JPH04122937A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板作成用ドライフィルムフォトレ
ジスト又はフォトマスク、平版印刷版、樹脂凸版などの
用途に好適な、金属板に積層した状態での保存安定性に
優れたアルカリ現像可能な光重合性組成物に間する。
ジスト又はフォトマスク、平版印刷版、樹脂凸版などの
用途に好適な、金属板に積層した状態での保存安定性に
優れたアルカリ現像可能な光重合性組成物に間する。
近年のプリント基板作成等の分野において、ドライフィ
ルムレジストが広く使用されている。
ルムレジストが広く使用されている。
ドライフィルムレジストのアルカリ水溶液処理を可能に
するために、トライフィルムレジストの組成として、従
来よりカルボキシル基を有する高分子結合剤を用いるこ
とが広く知られている。
するために、トライフィルムレジストの組成として、従
来よりカルボキシル基を有する高分子結合剤を用いるこ
とが広く知られている。
しかし、カルボキシル基を有する高分子結合剤を用いた
場合、レジストを銅張積層板に積層したのち経時すると
、現像後に現れる未露光部の銅板の表面が赤褐色に変色
(いわゆる赤変)したり、現像残り(あるいはスカム)
が発生しやすい。この傾向は・ 経時時間とともに増大
する傾向にある。
場合、レジストを銅張積層板に積層したのち経時すると
、現像後に現れる未露光部の銅板の表面が赤褐色に変色
(いわゆる赤変)したり、現像残り(あるいはスカム)
が発生しやすい。この傾向は・ 経時時間とともに増大
する傾向にある。
実際の使用に際しては、レジストを銅張積層板に積層し
たのち数日間放置されるようなことも行われている。赤
変や現像残りの発生は、しばしばエツチング残りやメツ
キ膜剥がれを引き起こす原因となるため重大な問題であ
る。
たのち数日間放置されるようなことも行われている。赤
変や現像残りの発生は、しばしばエツチング残りやメツ
キ膜剥がれを引き起こす原因となるため重大な問題であ
る。
従来より赤変、あるいは現像残りの発生を防止するため
に光重合系への添加剤等が提案されてきた。例えば、特
公昭5B−22486号、特開昭61−194438各
号明細書においてクエン酸、マロン酸等の低分子量カル
ボン酸が提案されている。確かに、これらのカルボン酸
を添加することにより、赤変や現像残りを低下させるこ
とが可能である。しかし、添加量が少ない場合には十分
な効果が得られず、十分な効果を得るために多量に添加
すると、感度低下やレジストの耐アルカリ性の低下をも
たらす点て赤変防止剤としては未だ十分てはなかった。
に光重合系への添加剤等が提案されてきた。例えば、特
公昭5B−22486号、特開昭61−194438各
号明細書においてクエン酸、マロン酸等の低分子量カル
ボン酸が提案されている。確かに、これらのカルボン酸
を添加することにより、赤変や現像残りを低下させるこ
とが可能である。しかし、添加量が少ない場合には十分
な効果が得られず、十分な効果を得るために多量に添加
すると、感度低下やレジストの耐アルカリ性の低下をも
たらす点て赤変防止剤としては未だ十分てはなかった。
本発明は、アルカリ水溶液で現像可能な光重合性組成物
を金属板に積層した状態で保存したときに発生する赤変
、現像残り及び感度低下を抑制し、高感度で金属板への
密着性の良い光重合性組成物を提供することを目的とす
る。
を金属板に積層した状態で保存したときに発生する赤変
、現像残り及び感度低下を抑制し、高感度で金属板への
密着性の良い光重合性組成物を提供することを目的とす
る。
本発明者等は、種々の検討を重ねた結果、上記の目的を
達成しろる光重合性組成物を見出した。
達成しろる光重合性組成物を見出した。
即ち、本発明の目的は、 (1)カルボキシル基含有高
分子結合剤、 (2)光重合可能なモノマー(3)光重
合開始剤系、を含有する組成物に、更に(4)下記一般
式(I)および/または(If)で表される化合物を添
加したことを特徴とするアルカリ水溶液で現像可能な光
重合性組成物により達成された。
分子結合剤、 (2)光重合可能なモノマー(3)光重
合開始剤系、を含有する組成物に、更に(4)下記一般
式(I)および/または(If)で表される化合物を添
加したことを特徴とするアルカリ水溶液で現像可能な光
重合性組成物により達成された。
R−0M (I)R’
−0−CSSM (n)[R: R’
−5○−R’ −SO2−R′ ○−8〇−R′
○−8○2−1 MO−5O−1MO−SO2−NO−
NO2− R′:炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜10の
アリール基、炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アリール基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基で置換
されたアリール基、炭素数2〜20のアルキルオキシカ
ルボニル基で置換されたアリール基、 M:アルカリ金属] これらの効果の理由は明確ではないが、以下のように考
えられる。即ち、赤変を防止する効果については、式(
I)および(II)に示した特定の構造を有する化合物
が金属板とのおおきな相互作用を有し、かつアルカリ現
像液で容易に除去されることに起因するものと思われる
。
−0−CSSM (n)[R: R’
−5○−R’ −SO2−R′ ○−8〇−R′
○−8○2−1 MO−5O−1MO−SO2−NO−
NO2− R′:炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜10の
アリール基、炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アリール基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基で置換
されたアリール基、炭素数2〜20のアルキルオキシカ
ルボニル基で置換されたアリール基、 M:アルカリ金属] これらの効果の理由は明確ではないが、以下のように考
えられる。即ち、赤変を防止する効果については、式(
I)および(II)に示した特定の構造を有する化合物
が金属板とのおおきな相互作用を有し、かつアルカリ現
像液で容易に除去されることに起因するものと思われる
。
本発明の光重合性組成物に用いられるカルボキシル基含
有高分子結合剤は、広範な種類の合成、半合成、天然の
高分子物質の中から次の条件を満足するものが用いられ
る。即ち、非ガス状エチレン性不飽和化合物、光重合開
始剤系との相溶性が良好で、塗布液の調製から、塗布、
乾燥にいたる製造工程、および得られる混合物の保存中
に脱混合を起こさないこと、本発明の使用法に応じた性
質、例えば、テンティング用フォトレジストに用いる場
合には結合剤の強度、延伸性、耐摩耗性、耐薬品性など
が適当であること、さらに、結合剤の分子量、分子間力
、硬さ、軟化温度、結晶性、破壊伸度などが適切なこと
である。
有高分子結合剤は、広範な種類の合成、半合成、天然の
高分子物質の中から次の条件を満足するものが用いられ
る。即ち、非ガス状エチレン性不飽和化合物、光重合開
始剤系との相溶性が良好で、塗布液の調製から、塗布、
乾燥にいたる製造工程、および得られる混合物の保存中
に脱混合を起こさないこと、本発明の使用法に応じた性
質、例えば、テンティング用フォトレジストに用いる場
合には結合剤の強度、延伸性、耐摩耗性、耐薬品性など
が適当であること、さらに、結合剤の分子量、分子間力
、硬さ、軟化温度、結晶性、破壊伸度などが適切なこと
である。
結合剤の具体例を挙げると、 (メタ)アクリル酸と(
メタ)アクリル酸アルキルエステル(アルキル基として
は、メチル基、エチル基、ブチル基なと)との共重合物
、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレンと無水マレイン酸
などの不飽和二塩基酸無水物との共重合物、および該ポ
リマーとアルコール類との反応物、セルロースの多塩基
酸無水物との反応物などがある。
メタ)アクリル酸アルキルエステル(アルキル基として
は、メチル基、エチル基、ブチル基なと)との共重合物
、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレンと無水マレイン酸
などの不飽和二塩基酸無水物との共重合物、および該ポ
リマーとアルコール類との反応物、セルロースの多塩基
酸無水物との反応物などがある。
上記のポリマーのうち、本発明の結合剤として特に好適
に用いられるものは、スチレン/無水マレイン酸共重合
体、特開昭60−25853958539号明細書記載
ル酸メチル/メタクリル酸/メタクリル酸2−エチルヘ
キシル/メタクリル酸ヘンシル四元共重合体、特公昭5
5−38961号明細書記載のスチレン/マレイン酸モ
ノ−nブチルエステル共重合体、特公昭!54−259
57号明細書記載のスチレン/メタクリル酸メチル/ア
クリル酸エチル/メタクリル酸の四元共重合体、特開昭
52−99810号明細書記載のメタクリル酸ヘンシル
/メタクリル酸共重合体、特公昭5B−12577号明
細書記載のアクリロニトリル/メタクリル酸2−エチル
ヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体、および特公昭
55−6210号明細書記載のメタクリル酸メチル/ア
クノル酸エチル/アクリル酸の三元共重合体とイソプロ
パツールで一部分エステル化したスチレン/無水マレイ
ン酸共重合体の2種なとである。
に用いられるものは、スチレン/無水マレイン酸共重合
体、特開昭60−25853958539号明細書記載
ル酸メチル/メタクリル酸/メタクリル酸2−エチルヘ
キシル/メタクリル酸ヘンシル四元共重合体、特公昭5
5−38961号明細書記載のスチレン/マレイン酸モ
ノ−nブチルエステル共重合体、特公昭!54−259
57号明細書記載のスチレン/メタクリル酸メチル/ア
クリル酸エチル/メタクリル酸の四元共重合体、特開昭
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/メタクリル酸共重合体、特公昭5B−12577号明
細書記載のアクリロニトリル/メタクリル酸2−エチル
ヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体、および特公昭
55−6210号明細書記載のメタクリル酸メチル/ア
クノル酸エチル/アクリル酸の三元共重合体とイソプロ
パツールで一部分エステル化したスチレン/無水マレイ
ン酸共重合体の2種なとである。
これらの結合剤は、単独で結合剤として用いてもよいが
、相溶性が良好で、塗布液の調製から、塗布、乾燥にい
たる製造工程、および得られる混合物の保存中に脱堰合
を起こさないポリマーを2種以上適当な比率で混合して
結合剤として用いてもよい。
、相溶性が良好で、塗布液の調製から、塗布、乾燥にい
たる製造工程、および得られる混合物の保存中に脱堰合
を起こさないポリマーを2種以上適当な比率で混合して
結合剤として用いてもよい。
結合剤として用いられる高分子物質の分子量はポリマー
の種類によって広範な値をとりうるが、−船釣には、5
,000〜2,000,000、好ましくは、 10,
000〜200,000、更に好ましくは、40,00
0〜85,000の範囲のものが本発明に好適に用いら
れる。分子量が5.000来満ては、光重合して得られ
たレジストの力学的強度が不十分となり、2. 000
. 000以上では現像性が悪化するため、本発明の目
的ここは適さない。
の種類によって広範な値をとりうるが、−船釣には、5
,000〜2,000,000、好ましくは、 10,
000〜200,000、更に好ましくは、40,00
0〜85,000の範囲のものが本発明に好適に用いら
れる。分子量が5.000来満ては、光重合して得られ
たレジストの力学的強度が不十分となり、2. 000
. 000以上では現像性が悪化するため、本発明の目
的ここは適さない。
結合剤の量は、光重合性組成物の固形分に対して好まし
くは40〜90 w t%、より好ましくは50〜70
w t%である。40 w t%未溝では、光重合組
成物の流動性が高すぎてクリープ現象を起こしやすくな
り、また90wt%を越えると露光部と未露光部との溶
解性の差が小さくなりすぎるため良好な画質が得られな
いため、いずれも本発明の目的には適さない。
くは40〜90 w t%、より好ましくは50〜70
w t%である。40 w t%未溝では、光重合組
成物の流動性が高すぎてクリープ現象を起こしやすくな
り、また90wt%を越えると露光部と未露光部との溶
解性の差が小さくなりすぎるため良好な画質が得られな
いため、いずれも本発明の目的には適さない。
また、本発明に用いることのできる光重合性モノマーと
しては、以下のものがある。例えば、特開昭60−25
8539号、特願平1−91247号明細書に記載され
ているような、公知の(メタ)アクリル酸エステルを挙
げることができる。
しては、以下のものがある。例えば、特開昭60−25
8539号、特願平1−91247号明細書に記載され
ているような、公知の(メタ)アクリル酸エステルを挙
げることができる。
具体的には、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラデ力エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノ
ナブロビレングリコールジ(メタ)アクリレート、トデ
カブロビレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート トリメ
チロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ(
メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、1,3−
プロパンジオールジ(メタ)アクリレート等のポリオー
ルの(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
ート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート
、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テト
ラデ力エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノ
ナブロビレングリコールジ(メタ)アクリレート、トデ
カブロビレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート トリメ
チロールプロパンのエチレンオキサイド付加物のトリ(
メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、1,3−
プロパンジオールジ(メタ)アクリレート等のポリオー
ルの(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。
(メタ)アクリルアミド頚としては、メチレンビス(メ
タ)アクリルアミドのほか、エチレンジアミン、ジアミ
ノプロパン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミン
、ビス(2−アミノプロピル)アミン、ジエチレントリ
アミンジアミン、フェニレンジアミン、ジアミノ安息香
酸なとから誘導されるポリ(メタ)アクリルアミドがあ
る。
タ)アクリルアミドのほか、エチレンジアミン、ジアミ
ノプロパン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジアミン
、ビス(2−アミノプロピル)アミン、ジエチレントリ
アミンジアミン、フェニレンジアミン、ジアミノ安息香
酸なとから誘導されるポリ(メタ)アクリルアミドがあ
る。
フリル化合物としては、例えば、フタル酸、マロン酸等
のジアリルエステル、ベンゼンジスルホン酸、2,5−
ジヒドロキシジスルホン酸等のジアリルエステルなどが
ある。
のジアリルエステル、ベンゼンジスルホン酸、2,5−
ジヒドロキシジスルホン酸等のジアリルエステルなどが
ある。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリ
コールジビニルエーテル、1. 3. 5−トリーβ−
ビニルオキシエトキシベンゼンなどがある。
コールジビニルエーテル、1. 3. 5−トリーβ−
ビニルオキシエトキシベンゼンなどがある。
ビニルエステル類としては、コハク酸ジビニル、アジピ
ン酸ジビニルなとがある。
ン酸ジビニルなとがある。
スチレン化合物としては、ジビニルベンゼン、p−アリ
ルスチレンなどがある。
ルスチレンなどがある。
更に、少なくとも二つの水酸基を有するポリオール化合
物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシアネート基を
有するポリイソシアネート化合物とを反応させて得られ
た反応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも
一つのエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させ
て得られる、少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有
する多官能ウレタン化合物も本発明に好適に用いること
ができる。
物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシアネート基を
有するポリイソシアネート化合物とを反応させて得られ
た反応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なくとも
一つのエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させ
て得られる、少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有
する多官能ウレタン化合物も本発明に好適に用いること
ができる。
光重合性モノマーの量は光重合性組成物の固形分の10
〜60 w t%、好ましくは25〜50w七%の範囲
で用いられる。10wt%未満ては、露光部と未露光部
との溶解性の差が小さすぎるため、良好な画質が得られ
ず、60 w t%を越えると、光重合性組成物の流動
性が高すぎてクリープ現象を起こしやすいので本発明の
目的には適合しない。
〜60 w t%、好ましくは25〜50w七%の範囲
で用いられる。10wt%未満ては、露光部と未露光部
との溶解性の差が小さすぎるため、良好な画質が得られ
ず、60 w t%を越えると、光重合性組成物の流動
性が高すぎてクリープ現象を起こしやすいので本発明の
目的には適合しない。
本発明に使用できる好適な光重合開始剤としては、約3
00〜SO0 n m、 より好ましくは330〜5
00nmの範囲に少なくとも約50の分子吸光係数を有
する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい
。例えば、芳香族ケトン顛、ロフィン2重体、ベンゾイ
ンおよびベンゾインエーテル頚、ポリハロゲン顛および
これらの2種以上の組合せなどがある。
00〜SO0 n m、 より好ましくは330〜5
00nmの範囲に少なくとも約50の分子吸光係数を有
する成分を少なくとも1種含有していることが好ましい
。例えば、芳香族ケトン顛、ロフィン2重体、ベンゾイ
ンおよびベンゾインエーテル頚、ポリハロゲン顛および
これらの2種以上の組合せなどがある。
これらの具体例として、以下の化合物を挙げることがで
きる。
きる。
芳香族ケトン頚としては、例えば、ヘンシフエノン、4
,4′−ビス(ジメチルアミノ)ヘンシフエノン、4−
メトキシ−4′−ジメチルアミノヘンシフエノン、4,
4′ −ジメトキシベンゾフェノン、4−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノアセトフェノン
、ベンジル、アントラキノン、2−tert−ブチルア
ントラキノン、2−メチルアントラキノン、キサントン
、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2゜4
−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、アクリドン
などがある。
,4′−ビス(ジメチルアミノ)ヘンシフエノン、4−
メトキシ−4′−ジメチルアミノヘンシフエノン、4,
4′ −ジメトキシベンゾフェノン、4−ジメチルアミ
ノベンゾフェノン、4−ジメチルアミノアセトフェノン
、ベンジル、アントラキノン、2−tert−ブチルア
ントラキノン、2−メチルアントラキノン、キサントン
、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2゜4
−ジエチルチオキサントン、フルオレノン、アクリドン
などがある。
ロフィン2量体として好適に用いられるものとしては、
前記の特公昭45−37377号、特公昭48−384
03号、特開昭56−35134号、特願昭63−20
0605号各明細書定記載されているものなどが挙げら
れる。例えば、2−(0−クロロフェニル)−4,5−
ジフェニルイミダゾール2重体、2−(o−クロロフェ
ニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾ
ール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4゜5−
ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール21体、2
−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール2I体なとがある。
前記の特公昭45−37377号、特公昭48−384
03号、特開昭56−35134号、特願昭63−20
0605号各明細書定記載されているものなどが挙げら
れる。例えば、2−(0−クロロフェニル)−4,5−
ジフェニルイミダゾール2重体、2−(o−クロロフェ
ニル)−4,5−ジ(m−メトキシフェニル)イミダゾ
ール2量体、2−(o−フルオロフェニル)−4゜5−
ジフェニルイミダゾール2量体、2−(o−メトキシフ
ェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール21体、2
−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール2I体なとがある。
ベンゾインおよびヘンジインエーテル頚としては、ベン
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ヘ
ンゾインイソブロビルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテルなとがある。
ゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ヘ
ンゾインイソブロビルエーテル、ベンゾインフェニルエ
ーテルなとがある。
ポリハロゲン化合物としては、例えば、四臭化炭素、フ
ェニルトリブロモメチルフェニルスルホン、フェニルト
リクロロメチルケトン、および、特開昭53−1334
28号、特公昭57−1819号、特公昭57−609
6号、米国特許第3615455定番明細書に記載の化
合物がある。
ェニルトリブロモメチルフェニルスルホン、フェニルト
リクロロメチルケトン、および、特開昭53−1334
28号、特公昭57−1819号、特公昭57−609
6号、米国特許第3615455定番明細書に記載の化
合物がある。
特に好ましい例としては、4,4′−ビス(ジメチルア
ミノ)ヘンシフエノン、4,4′ −ビス(ジエチルア
ミン)ベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ヘンシフエノン
とベンゾフェノンとの朝合せ、4,4′−ビス(ジエチ
ルアミノ)ヘンシフエノンとフェニルトリブロモメチル
フェニルスルホンとの組合せなどが挙げられる。
ミノ)ヘンシフエノン、4,4′ −ビス(ジエチルア
ミン)ベンゾフェノン、2,4−ジエチルチオキサント
ン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)ヘンシフエノン
とベンゾフェノンとの朝合せ、4,4′−ビス(ジエチ
ルアミノ)ヘンシフエノンとフェニルトリブロモメチル
フェニルスルホンとの組合せなどが挙げられる。
光重合開始剤系の含有量は、光重合性組成物の固形分に
対して、好ましくは0. 1〜20 w 4%、より好
ましくは0. 2〜10wt%である。0゜1wt%未
満ては、感度が不足し、20 w 4%を越えると光重
合性組成物の膜物性に悪影響を及ぼすため、本発明の目
的には適合しない。
対して、好ましくは0. 1〜20 w 4%、より好
ましくは0. 2〜10wt%である。0゜1wt%未
満ては、感度が不足し、20 w 4%を越えると光重
合性組成物の膜物性に悪影響を及ぼすため、本発明の目
的には適合しない。
式(I)及び(II)で表される化合物には、アルキル
スルフィン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウ
ム、アリールスルホン酸ナトリウム、亜硫酸モノアルキ
ルナトリウム、硫酸モノアルキルナトリウム、硫酸モノ
アリールナトリウム、亜硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸カリウム、亜硝酸ナトリウム、硝酸ナトリウム
、硝酸カリウム、アルキルキサントゲン酸ナトリウム、
アルキルキサントゲン酸カリウム、アリールキサントゲ
ン酸カリウムなど、一般式(I)および/または(II
)で表される範囲の化合物ならば、本願発明の光重合組
成物としていずれも好適に用いることができる。
スルフィン酸ナトリウム、アルキルスルホン酸ナトリウ
ム、アリールスルホン酸ナトリウム、亜硫酸モノアルキ
ルナトリウム、硫酸モノアルキルナトリウム、硫酸モノ
アリールナトリウム、亜硫酸ナトリウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸カリウム、亜硝酸ナトリウム、硝酸ナトリウム
、硝酸カリウム、アルキルキサントゲン酸ナトリウム、
アルキルキサントゲン酸カリウム、アリールキサントゲ
ン酸カリウムなど、一般式(I)および/または(II
)で表される範囲の化合物ならば、本願発明の光重合組
成物としていずれも好適に用いることができる。
これらの化合物は、それぞれ車独で用いてもよいが、2
種以上の化合物を併用してもよい。
種以上の化合物を併用してもよい。
一般式(I)、 (II)で表される化合物の総量は、
光重合性組成物の固形分の0,1〜10wt%、好まし
くは0.2〜5wt%の範囲である。
光重合性組成物の固形分の0,1〜10wt%、好まし
くは0.2〜5wt%の範囲である。
0.1wt%未満ては、赤変を防止する効果が弱くなり
、10wt%を越えると、レジスト性が低下し、エツチ
ングやメツキに耐えられなくなるため、本発明の目的に
は適合しない。
、10wt%を越えると、レジスト性が低下し、エツチ
ングやメツキに耐えられなくなるため、本発明の目的に
は適合しない。
本発明の光重合性組成物は、前述のごとく、カルボキシ
ル基含有高分子結合剤、光重合開始剤(系)、一般式(
I)および/または(If)で表される化合物および光
重合性モノマーから成るが、必要に応じて、熱重合禁止
剤、可葱剤、色素、変色剤、密着促進剤等を併用しても
よく、これによって目的とするフォトレジスト、樹脂凸
版、平版印刷版、フォトマスク等を広範に調製できる。
ル基含有高分子結合剤、光重合開始剤(系)、一般式(
I)および/または(If)で表される化合物および光
重合性モノマーから成るが、必要に応じて、熱重合禁止
剤、可葱剤、色素、変色剤、密着促進剤等を併用しても
よく、これによって目的とするフォトレジスト、樹脂凸
版、平版印刷版、フォトマスク等を広範に調製できる。
熱重合禁止剤は、光重合性組成物の熱的な重合や経時的
な重合を防止するために添加するもので、これにより光
重合性組成物の調製時や金属板に積層して使用するまで
の保存時の化学的な安定性を高めることができる。熱重
合禁止剤の例としては、p−メトキシフェノール、ハイ
ドロキノン、ベンゾキノン、0−トルキノン、p−)ル
キノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、2−ヒ
ドロキシベンゾフェノン、4−メトキシ2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラ
ニル、クロラニル、ナフチルアミン、ピリジン、p−)
ルイジン、β−ナフトール、2,6−ジーt−ブチル−
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、
ピクリン酸、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミオ
ンのアルミニウム塩もしくはアンモニウム塩、メチレン
ブルー有機鋼、サリチル酸メチル、アリールフォスファ
イト等が挙げられる。
な重合を防止するために添加するもので、これにより光
重合性組成物の調製時や金属板に積層して使用するまで
の保存時の化学的な安定性を高めることができる。熱重
合禁止剤の例としては、p−メトキシフェノール、ハイ
ドロキノン、ベンゾキノン、0−トルキノン、p−)ル
キノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、2−ヒ
ドロキシベンゾフェノン、4−メトキシ2−ヒドロキシ
ベンゾフェノン、塩化第一銅、フェノチアジン、フロラ
ニル、クロラニル、ナフチルアミン、ピリジン、p−)
ルイジン、β−ナフトール、2,6−ジーt−ブチル−
p−クレゾール、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、
ピクリン酸、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミオ
ンのアルミニウム塩もしくはアンモニウム塩、メチレン
ブルー有機鋼、サリチル酸メチル、アリールフォスファ
イト等が挙げられる。
熱重合禁止剤の好ましい添加量は、光重合性組成物の固
形分に対して、0.001〜10wt%、より好ましく
は、0.01〜3wt%である。0゜001 w t%
未満では、熱安定性が劣り、10wt%を越えると感度
が低下する。
形分に対して、0.001〜10wt%、より好ましく
は、0.01〜3wt%である。0゜001 w t%
未満では、熱安定性が劣り、10wt%を越えると感度
が低下する。
可塑剤は、光重合性組成物の光硬化前後の膜質やその他
の物性、感光性等を調整するために添加する。可塑剤の
例としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘブチル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジアリル等のフタル酸エ
ステル類、トリエチレングリコールジアセテート、テト
ラエチレングリコールジアセテート等のグリコールエス
テル類、p−)ルエンスルホンアミド、ヘンゼンスルホ
ンアミド、N−n−ブチルベンゼンスルホンアミド等の
酸アミド類、アジピン酸ジイソブチル、アゼライン酸ジ
オクチル、マレイン酸ジブチル等の脂肪族2塩基酸エス
テル類、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセテー
ト、ラウリン酸ブチル4゜5−ジェポキシシクロヘキサ
ン−1,2−ジカルボン酸ジオクチルなどが挙げられる
。
の物性、感光性等を調整するために添加する。可塑剤の
例としては、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘブチル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジアリル等のフタル酸エ
ステル類、トリエチレングリコールジアセテート、テト
ラエチレングリコールジアセテート等のグリコールエス
テル類、p−)ルエンスルホンアミド、ヘンゼンスルホ
ンアミド、N−n−ブチルベンゼンスルホンアミド等の
酸アミド類、アジピン酸ジイソブチル、アゼライン酸ジ
オクチル、マレイン酸ジブチル等の脂肪族2塩基酸エス
テル類、クエン酸トリブチル、グリセリントリアセテー
ト、ラウリン酸ブチル4゜5−ジェポキシシクロヘキサ
ン−1,2−ジカルボン酸ジオクチルなどが挙げられる
。
可塑剤の好ましい添加量は、光重合性組成物の固形分の
0.001〜50 w 4%であり、より好ましくは、
0.01〜20 w 4%である。50wt%を越える
と現像性や画質に悪影響を及ぼす。
0.001〜50 w 4%であり、より好ましくは、
0.01〜20 w 4%である。50wt%を越える
と現像性や画質に悪影響を及ぼす。
色素は、光重合性組成物の着色のために添加される。色
素の例としては、マラカイトグリーン、メチルグリーン
、ブリリアトゲリーン、メチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット、エチルバイオレット、ビクトリアピュ
アブルーBOI(、オイルブルー#603 (オリエン
ト化学工業株式会社製)、エオシン、エリスロシンB、
ローズヘンガル、ローダミンB、ローダミン6G、
2. 7−ジクロロフルオレセイン、フェノールフタレ
イン、アリザリンレッドS、チモールフタレイン、キナ
ルジンレット、メタニルイエロー チモールスルホフタ
レイン、ジフェニルトリアゼン、キシレノールブルー
メチルコンゴレッド、ジフェニルチオ力ルバブン、バラ
メチルレッド、コンゴーレッド、ヘンゾブルプリン4B
、α−ナフチルレット、オイルブルーA、フェナセタリ
ン、バラツクシン、ヘイシックツクシン等を挙げること
ができる。
素の例としては、マラカイトグリーン、メチルグリーン
、ブリリアトゲリーン、メチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット、エチルバイオレット、ビクトリアピュ
アブルーBOI(、オイルブルー#603 (オリエン
ト化学工業株式会社製)、エオシン、エリスロシンB、
ローズヘンガル、ローダミンB、ローダミン6G、
2. 7−ジクロロフルオレセイン、フェノールフタレ
イン、アリザリンレッドS、チモールフタレイン、キナ
ルジンレット、メタニルイエロー チモールスルホフタ
レイン、ジフェニルトリアゼン、キシレノールブルー
メチルコンゴレッド、ジフェニルチオ力ルバブン、バラ
メチルレッド、コンゴーレッド、ヘンゾブルプリン4B
、α−ナフチルレット、オイルブルーA、フェナセタリ
ン、バラツクシン、ヘイシックツクシン等を挙げること
ができる。
色素の好ましい添加量は、光重合性組成物の固形分の0
.001〜10wt%、より好ましくは0.1〜5wt
%である。10wt%を越えると、感度に悪影響を与え
る。
.001〜10wt%、より好ましくは0.1〜5wt
%である。10wt%を越えると、感度に悪影響を与え
る。
変色剤は、光重合性組成物をフォトマスクを通して光照
射したときに可視像が得られるように添加される。変色
剤の例としては、前記の色素の他にジフェニルアミン、
ジベンジルアニリン、トリフェニルアミン、ジエチルア
ニリン、ジフェニル−p−フェニレンジアミン、I)−
)ルイジン、4゜4′−ビフェニルジアミン、0−クロ
ロアニリン、p、p′、p”−ヘキサメチルドリアミツ
トリフェニルメタン、p、p’−テトラメチルジアミノ
トリフェニルメタン、 p、p’、p”−トリアミノ
トリフェニルカルビノール等が挙げられる。
射したときに可視像が得られるように添加される。変色
剤の例としては、前記の色素の他にジフェニルアミン、
ジベンジルアニリン、トリフェニルアミン、ジエチルア
ニリン、ジフェニル−p−フェニレンジアミン、I)−
)ルイジン、4゜4′−ビフェニルジアミン、0−クロ
ロアニリン、p、p′、p”−ヘキサメチルドリアミツ
トリフェニルメタン、p、p’−テトラメチルジアミノ
トリフェニルメタン、 p、p’、p”−トリアミノ
トリフェニルカルビノール等が挙げられる。
変色剤の好ましい添加量は、光重合性組成物の固形分の
0.001〜10wt%、より好ましくは0.01〜5
wt%である。10wt%を越えろと、感度低下やカブ
リを起こしやすい。
0.001〜10wt%、より好ましくは0.01〜5
wt%である。10wt%を越えろと、感度低下やカブ
リを起こしやすい。
密着促進剤は、銅、ステンレス、陽極酸化したアルミニ
ウム、シリコン等の金属板等の表面への光重合性組成物
の密着性を高めるために添加する。
ウム、シリコン等の金属板等の表面への光重合性組成物
の密着性を高めるために添加する。
密着促進剤の例としては、特公昭50−9177号明細
書に記載されているベンズイミダゾール、ベンズチアゾ
ール、ベンズトリアゾール、特開昭53−702号明*
Vに記載されている2−メルカプトベンズチア゛ブール
、2−メルカプトベンズイミダゾール、また、特開昭5
9−113432号、特開昭59−16501号、特開
昭60−12543号、特開昭60−12544号、特
開昭61−172139号各明細書定記載されている化
合物を挙げることができる。
書に記載されているベンズイミダゾール、ベンズチアゾ
ール、ベンズトリアゾール、特開昭53−702号明*
Vに記載されている2−メルカプトベンズチア゛ブール
、2−メルカプトベンズイミダゾール、また、特開昭5
9−113432号、特開昭59−16501号、特開
昭60−12543号、特開昭60−12544号、特
開昭61−172139号各明細書定記載されている化
合物を挙げることができる。
密着促進剤の好ましい添加量は、光重合性組成物の固形
分の0.001〜10wt%、より好ましくは0.01
〜5wt%である。10wt%を越えると現像残りの原
因となる。
分の0.001〜10wt%、より好ましくは0.01
〜5wt%である。10wt%を越えると現像残りの原
因となる。
本発明の光重合性組成物は、基板にラミネート・画像露
光した後、未露光部を溶解除去(現像)することにより
、レジスト像を形成することができる。本発明の光重合
性組成物は、アルカリ水溶液により現像することができ
る。現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸リチウム、アンモニア等の0. 1〜10
wt%の水溶液を用いることができるが、場合によって
は、アミン類、例えばブチルアミン、ヘキシルアミン、
ベンジルアミン、アリルアミン等の1級アミン、ジエチ
ルアミン、ヘンシルエチルアミン等の2級アミン、トリ
エチルアミン等の3級アミン、エタノールアミン、ジェ
タノールアミン、トノエタノールアミン、2−アミノ−
1,3−プロパンジオール等のヒドロキシルアミン、モ
ルホリン、ピリジン、ピペラジン、ピペリジン等の環状
アミン、前記アミンのfiRW!i塩、炭酸塩、重炭酸
塩、アルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸塩等の塩基性塩
、テトラメチルアンモニウムヒトロキシト、コリン等の
ヒドロキシ塩等を使用することもてきる。
光した後、未露光部を溶解除去(現像)することにより
、レジスト像を形成することができる。本発明の光重合
性組成物は、アルカリ水溶液により現像することができ
る。現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸リチウム、アンモニア等の0. 1〜10
wt%の水溶液を用いることができるが、場合によって
は、アミン類、例えばブチルアミン、ヘキシルアミン、
ベンジルアミン、アリルアミン等の1級アミン、ジエチ
ルアミン、ヘンシルエチルアミン等の2級アミン、トリ
エチルアミン等の3級アミン、エタノールアミン、ジェ
タノールアミン、トノエタノールアミン、2−アミノ−
1,3−プロパンジオール等のヒドロキシルアミン、モ
ルホリン、ピリジン、ピペラジン、ピペリジン等の環状
アミン、前記アミンのfiRW!i塩、炭酸塩、重炭酸
塩、アルカリ金属リン酸塩、ピロリン酸塩等の塩基性塩
、テトラメチルアンモニウムヒトロキシト、コリン等の
ヒドロキシ塩等を使用することもてきる。
[実施例コ
以下に、実施例に基づき本発明を更に詳細に説明するが
、本発明はこれによって限定されるものではない。
、本発明はこれによって限定されるものではない。
なお、 「部」は、特に断りのないかぎり、 「重量部
」を意味する。
」を意味する。
実施例1〜6、比較例1〜4
以下に示した素材を混合して均一な溶液を調製した。
メタクリル酸メチル/メタクリルvi/アクリル酸2−
エチルヘキシル/メタクリル酸ベンジル共重合体(モル
比=55/2B/1215. 重量平均分子量=79
,000の35 w t%溶液、溶媒はメチルエチルケ
トン/1−メトキシ−2−プロパツール=2/1)
45部ドデカプロピレングリコールジアクリ
レート6.5部 テトラエチレングリコールジメタクリレート1.5部 p−トルエンスルホンアミド 0.5部4.4
”−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
0.0
5部ベンゾフェノン 1.0部2
−(2’−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール2量体(25w t%ジクロロメタン溶液)2
.0部 トリブロモメチルフェニルスルホン 0.1部ロイコ
クリスタルバイオビット 0.1部マラカイトグ
リーン 0.01部このようにして得ら
れた溶液に、本発明の一般式(I)および/または(I
I)で表される化合物、および比較例として特開昭61
−194438号明細書に記載されているクエン酸等(
比較例2〜4)を、それぞれ第1表に示した量だけ添加
した。
エチルヘキシル/メタクリル酸ベンジル共重合体(モル
比=55/2B/1215. 重量平均分子量=79
,000の35 w t%溶液、溶媒はメチルエチルケ
トン/1−メトキシ−2−プロパツール=2/1)
45部ドデカプロピレングリコールジアクリ
レート6.5部 テトラエチレングリコールジメタクリレート1.5部 p−トルエンスルホンアミド 0.5部4.4
”−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン
0.0
5部ベンゾフェノン 1.0部2
−(2’−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミ
ダゾール2量体(25w t%ジクロロメタン溶液)2
.0部 トリブロモメチルフェニルスルホン 0.1部ロイコ
クリスタルバイオビット 0.1部マラカイトグ
リーン 0.01部このようにして得ら
れた溶液に、本発明の一般式(I)および/または(I
I)で表される化合物、および比較例として特開昭61
−194438号明細書に記載されているクエン酸等(
比較例2〜4)を、それぞれ第1表に示した量だけ添加
した。
更に攪拌・溶解させた後、各々の溶液を厚さ20μmの
ポリエチレンテレフタレート仮支持体上に塗布し、10
0℃で2分間乾燥して約40μm厚の感光性樹脂塗布膜
を有する感材を得た。この感材を清浄化した銅張積層板
(銅厚35μm)上に105℃でそれぞれ2枚ずつ積層
した。1枚は遮光して23℃65%RHの温湿度下に4
日間静置した。残った1枚は、15分後に以下に述べる
特性を有する2種類のネガ原稿を介して、5部w超高圧
水録灯(オーク社(株)製HMW−532D)を用いて
、種々の露光量で露光した。
ポリエチレンテレフタレート仮支持体上に塗布し、10
0℃で2分間乾燥して約40μm厚の感光性樹脂塗布膜
を有する感材を得た。この感材を清浄化した銅張積層板
(銅厚35μm)上に105℃でそれぞれ2枚ずつ積層
した。1枚は遮光して23℃65%RHの温湿度下に4
日間静置した。残った1枚は、15分後に以下に述べる
特性を有する2種類のネガ原稿を介して、5部w超高圧
水録灯(オーク社(株)製HMW−532D)を用いて
、種々の露光量で露光した。
チャートAニライン輻/スペース幅(L/S)1/3、
ライン幅=30μm〜100μm(10μmステップ、
各幅のラインは5本ずつある)チャートB:冨士ステッ
プガイド’P(濃度の段差は0.15) 露光15分後、1%炭酸ナトリウム水溶液(30℃)で
40秒間スプレー現像したのち、20℃の水で40秒間
水洗した。このようにして得られたA、 B両原稿に
よるレジストパターンを目視、および光学顕微鏡で観察
した。評価は以下のように行った。
ライン幅=30μm〜100μm(10μmステップ、
各幅のラインは5本ずつある)チャートB:冨士ステッ
プガイド’P(濃度の段差は0.15) 露光15分後、1%炭酸ナトリウム水溶液(30℃)で
40秒間スプレー現像したのち、20℃の水で40秒間
水洗した。このようにして得られたA、 B両原稿に
よるレジストパターンを目視、および光学顕微鏡で観察
した。評価は以下のように行った。
く感度〉
100mj/Cイで露光したときに得られたチャー)B
のパターンにおけるクリアー段数を感度とした。この方
法では、段数が大きいほと感度が高いことがわかる。
のパターンにおけるクリアー段数を感度とした。この方
法では、段数が大きいほと感度が高いことがわかる。
〈密着性〉
8段クリアー露光量の得られる露光量で露光して得られ
たチャートAのパターンを観察し、5本のラインが全て
よれたり剥がれたすせずに残っている最も細い線のライ
ン幅を、密着性として記録した。この方法では、ライン
幅が小さいほと密着性が高いことがわかる。
たチャートAのパターンを観察し、5本のラインが全て
よれたり剥がれたすせずに残っている最も細い線のライ
ン幅を、密着性として記録した。この方法では、ライン
幅が小さいほと密着性が高いことがわかる。
111度血脂JIJfM
積層した後、遮光して23℃65%RHの温湿度下に4
日間静置したサンプルを前述同様に処理した。このサン
プルについて以下の評価を行った。
日間静置したサンプルを前述同様に処理した。このサン
プルについて以下の評価を行った。
〈感度〉
前述同様。
く赤変〉
チャートAを用いて露光・現像して得られたパターンの
非画像部の色を目視観察した。赤褐色化が進行していな
いものほど良い。
非画像部の色を目視観察した。赤褐色化が進行していな
いものほど良い。
〈粒状固形物の観察〉
チャー)Aを用いて露光・現像して得られたパターンの
非画像部を顕微鏡観察し、粒状固形物の発生の有無を確
認した。
非画像部を顕微鏡観察し、粒状固形物の発生の有無を確
認した。
〈エツチング性〉
赤変と粒状固形物の観察を行ったのち、同サンプルをエ
ツチング処理した。得られたサンプルの非画像部に銅が
残っていないものが良い。
ツチング処理した。得られたサンプルの非画像部に銅が
残っていないものが良い。
エツチングは、液の組成が塩化銅二水和物400g/l
−35%塩wilOOg/I、液温45℃、スプレー圧
2.0kg/ctn”、エツチング時間20分、水洗時
間2.0分、の条件で行った。
−35%塩wilOOg/I、液温45℃、スプレー圧
2.0kg/ctn”、エツチング時間20分、水洗時
間2.0分、の条件で行った。
以上の評価結果を第1表に示した
〔発明の効果〕
第1表に示したように、本発明の化合物を添加した光重
合性組成物は、銅張積層板に積層したのちに軽時させて
も、 (1)実質上赤変がなく、 (2)実質上感度の
低下が無く、かつ(3)エツチング性が良好であること
がわかる。更に、銅張積層板に積層させた直後の評価に
おいて、 (4)感度が高く、 (5)レジストパター
ンの密着性が良好である点においても従来公知の組成物
より優れていることは明らかである。
合性組成物は、銅張積層板に積層したのちに軽時させて
も、 (1)実質上赤変がなく、 (2)実質上感度の
低下が無く、かつ(3)エツチング性が良好であること
がわかる。更に、銅張積層板に積層させた直後の評価に
おいて、 (4)感度が高く、 (5)レジストパター
ンの密着性が良好である点においても従来公知の組成物
より優れていることは明らかである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(1)カルボキシル基含有高分子結合剤、 (2)光重合可能なモノマー、 (3)光重合開始剤系、 (4)一般式( I )および/または(II)で表される
化合物、 を含有することを特徴とするアルカリ水溶液で現像可能
な光重合性組成物。 R−OM( I ) R′−O−CSSM(II) [R:R′−SO−、R′−SO_2−、R′O−SO
−、R′O−SO_2−、MO−SO−、MO−SO_
2−、NO−、NO_2−、 R′:炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜10の
アリール基、炭素数1〜20のアルキル基で置換された
アリール基、炭素数1〜20のアルキルオキシ基で置換
されたアリール基、炭素数2〜20のアルキルオキシカ
ルボニル基で置換されたアリール基、 M:アルカリ金属] 2)請求項1)において、該カルボキシル基含有高分子
結合剤の重量平均分子量が4〜8.5万であることを特
徴とする光重合性組成物。 3)請求項2)において、該カルボキシル基含有高分子
結合剤がメタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸ベンジルおよびアクリル酸−2−エチルヘキシル共
重合体であることを特徴とする光重合性組成物。 4)請求項1)において、該光重合開始剤系がロフィン
2量体を含有することを特徴とする光重合性組成物
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24297890A JPH04122937A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24297890A JPH04122937A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 光重合性組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04122937A true JPH04122937A (ja) | 1992-04-23 |
Family
ID=17097072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24297890A Pending JPH04122937A (ja) | 1990-09-13 | 1990-09-13 | 光重合性組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04122937A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05241340A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53137247A (en) * | 1977-03-22 | 1978-11-30 | Du Pont | Heat bondable dispersion |
JPS59170835A (ja) * | 1983-03-17 | 1984-09-27 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPS61176921A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-08 | Toyobo Co Ltd | 画像複製材料用感光性組成物 |
JPS61239982A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-10-25 | Dainippon Ink & Chem Inc | レジストパタ−ンの形成法 |
-
1990
- 1990-09-13 JP JP24297890A patent/JPH04122937A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53137247A (en) * | 1977-03-22 | 1978-11-30 | Du Pont | Heat bondable dispersion |
JPS59170835A (ja) * | 1983-03-17 | 1984-09-27 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
JPS61176921A (ja) * | 1985-01-31 | 1986-08-08 | Toyobo Co Ltd | 画像複製材料用感光性組成物 |
JPS61239982A (ja) * | 1985-03-27 | 1986-10-25 | Dainippon Ink & Chem Inc | レジストパタ−ンの形成法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05241340A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
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