第１図及び第２図には真空成膜装置に実施した本発明の
一実施例による装置の要部を概略的に示し１、これらの
図面において、１は図示してない真空成膜装置の真空チ
ャンバ内に挿置された観察すべき試料、２は観察すべき
試料１に対して所定の位置に位置決めされたＸ線検出器
、３は回転軸４を中心として回転可能に設けられたホル
ダーで、図示したようにＸ線検出器２の前面に位置決め
され、図示実施例では四枚のフィルタ板５が同一円周上
に等間隔に取り付けられている。またホルダー３の外周
は図示してないがウオームホイール状に形成され、ウオ
ーム６と係合し、ウオーム６の軸７は真空チャンバの真
空壁を通って外部の回転導入端子８に結合されている。

さらに、第１図に示すようにホルダー３の試料側にはＸ
線検出器の入射経路を横切る位置から離れた位置に使用
して汚染されたフィルタ板５を加熱して清浄化するヒー
ター９かフィルタ板５に対向して設けられている。この
ヒーター９はフィルタ板５を囲む加熱室のような任意の
適当な形状に構成され、また加熱源としても任意の適当
な形式のものを使用することができる。

このように構成した図示装置の動作において、観察すべ
き試料１から発生されたＸ線はホルダー３に取り付けら
れたフィルタ板５を通ってＸ線検出器２に入射する。こ
の場合、蒸着物質はフィルタ板５で遮られ、Ｘ線検出器
２は蒸着物質の汚染から保護される。一方フィルタ板５
は時間の経過と共に蒸着物質の付着により汚染されるが
、観測に支障を来す前に外部から回転導入端子８を操作
してホルダー３を四分の一回転させることにより真空を
保ったまま新しいフィルタ板５に交換される。これによ
り、蒸着物質の付着による汚染を避けて引き続き観測動
作を行うことができる。蒸着物質が付着して汚染された
使用済みフィルタ板５はホルダー３の回動でヒーター９
と対向する位置へ移動された際に加熱され、それによっ
て再び清浄化され、後での使用のために準備される。こ
のようにして図示実施例では蒸着物質の付着状態に応じ
て外部の回転導入端子８を操作することにより、フィル
タ板５を順次交換し、観測動作を連続して行うことがで
きる共に、蒸着物質の付着により汚染したフィルタ板５
は退避位置で順次加熱処理され、清浄化され得る。

ところで、図示実施例ではホルダーは回転式に構成して
いるが、往復動式に構成してフィルタ板５を交互に使用
及び清浄化処理するように構成することもできる。また
ホルダーに装着されるフィルタ板も複数枚であれば何枚
であってもよい。さらに、Ｘ線検出器の前面に位置して
ないフィルタ板は蒸着物質等の付着による汚染を避ける
ために、遮蔽部材で覆うこともできる。

なお、図示実施例では真空成膜装置に適用した場合につ
いて説明してきたが、当然、試料の元素組成をその場観
察するため他の真空プロセス装置にも同様に適用できる
。

［発明の効果］ 以上説明してきたように、本発明によれば、真空プロセ
ス装置内における観察すべき試料とＸ線検出器との間で
Ｘ線検出器の入射経路を横切って設けられた可動ホルダ
ーに複数のフィルタ板を取付け、また使用して汚染され
たフィルタ板を加熱清浄化する手段を設けているので、
従来装置のように真空をきらずにフィルタ板の交換及び
清浄化処理を全て真空中で行うことができ、その結果フ
ィルタ板の交換に要する操作及び時間をそれぞれ大幅に
簡易化及び短縮でき、装置を実質的に連続して運転させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の装置の要部を示す概略側面
図、第２図は第１図の装置におけるホルダ一部分を試料
側から見た概略線図、第３図は従来技術を例示する概略
線図である。 図　　　中 １：観測すべき試料 ２：Ｘ線検出器 ３：ホルダー 回転軸 フィルタ板 ウオーム 軸 回転導入端子 ヒーター 第１図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 真空プロセス装置内における観察すべき試料とＸ線検出
   器との間でＸ線検出器の入射経路を横切って可動ホルダ
   ーを設け、この可動ホルダーに複数のフィルタ板を取付
   け、また各フィルタ板を加熱清浄化する手段を、Ｘ線検
   出器の入射経路を横切る位置から離れかつ可動ホルダー
   に隣接した位置に設けたことを特徴とするＸ線検出器保
   護用フィルタ。