JPH04132637A - ガラス - Google Patents
ガラスInfo
- Publication number
- JPH04132637A JPH04132637A JP25803290A JP25803290A JPH04132637A JP H04132637 A JPH04132637 A JP H04132637A JP 25803290 A JP25803290 A JP 25803290A JP 25803290 A JP25803290 A JP 25803290A JP H04132637 A JPH04132637 A JP H04132637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- surfactant
- film
- formula
- protective film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 claims abstract description 15
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 239000011356 non-aqueous organic solvent Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 22
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N dimethylsilicon Chemical group C[Si]C JZZIHCLFHIXETF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 42
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 18
- 235000019000 fluorine Nutrition 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 2
- XGEJPZWLVJMNCR-UHFFFAOYSA-N OC(O)=O.Cl.Cl.Cl.Cl Chemical compound OC(O)=O.Cl.Cl.Cl.Cl XGEJPZWLVJMNCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 1
- -1 chlorosilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008521 reorganization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明（よ ガラスに関するものである。さらに詳しく
（上 家 または自動東 竜頭 飛行機等の乗り物に用
いられている窓ガラスや紘 あるいはガラス容器や眼鏡
等のガラス表面が直柩 または単層あるいは複数層の保
護膜を介して、フッ素を含む界面活性剤が化学結合して
なる単分子膜で覆われていべ 撥水撥油性の優れたガラ
スを提供するものである。
（上 家 または自動東 竜頭 飛行機等の乗り物に用
いられている窓ガラスや紘 あるいはガラス容器や眼鏡
等のガラス表面が直柩 または単層あるいは複数層の保
護膜を介して、フッ素を含む界面活性剤が化学結合して
なる単分子膜で覆われていべ 撥水撥油性の優れたガラ
スを提供するものである。
従来の技術
従来より、ガラス表面の撥水撥油性を改善する方法に（
よ ガラス表面にＳｉ系界面活性剤を塗布したり、フル
オロカーボン系ポリマーの懸濁液を塗布する方法が用い
られてきに 発明が解決しようとした課題 前述の塗布方法では製造が容易である反面 フルオロカ
ーボン系ポリマーに対してガラスが不動体であるた数
ガラス表面と塗膜の密着性を良くすることには限界があ
り、また塗膜にはピンホールが混在し易くこのピンホー
ルが引金となり膜剥がれが生改 耐久性のよい塗膜は得
られないという課題があっ池 従来法の欠点に鑑へ 本発明の目的（よ ガラス表面に
均一に且つピンホール無くフッ素を含む界面活性剤の単
分子膜を有する方法の提供、およびその方法を用いて撥
水撥油性及び耐久性に優れたガラスを提供することにあ
る。
よ ガラス表面にＳｉ系界面活性剤を塗布したり、フル
オロカーボン系ポリマーの懸濁液を塗布する方法が用い
られてきに 発明が解決しようとした課題 前述の塗布方法では製造が容易である反面 フルオロカ
ーボン系ポリマーに対してガラスが不動体であるた数
ガラス表面と塗膜の密着性を良くすることには限界があ
り、また塗膜にはピンホールが混在し易くこのピンホー
ルが引金となり膜剥がれが生改 耐久性のよい塗膜は得
られないという課題があっ池 従来法の欠点に鑑へ 本発明の目的（よ ガラス表面に
均一に且つピンホール無くフッ素を含む界面活性剤の単
分子膜を有する方法の提供、およびその方法を用いて撥
水撥油性及び耐久性に優れたガラスを提供することにあ
る。
課題を解決するための手段
本発明（上 下記一般式
％式％
（式中ｍ＝］−１５、ｎ＝０−１５、ｍ 十ｎ１０〜３
０、Ｒはアルキル基を表わす）あるいは下記一般式 ％式％ （式中ｍ＝１〜８、 ｎ＝０〜２、 ｐ＝５〜２５、ｑ
＝Ｏ〜２の各整数を示ＬＸはハロゲン原子あるいはアル
コキシを表わり、、Ａは酸素原子（−０−）、カルボキ
シ（−ＣＯＯ−）、あるいはジメチルシリレン（−８ｉ
（ＣＨ＊）２−）を表わす。）で表わされるクロロシラ
ン界面活性剤が化学結合してなる単分子膜を、少なくと
もガラス表面に直接または保護膜を介して最表面に１層
形成されているガラスによって、従来の課題を克服した
ものである。
０、Ｒはアルキル基を表わす）あるいは下記一般式 ％式％ （式中ｍ＝１〜８、 ｎ＝０〜２、 ｐ＝５〜２５、ｑ
＝Ｏ〜２の各整数を示ＬＸはハロゲン原子あるいはアル
コキシを表わり、、Ａは酸素原子（−０−）、カルボキ
シ（−ＣＯＯ−）、あるいはジメチルシリレン（−８ｉ
（ＣＨ＊）２−）を表わす。）で表わされるクロロシラ
ン界面活性剤が化学結合してなる単分子膜を、少なくと
もガラス表面に直接または保護膜を介して最表面に１層
形成されているガラスによって、従来の課題を克服した
ものである。
作用
ガラス表面にフッ素を含むクロロシラン系界面活性剤を
化学吸着させ、フッ素の撥水撥油性を利用し ガラスま
たは保護膜を有したガラスの保護膜表面の撥水撥油性が
向上し 防曇防濡作用が得られる。
化学吸着させ、フッ素の撥水撥油性を利用し ガラスま
たは保護膜を有したガラスの保護膜表面の撥水撥油性が
向上し 防曇防濡作用が得られる。
さらに本発明のガラスはシラン界面活性剤がガラスまた
は保護膜と化学結合しているた八 この化学結合により
強靭性が現出する。
は保護膜と化学結合しているた八 この化学結合により
強靭性が現出する。
実施例
以下、実施例を第１〜６図を用いて説明する。
例えば 第１図に示すように ガラス基体１ （例えば
強化ガラス板）■上に保護膜としてビニル基２ （Ｃ
Ｈ２＝ＣＨ−）を含むシラン界面活性剤のＣＨ２＝ＣＨ
−（ＣＨ２）ｎ ５ｉＣ１ｓ（ｎ： 整改 １０〜２０
程度が最も扱いやすい）を用ｔ、Ｘ、 ３ＸＩＯ−２〜
５Ｘ１０−’Ｍ程度の濃度で溶かした８０％ｎ−ヘキサ
デカン、 ■２％四塩化炭稟 ８％クロロホルム溶液を
調整し 前記ガラス基体を室温で１時間浸漬すると、第
１図に示したようにガラス基体１表面は水酸基を含んで
いるた敢 クロロシラン系界面活性剤のクロロシリル基
と水酸基とが反応して表面に ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−３ｉ −０−の結合が生
成され ビニル基２を含んだ単分子吸着保護膜３が−層
酸素原子を介して保護膜として、化学結合した形で（２
０〜３０人の厚み）形成される。
強化ガラス板）■上に保護膜としてビニル基２ （Ｃ
Ｈ２＝ＣＨ−）を含むシラン界面活性剤のＣＨ２＝ＣＨ
−（ＣＨ２）ｎ ５ｉＣ１ｓ（ｎ： 整改 １０〜２０
程度が最も扱いやすい）を用ｔ、Ｘ、 ３ＸＩＯ−２〜
５Ｘ１０−’Ｍ程度の濃度で溶かした８０％ｎ−ヘキサ
デカン、 ■２％四塩化炭稟 ８％クロロホルム溶液を
調整し 前記ガラス基体を室温で１時間浸漬すると、第
１図に示したようにガラス基体１表面は水酸基を含んで
いるた敢 クロロシラン系界面活性剤のクロロシリル基
と水酸基とが反応して表面に ＣＨ２＝ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−３ｉ −０−の結合が生
成され ビニル基２を含んだ単分子吸着保護膜３が−層
酸素原子を介して保護膜として、化学結合した形で（２
０〜３０人の厚み）形成される。
さら４Ｑ 酸素あるいはＮ２を含んだ雰囲気中で（空
気中でもよい）、このガラス基体をエネルギー線（電子
ＨＡ、 Ｘ線ｒＷＡ、 紫外線若しくはイオン線）
で３ Ｍ ｒ ａ ｄ程度照射し 第２図に示したよう
にビニル基部２に水酸（−ＯＨ）基４ （酸素雰囲気の
場合）、あるいは第３図に示したようにアミノ（−Ｎｌ
２）基５ （窒素雰囲気の場合）を付加させる（雰囲気
が空気の場合はこの両者が生成する）。
気中でもよい）、このガラス基体をエネルギー線（電子
ＨＡ、 Ｘ線ｒＷＡ、 紫外線若しくはイオン線）
で３ Ｍ ｒ ａ ｄ程度照射し 第２図に示したよう
にビニル基部２に水酸（−ＯＨ）基４ （酸素雰囲気の
場合）、あるいは第３図に示したようにアミノ（−Ｎｌ
２）基５ （窒素雰囲気の場合）を付加させる（雰囲気
が空気の場合はこの両者が生成する）。
な択 これらの官能基がビニル基に付加すること＋１Ｆ
ＴＩＲ分析により確認された また このとき表面に並んだビニル基１４．ＯｅやＮ２
を含んだプラズマ中で処理する方法で耘 第２図に示し
たような一〇Ｈ基を付加させた単分子吸着保護膜３−１
、或は第３図に示したような−ＮＨ２基を付加させた単
分子吸着保護膜３−２を形成できる。
ＴＩＲ分析により確認された また このとき表面に並んだビニル基１４．ＯｅやＮ２
を含んだプラズマ中で処理する方法で耘 第２図に示し
たような一〇Ｈ基を付加させた単分子吸着保護膜３−１
、或は第３図に示したような−ＮＨ２基を付加させた単
分子吸着保護膜３−２を形成できる。
最後へ 化学吸着試薬として一般式
％式％
（式中ｍ＝１〜１５、ｎ＝ｏ〜１５、ｍ＋ｎ１０〜３０
、Ｒはアルキル基を表わす）あるいは Ｆ（ＣＦａ ）醜（ＣＨ２）。Ａ（ＣＨ２）ｐｓｉ（Ｃ
Ｈｓ）ａＸａ−ｑ（式中ｍ＝１−８、 ｎ ＝ Ｏ−２
、ｐ＝５−２５、ｑ＝Ｑ〜２の各整数を示ＬＸは）１０
ゲン原子あるいはアルコキシを表わり、、Ａは酸素原子
（−０−）、カルボキシ（−ＣＯＯ−）、あるいはジメ
チルシリレン（−３ｉ（ＣＨｓ ）２− ）を表わす。
、Ｒはアルキル基を表わす）あるいは Ｆ（ＣＦａ ）醜（ＣＨ２）。Ａ（ＣＨ２）ｐｓｉ（Ｃ
Ｈｓ）ａＸａ−ｑ（式中ｍ＝１−８、 ｎ ＝ Ｏ−２
、ｐ＝５−２５、ｑ＝Ｑ〜２の各整数を示ＬＸは）１０
ゲン原子あるいはアルコキシを表わり、、Ａは酸素原子
（−０−）、カルボキシ（−ＣＯＯ−）、あるいはジメ
チルシリレン（−３ｉ（ＣＨｓ ）２− ）を表わす。
）で表わされるフッ素を含むシラン界面活性前 例えば
ＣＦ３ＣＨ２０（ＣＨ２）＋ ５ｓｉｃｌｓを用ｔ＋Ｘ
、 ２ｘｌｏ−”〜５Ｘ１０−２Ｍ程度の濃度で溶かし
た８０％ｎ−ヘキサデカン、 １２％四塩化炭秦 ８％
クロロホルム溶液を調整し 前記単分子吸着保護膜３−
１若しくは３−２が形成されたガラス基体を１時間浸漬
すると、第２図に示したように表面に一〇Ｈ基や、第３
図に示したように表面に−ＮＨ２基が露出しているた八
フッ素を含むクロロシラン系界面活性剤のクロロシリ
ル基と０Ｈ基あるいは−Ｎ８２基とが反応して表面にＣ
Ｆ３ＣＨ２０（ＣＨ２）＋ ｓ Ｓ ｉ Ｏ−の結合が
生成されガラス基体の表面にフッ素を含む単分子吸着膜
６カ（第４図に示したように下層の単分子吸着膜３１、
若しくは第５図に示したよつに下層の単分子吸着保護膜
３−２と層間で化学結合した状態の高密度な単分子累積
膜７を得ることができたな壮 表面の撥水撥油性膜とガ
ラス基体の間に単分子膜を必要としない場合に（よ 第
１回目の単分子吸着保護膜の吸着で、フッ素を含むクロ
ロシラン界面活性剤を用いれば 表面にフッ素を含む単
分子吸着膜のみ１層形成することができ通また 複数層
の単分子膜を保護膜として必要とした場合には 吸着試
薬としてＣＨ２＝ ＣＨ−（ＣＨ２）。
、 ２ｘｌｏ−”〜５Ｘ１０−２Ｍ程度の濃度で溶かし
た８０％ｎ−ヘキサデカン、 １２％四塩化炭秦 ８％
クロロホルム溶液を調整し 前記単分子吸着保護膜３−
１若しくは３−２が形成されたガラス基体を１時間浸漬
すると、第２図に示したように表面に一〇Ｈ基や、第３
図に示したように表面に−ＮＨ２基が露出しているた八
フッ素を含むクロロシラン系界面活性剤のクロロシリ
ル基と０Ｈ基あるいは−Ｎ８２基とが反応して表面にＣ
Ｆ３ＣＨ２０（ＣＨ２）＋ ｓ Ｓ ｉ Ｏ−の結合が
生成されガラス基体の表面にフッ素を含む単分子吸着膜
６カ（第４図に示したように下層の単分子吸着膜３１、
若しくは第５図に示したよつに下層の単分子吸着保護膜
３−２と層間で化学結合した状態の高密度な単分子累積
膜７を得ることができたな壮 表面の撥水撥油性膜とガ
ラス基体の間に単分子膜を必要としない場合に（よ 第
１回目の単分子吸着保護膜の吸着で、フッ素を含むクロ
ロシラン界面活性剤を用いれば 表面にフッ素を含む単
分子吸着膜のみ１層形成することができ通また 複数層
の単分子膜を保護膜として必要とした場合には 吸着試
薬としてＣＨ２＝ ＣＨ−（ＣＨ２）。
５ｉＣ１ｓを用ｂ＼ 化学吸着と放射線照射の工程を繰
り返し 最後に吸着試薬としてフッ素を含むクロロシラ
ン系界面活性剤を吸着すれば 必要とした層数の保護膜
を介して表面にフッ素を含む単分子吸着膜を、ガラス表
面に１層形成した撥水撥油性膜が得られた な抵 上記実施例で（よ 最表面に形成すべきフッ素を
含むシラン界面活性剤としてＣＦ３ＣＨ２０（Ｃ１ｈ
）＋ ５ｓｉｃｈを用いたが、 これ以外にも例えばＣ
Ｆｓ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨｓ）２（ＣＨ２）＋５Ｓｉ
Ｃ１ａＦ（ＣＦａ ’）ａ （ＣＨ２）ａｓｉ（ＣＨ３
）２ （ＣＨ２）ｅｓｉｃｌｓＣｈＣＯＯ（ＣＨ２）＋
５ｓｉｃｌｓＣＦｓ （ＣＦ２戸（ＣＨ２）２ＳｉＣ
１３等が利用できに 次へ 吸着形成した単分子膜の表面エネルギーを、液滴
の濡れ角度による評価（自動接触角計（協和界面科学（
株）製））による測定した結果を第６図に示す。但し第
６図は測定結果のＣＯ３θと表面張力との関係を示しな 第６図より明らかなようへ フッ素の数が多くなるほど
表面エネルギーが小さくなり、フッ素の数が９以上では
ポリ４フツ化エチレンより小さな表面張力の膜が得られ
これらの表面では撥水撥油性が極めてた解雇とが確認
でき九 Ｑ− さら（ミ この表面の水に対する濡れ角度を測定すると
、 １４０〜１５０度であっ九 従って、このガラス窓を用いれば乗り物の窓ガラスをワ
イパーレス化できたり、眼鏡表面の曇を防止できる。
り返し 最後に吸着試薬としてフッ素を含むクロロシラ
ン系界面活性剤を吸着すれば 必要とした層数の保護膜
を介して表面にフッ素を含む単分子吸着膜を、ガラス表
面に１層形成した撥水撥油性膜が得られた な抵 上記実施例で（よ 最表面に形成すべきフッ素を
含むシラン界面活性剤としてＣＦ３ＣＨ２０（Ｃ１ｈ
）＋ ５ｓｉｃｈを用いたが、 これ以外にも例えばＣ
Ｆｓ（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＣＨｓ）２（ＣＨ２）＋５Ｓｉ
Ｃ１ａＦ（ＣＦａ ’）ａ （ＣＨ２）ａｓｉ（ＣＨ３
）２ （ＣＨ２）ｅｓｉｃｌｓＣｈＣＯＯ（ＣＨ２）＋
５ｓｉｃｌｓＣＦｓ （ＣＦ２戸（ＣＨ２）２ＳｉＣ
１３等が利用できに 次へ 吸着形成した単分子膜の表面エネルギーを、液滴
の濡れ角度による評価（自動接触角計（協和界面科学（
株）製））による測定した結果を第６図に示す。但し第
６図は測定結果のＣＯ３θと表面張力との関係を示しな 第６図より明らかなようへ フッ素の数が多くなるほど
表面エネルギーが小さくなり、フッ素の数が９以上では
ポリ４フツ化エチレンより小さな表面張力の膜が得られ
これらの表面では撥水撥油性が極めてた解雇とが確認
でき九 Ｑ− さら（ミ この表面の水に対する濡れ角度を測定すると
、 １４０〜１５０度であっ九 従って、このガラス窓を用いれば乗り物の窓ガラスをワ
イパーレス化できたり、眼鏡表面の曇を防止できる。
なお第６図屯
Ｆ１７はＦ（ＣＦ２ ）ａｓｉ（ＣＨ３）２ （ＣＨ２
）ｅｓｉｃ１３、Ｆ９はＦ（ＣＦ２ ）４ （ＣＨ２）
２０（ＣＨ２）＋ ５ＳｉＣｈＦ３はＣＦｓＣＯＯ（Ｃ
Ｈａ ）＋ ５ｓｉｃ１３ＮＴＳはＣＨ３（ＣＨ２）＋
ｏｓｉｃｈ、でそれぞれ作成された吸着単分子膜を示
す。
）ｅｓｉｃ１３、Ｆ９はＦ（ＣＦ２ ）４ （ＣＨ２）
２０（ＣＨ２）＋ ５ＳｉＣｈＦ３はＣＦｓＣＯＯ（Ｃ
Ｈａ ）＋ ５ｓｉｃ１３ＮＴＳはＣＨ３（ＣＨ２）＋
ｏｓｉｃｈ、でそれぞれ作成された吸着単分子膜を示
す。
な叙 上記実施例では 強化ガラスを例にして説明した
力（家 または自動東 型取 飛行機等の乗り物に用い
られている窓ガラスや銖 あるいはガラス容器やレンズ
等のガラス表置 その他撥水撥油性を必要としたガラス
表面の改質を目的とした全てガラスに応用できる。
力（家 または自動東 型取 飛行機等の乗り物に用い
られている窓ガラスや銖 あるいはガラス容器やレンズ
等のガラス表置 その他撥水撥油性を必要としたガラス
表面の改質を目的とした全てガラスに応用できる。
さらに上記実施例で（よ 保護膜として単分子吸着膜の
例を示したが、 本発明に適応されるガラスの保護膜は
単分子吸着膜に限定されず、例えば遮光フィルム 紫外
線吸収フィルム或は赤外線吸収フィルム等の機能を有す
る保護膜であってもよいことは勿論である。
例を示したが、 本発明に適応されるガラスの保護膜は
単分子吸着膜に限定されず、例えば遮光フィルム 紫外
線吸収フィルム或は赤外線吸収フィルム等の機能を有す
る保護膜であってもよいことは勿論である。
また本発明のガラス（よ 無色透明なガラスに限定され
なく、例えば表面を粗面化し散乱させたその粗面側でも
よく、さらに着色されたガラス或はガラス繊維等でもよ
り℃ 要するに本発明４１ 親水性基を表面に有するガラス
と、フッ素を含有するシラン界面活性剤とを化学吸着法
を応用して化学結合させる技術であれば 全て範噴には
いる。
なく、例えば表面を粗面化し散乱させたその粗面側でも
よく、さらに着色されたガラス或はガラス繊維等でもよ
り℃ 要するに本発明４１ 親水性基を表面に有するガラス
と、フッ素を含有するシラン界面活性剤とを化学吸着法
を応用して化学結合させる技術であれば 全て範噴には
いる。
なお保護膜若しくはガラスの表面が親水性でない場合に
（戴 コロナ照射或はスパッタリング等の通常の手法に
より表面を親水性にした後、本発明のフッ素含有シラン
界面活性剤を作用させること当然である。
（戴 コロナ照射或はスパッタリング等の通常の手法に
より表面を親水性にした後、本発明のフッ素含有シラン
界面活性剤を作用させること当然である。
発明の効果
本発明（よ 一般弐Ｆ（ＣＦ２ ）・（ＣＨ２）。Ｓｉ
Ｒ，＋ Ｘ３− ｏあるいは一般弐Ｆ（ＣＦ２ ）＠
（ＣＨ２）Ｊ（ＣＨ２）ｏｓｔ（ＣＨ３）ａＸ３−ａで
表わされるクロロシラン界面活性剤が化学結合してなる
単分子膜を、少なくともガラス表面に直接または保護膜
を介して最表面に１層形成されているガラスであるた取
ガラス基体表面に単分子撥水撥油性膜がガラス表面に
化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く
、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。
Ｒ，＋ Ｘ３− ｏあるいは一般弐Ｆ（ＣＦ２ ）＠
（ＣＨ２）Ｊ（ＣＨ２）ｏｓｔ（ＣＨ３）ａＸ３−ａで
表わされるクロロシラン界面活性剤が化学結合してなる
単分子膜を、少なくともガラス表面に直接または保護膜
を介して最表面に１層形成されているガラスであるた取
ガラス基体表面に単分子撥水撥油性膜がガラス表面に
化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く
、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。
従って、耐久性の極めて高い表面処理が行えガラス表面
の汚れを防止したり、曇りや濡れを防止できる効果があ
る。
の汚れを防止したり、曇りや濡れを防止できる効果があ
る。
第１図〜第５図は化学吸着膜作成時のガラス表面の状態
を分子レベルまで拡大した工程断面概念医 第６図は各
種化学吸着膜の表面エネルギーの関係を表わす図である
。 １・・・ガラス基体 ２・・・ビニル莱 ３、３−１．
３−２・・・単分子吸着保護［４・・・水酸莱 ５・・
・アミノ展 ６・・・フッ素を含む単分子吸着［７・・
・単分子累積風
を分子レベルまで拡大した工程断面概念医 第６図は各
種化学吸着膜の表面エネルギーの関係を表わす図である
。 １・・・ガラス基体 ２・・・ビニル莱 ３、３−１．
３−２・・・単分子吸着保護［４・・・水酸莱 ５・・
・アミノ展 ６・・・フッ素を含む単分子吸着［７・・
・単分子累積風
Claims (9)
- （１）下記一般式 Ｆ（ＣＦ＿２）＿ｍ（ＣＨ＿２）＿ｎＳｉＲ＿ｑＸ＿３
＿−＿ｑ（式中ｍ＝１〜１５、ｎ＝０〜１５、ｍ＋ｎ＝
１０〜３０、Ｒはアルキル基を表わす） あるいは下記一般式 Ｆ（ＣＦ＿２）＿ｍ（ＣＨ＿２）＿ｎＡ（ＣＨ＿２）＿
ｐＳｉ（ＣＨ＿３）＿ｑＸ＿３＿−＿ｑ（式中ｍ＝１〜
８、ｎ＝０〜２、ｐ＝５〜２５、ｑ＝０〜２の各整数を
示し、Ｘはハロゲン原子あるいはアルコキシを表わし、
Ａは酸素原子（−Ｏ−）、カルボキシ（−ＣＯＯ−）、
あるいはジメチルシリレン（−Ｓｉ（ＣＨ＿３）＿２−
）を表わす。）で表わされるクロロシラン界面活性剤が
化学結合してなる単分子膜を、少なくともガラス表面に
直接または保護膜を介して最表面に１層形成されている
ことを特徴としたガラス。 - （２）保護膜とクロロシラン系界面活性剤とが化学結合
してなる単分子膜が、互いに層間で化学結合しているこ
とを特徴とした請求項１記載のガラス。 - （３）クロロシラン界面活性剤が ＣＦ＿３（ＣＨ＿２）＿２Ｓｉ（ＣＨ＿３）＿２（ＣＨ
＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３であることを特徴とした、
請求項１記載のガラス。 - （４）クロロシラン界面活性剤が Ｆ（ＣＦ＿２）＿４（ＣＨ＿２）＿２Ｓｉ（ＣＨ＿３）
＿２（ＣＨ＿２）＿９ＳｉＣｌ＿３であることを特徴と
した、請求項１記載のガラス。 - （５）クロロシラン界面活性剤が ＣＦ＿３ＣＨ＿２Ｏ（ＣＨ＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３
であることを特徴とした、請求項１記載のガラス。 - （６）クロロシラン界面活性剤が ＣＦ＿３ＣＯＯ（ＣＨ＿２）＿１＿５ＳｉＣｌ＿３であ
ることを特徴とした、請求項１記載のガラス。 - （７）クロロシラン界面活性剤が ＣＦ＿３（ＣＦ＿２）＿７（ＣＨ＿２）ＳｉＣｌ＿３で
あることを特徴とした、請求項１記載のガラス。 - （８）非水系の有機溶媒中で、フッ素を含むシラン系界
面活性剤をガラスまたは表面に保護膜を有したガラスに
化学吸着させ、前記ガラス表面に直接または前期保護膜
を有したガラスの前期保護膜表面に、前記界面活性剤の
シリコンを化学結合したフッ素を含む単分子膜を、１層
形成する工程を含むことを特徴としたガラスの製造方法
。 - （９）シラン界面活性剤が、末端に＝ＳｉＣｌ基を含む
化学物質であることを特徴とした、請求項８記載のガラ
スの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2258032A JP2545642B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2258032A JP2545642B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | ガラス |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7217552A Division JP2577203B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 防汚性ガラスの製造方法 |
| JP7217553A Division JP2577204B2 (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 撥水撥油性ガラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04132637A true JPH04132637A (ja) | 1992-05-06 |
| JP2545642B2 JP2545642B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=17314592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2258032A Expired - Lifetime JP2545642B2 (ja) | 1990-09-26 | 1990-09-26 | ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2545642B2 (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6001485A (en) * | 1996-11-18 | 1999-12-14 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Water repellant glass plate and method for manufacturing the same |
| US6337135B1 (en) | 1997-04-30 | 2002-01-08 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymer, process for preparing the same, and use thereof |
| WO2004091810A1 (ja) | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜製造方法 |
| EP1548158A2 (en) * | 2003-12-24 | 2005-06-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Substrate for use in crystallization and method for producing the same |
| JP2005206454A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 結晶化用基板及びその製造方法 |
| JP2005206455A (ja) * | 2003-12-22 | 2005-08-04 | Kazufumi Ogawa | 防汚性窯業製品とその製造方法 |
| JP2007333291A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Kagawa Univ | 太陽エネルギー利用装置とその製造方法 |
| KR100796964B1 (ko) * | 2003-04-15 | 2008-01-22 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기박막 제조방법 |
| WO2008059840A1 (fr) | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film mince organique |
| US7422642B2 (en) | 2002-03-12 | 2008-09-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film used in the method |
| CN100451054C (zh) * | 2003-04-15 | 2009-01-14 | 日本曹达株式会社 | 有机薄膜制造方法 |
| WO2009104424A1 (ja) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| US20100212736A1 (en) * | 2007-12-12 | 2010-08-26 | Kazufumi Ogawa | Solar energy utilization device and method for manufacturing the same |
| EP2366521A2 (en) | 2004-12-28 | 2011-09-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Molding die or master pattern for electroforming each having release layer |
| US8178164B2 (en) | 2006-04-12 | 2012-05-15 | Panasonic Corporation | Method of forming organic molecular film structure and organic molecular film structure |
| WO2013057945A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 日本曹達株式会社 | 表面被覆処理した無機粉体 |
| US8568836B2 (en) | 2004-07-22 | 2013-10-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organic thin film forming method, auxiliary agent for forming an organic thin film, and solution for forming an organic thin film |
| WO2014006885A1 (ja) | 2012-07-05 | 2014-01-09 | 日本曹達株式会社 | 有機ケイ素化合物、それを用いた薄膜形成用組成物および有機薄膜 |
| CN104475048A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-04-01 | 华玉叶 | 一种用于水处理的交联膜的制备方法 |
| KR20150111371A (ko) | 2010-11-11 | 2015-10-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 박막 형성용 고형물 또는 유상물을 사용한 유기 박막 적층체 제조 방법 |
| US9447284B2 (en) | 2007-05-01 | 2016-09-20 | Empire Technology Development Llc | Water repellent glass plates |
| CN115335338A (zh) * | 2020-03-31 | 2022-11-11 | 豪雅株式会社 | 玻璃及包含玻璃的物品 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5294884A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-09 | Teijin Ltd | Water and oil repellent laminated product |
| JPS58147484A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油処理剤 |
| JPS58167448A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
| JPS58172246A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
| JPH02311332A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 撥水性ガラスの製造方法 |
-
1990
- 1990-09-26 JP JP2258032A patent/JP2545642B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5294884A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-09 | Teijin Ltd | Water and oil repellent laminated product |
| JPS58147484A (ja) * | 1982-02-26 | 1983-09-02 | Asahi Glass Co Ltd | ガラス表面の撥水撥油処理剤 |
| JPS58167448A (ja) * | 1982-03-30 | 1983-10-03 | Asahi Glass Co Ltd | 低反射率ガラス |
| JPS58172246A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
| JPH02311332A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-26 | Sekisui Chem Co Ltd | 撥水性ガラスの製造方法 |
Cited By (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6001485A (en) * | 1996-11-18 | 1999-12-14 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Water repellant glass plate and method for manufacturing the same |
| US6337135B1 (en) | 1997-04-30 | 2002-01-08 | Daikin Industries, Ltd. | Fluoropolymer, process for preparing the same, and use thereof |
| EP2218695A1 (en) | 2002-03-12 | 2010-08-18 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film for use therein |
| US7422642B2 (en) | 2002-03-12 | 2008-09-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film used in the method |
| JPWO2004091810A1 (ja) * | 2003-04-15 | 2006-07-06 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
| EP2140945A2 (en) | 2003-04-15 | 2010-01-06 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| US8197906B2 (en) | 2003-04-15 | 2012-06-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| KR100715928B1 (ko) * | 2003-04-15 | 2007-05-08 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기박막 제조방법 |
| JP4684889B2 (ja) * | 2003-04-15 | 2011-05-18 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜の製造方法 |
| KR100796964B1 (ko) * | 2003-04-15 | 2008-01-22 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기박막 제조방법 |
| EP2275211A1 (en) | 2003-04-15 | 2011-01-19 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| US8426019B2 (en) | 2003-04-15 | 2013-04-23 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| WO2004091810A1 (ja) | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜製造方法 |
| CN100451054C (zh) * | 2003-04-15 | 2009-01-14 | 日本曹达株式会社 | 有机薄膜制造方法 |
| US7776403B2 (en) | 2003-04-15 | 2010-08-17 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| JP2005206455A (ja) * | 2003-12-22 | 2005-08-04 | Kazufumi Ogawa | 防汚性窯業製品とその製造方法 |
| JP2005206454A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-08-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 結晶化用基板及びその製造方法 |
| CN100445432C (zh) * | 2003-12-24 | 2008-12-24 | 松下电器产业株式会社 | 物质的结晶方法 |
| EP1548158A3 (en) * | 2003-12-24 | 2008-12-10 | Panasonic Corporation | Substrate for use in crystallization and method for producing the same |
| EP1548158A2 (en) * | 2003-12-24 | 2005-06-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Substrate for use in crystallization and method for producing the same |
| US8568836B2 (en) | 2004-07-22 | 2013-10-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organic thin film forming method, auxiliary agent for forming an organic thin film, and solution for forming an organic thin film |
| EP2366521A2 (en) | 2004-12-28 | 2011-09-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Molding die or master pattern for electroforming each having release layer |
| US8361375B2 (en) | 2004-12-28 | 2013-01-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | Forming mold or electroforming mother die having release layer and method for manufacturing the same |
| US8178164B2 (en) | 2006-04-12 | 2012-05-15 | Panasonic Corporation | Method of forming organic molecular film structure and organic molecular film structure |
| JP2007333291A (ja) * | 2006-06-14 | 2007-12-27 | Kagawa Univ | 太陽エネルギー利用装置とその製造方法 |
| WO2008059840A1 (fr) | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film mince organique |
| US8864896B2 (en) | 2006-11-13 | 2014-10-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for forming organic thin film |
| US9416283B2 (en) | 2006-11-13 | 2016-08-16 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for forming organic thin film |
| US9447284B2 (en) | 2007-05-01 | 2016-09-20 | Empire Technology Development Llc | Water repellent glass plates |
| US8658888B2 (en) | 2007-12-12 | 2014-02-25 | Empire Technology Development Llc | Solar energy utilization device and method for manufacturing the same |
| US20100212736A1 (en) * | 2007-12-12 | 2010-08-26 | Kazufumi Ogawa | Solar energy utilization device and method for manufacturing the same |
| WO2009104424A1 (ja) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| US9303124B2 (en) | 2008-02-22 | 2016-04-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Solution for formation of organic thin film, and method for production thereof |
| US9309416B2 (en) | 2010-11-11 | 2016-04-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for producing organic thin film laminate using solid or oily material for organic thin film formation applications |
| KR20150111371A (ko) | 2010-11-11 | 2015-10-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 박막 형성용 고형물 또는 유상물을 사용한 유기 박막 적층체 제조 방법 |
| WO2013057945A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 日本曹達株式会社 | 表面被覆処理した無機粉体 |
| KR20140068168A (ko) | 2011-10-18 | 2014-06-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 표면 피복 처리한 무기 분체 |
| US9353288B2 (en) | 2012-07-05 | 2016-05-31 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organosilicon compound, thin film forming composition using same, and organic thin film |
| KR20150011385A (ko) | 2012-07-05 | 2015-01-30 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 규소 화합물, 그것을 사용한 박막 형성용 조성물 및 유기 박막 |
| WO2014006885A1 (ja) | 2012-07-05 | 2014-01-09 | 日本曹達株式会社 | 有機ケイ素化合物、それを用いた薄膜形成用組成物および有機薄膜 |
| US9481801B2 (en) | 2012-07-05 | 2016-11-01 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organosilicon compound, thin film forming composition using same, and organic thin film |
| CN104475048A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-04-01 | 华玉叶 | 一种用于水处理的交联膜的制备方法 |
| CN115335338A (zh) * | 2020-03-31 | 2022-11-11 | 豪雅株式会社 | 玻璃及包含玻璃的物品 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2545642B2 (ja) | 1996-10-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH04132637A (ja) | ガラス | |
| CA2058341C (en) | Transparent substrate and method of manufacturing the same | |
| US6033738A (en) | Method for producing water-repellent articles, water-repellent articles obtained thereby, and solution for forming water-repellent film | |
| EP0719821A1 (en) | Water repellent surface treatment for plastic and coated plastic substrates | |
| JP4198598B2 (ja) | 超撥水性基体 | |
| EP0745568B1 (en) | Autophobic water repellent surface treatment | |
| CA2333758A1 (en) | Process for producing article coated with water-repellent film, article coated with water-repellent film, and liquid composition for water-repellent film coating | |
| EP0719743A1 (en) | Water repellent surface treatment with integrated primer | |
| US6503567B2 (en) | Transparent substrate and method of manufacturing the same | |
| WO2010101250A1 (ja) | 微細構造体、該微細構造体の製造方法、及び前記微細構造体を用いた自動車部品 | |
| US11292920B2 (en) | Water repellant surface treatment for aircraft transparencies and methods of treating aircraft transparencies | |
| US6521334B1 (en) | Transparent substrate and method of manufacturing the same | |
| EP0745567B1 (en) | Water repellent surface treatment with integrated primer | |
| EP0511657B1 (en) | Hydrophilic chemically adsorbed film and method of manufacturing the same | |
| JP2622316B2 (ja) | 撥水撥油性フィルム及びその製造方法 | |
| US20050175847A1 (en) | Hydrophobic coatings and methods | |
| EP0604677B1 (en) | Method of making coated shaped articles | |
| JP2577203B2 (ja) | 防汚性ガラスの製造方法 | |
| JP2577204B2 (ja) | 撥水撥油性ガラス | |
| JP2001172417A (ja) | 撥水膜被覆物品の製造方法、およびそれに用いる撥水膜被覆用液組成物 | |
| JPH11240103A (ja) | 透明被覆成形品 | |
| JP2532683B2 (ja) | 記録媒体の製造方法 | |
| JP3870254B2 (ja) | 高親水性薄膜及びその製造方法 | |
| JP2577203C (ja) | ||
| KR970002941B1 (ko) | 투광성기체 및 그 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070808 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080808 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090808 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100808 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 15 |