JPH041148A - 光学活性なアルケニル置換ヘプタン誘導体 - Google Patents

光学活性なアルケニル置換ヘプタン誘導体

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JPH041148A
JPH041148A JP2100718A JP10071890A JPH041148A JP H041148 A JPH041148 A JP H041148A JP 2100718 A JP2100718 A JP 2100718A JP 10071890 A JP10071890 A JP 10071890A JP H041148 A JPH041148 A JP H041148A
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JP
Japan
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group
configuration
formula
hydrogen atom
carbon atoms
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Pending
Application number
JP2100718A
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English (en)
Inventor
Seiichi Takano
誠一 高野
Kuniro Ogasawara
國郎 小笠原
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Adeka Corp
Original Assignee
Asahi Denka Kogyo KK
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Publication date
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Publication of JPH041148A publication Critical patent/JPH041148A/ja
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    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な光学活性化合物およびその中間体、並
びにそれらの製造方法に関する。
［従来の技術］ （＋）−バクチオールは、例えばオランダヒュ（Ｐｓｏ
ｒａｌｅａ　　ｃｏｒｙｌｉｆｏｌｉａＬ、）の種子中
に存在する不規則フェノール系モノテルペンであり、強
壮剤として用いられている［例えば、Ｇ、Ｍｅｈｔａら
、　ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒ、４５６１　
（１９６６）参照］。また、抗微生物活性および昆虫幼
若ホルモン特性を示すことか報告されている［例えば、
Ｖ、Ａ。
Ｐｒ１ｋｈｏｄｋｏら、Ｍｉｃｒｏｂｉｏｌ。
Ｚｈ、（Ｋｉｅｖ）、４１，４００　（１９７９）：Ｎ
、に、Ｊｏｓｈｉら、Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ　　ｏｎＢｉ
ｏｌｏｇｉｃａｌ　　Ａｐｐｒｏａｃｈ　　ｔ。
Ｐｒｏｂｌｅｍｓ　　ｉｎ　　ＭｅｄｉｃｉｎｅＩｎｄ
ｕｓｔｒｙ、ａｎｄＡｇｒｉｃｕｌｔｕｒｅＢｏｍｂａ
ｙ、２３５　（１９７４）参照］。更に、その天然型の
立体構造は、（Ｓ）−（十）−リナロールとそのラセミ
合成との相関関係から、間接的に式（ＩＩＩ　ａ　） で表されるものとされている［例えば、Ａ、Ｓ。
Ｃ，Ｐ、Ｒａｏら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、２９゜１
１２７　（１９７３）；Ｊ、Ｃａｒｎｄｕｆｆら。
Ｊ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、、Ｃｈｅｍ、Ｃｏｍｍｕｎ、、
６０６　（１９６７）参照］。
従来、（＋）−バクチオールのキラリティーを化学合成
によって導入するために長い工程を用いる試みがあった
が、成功していなかった。
［発明が解決しようとする課題］ 従って、本発明の目的は、光学活性な（＋）−バクチオ
ール（天然型）または（−）−バクチオール（非天然型
）の化学合成を可能にすることにある。更に詳しく述べ
れば、光学活性なバクチオールを合成するにあたり、合
成工程が短くてしかも簡単であり、キラル中心の導入率
が高く、更に大量合成が可能な中間体を提供することに
ある。
［課題を解決するための手段］ 前記の目的は、本発明により、一般式（Ｉ）呪 ［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜４個の低級ア
ルキル基であり、Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４個
の低級アルキル基であり、Ｒ３は炭素数１〜４個の低級
アルキル基であり、Ｒ４は一般式（ａ） −ＣＨ２−〇Ｒ７（ａ） （式中、Ｒ７は水素原子またはヒドロキシ基を保護する
基である） で表される基もしくは一般式（ｂ） （式中、Ｒ８は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜４
個の低級アルキル基または炭素数１〜４個の低級アルコ
キシ基である） で表される基であってＲ５はヒドロキシ基であるか、あ
るいはＲ４とＲ５とが一緒になってオキソ基であるもの
とし、ＹおよびＺは両者の直接結合であるかまたはそれ
ぞれ水素原子てあり、Ｒ６は一般式（ｃ） 一〇（−〇）−〇Ｒ９（Ｃ） （式中、Ｒ９は水素原子または炭素数１〜４個の低級ア
ルキル基である） て表される基または一般式（ｄ） −Ｃ（○Ｈ）ＲＩＯＲＩＩ　　　　　　　（ｄ）（式中
、ＲｌｏおよびＲ１１は、それぞれ独立に水素原子また
は炭素数１〜４個の低級アルキル基である） で表される基であり、そして式中で※を付したキラル中
心炭素原子における立体配置は、択一的にＳ−配置また
はＲ−配置のいずれが一方の配置のみをとるものとし、
更に式中で＊を付した環炭素原子がキラル中心炭素原子
である場合においてそのキラル中心炭素原子における立
体配置は、択一的にＳ−配置またはＲ−配置のいずれか
一方の配置のみをとるものとするコ で表される光学活性なアルケニル置換へブタン化合物に
よって達成することができる。
また、本発明は、前記の化合物を製造する方法を提供す
るものでもある。その製造方法は以下の各工程からなる
。
（ａ）一般式（ＩＶ） シ基で置換されていることのある炭素数１〜４個の低級
アルキル基（例えばメチル基、メトキシメチル基、また
はメトキシエトキシメチル基）、ベンジル基若しくは置
換ベンジル基、置換フェニル基（例えばｐ−メトキシフ
ェニル基）、または炭素数１〜４個の低級アルコキシ基
で置換されているシリル基（例えばｔ−ブチルジメチル
シリル基）であり、そして式中で＊を付したキラル中心
炭素原子における立体配置は、択一的にＳ−配置または
Ｒ−配置のいずれか一方の配置のみをとるものとする］ で表される光学活性な（Ｓ）−または（Ｒ）−不飽和バ
レロラクトン化合物と、一般式（Ｖ）［式中、Ｒ３は炭
素数１〜４個の低級アルキル基、例えばメチル基または
エチル基であり、Ｒ７は水素原子またはヒドロキシ基を
保護する基、好ましくは、場合により炭素数１〜４個の
低級アルコキ［式中、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜
４個の低級アルキル基であり、Ｒ２は水素原子または炭
素数１〜４個の低級アルキル基であり、Ａはリチウムま
たはマグネシウムハライド（例えばマグネシウムフロマ
イド、マグネシウムクロライド、またはマグネシウムヨ
ーシト）である］ で表される有機金属化合物とを、１価の銅イオン（例え
はヨウ化銅）の存在下に反応させ、一般式（Ｒ）−飽和
バレロラクトン化合物を得る工程。
（ｂ）前記一般式（ＩＩａ）で表される飽和バレロラク
トン化合物を還元して、一般式（Ｉｌｂ）（式中で※を
付したキラル中心炭素原子における立体配置は、択一的
にＳ−配置またはＲ−配置のいずれか一方の配置のみを
とるものとし、そして、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７および
＊は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子＊が有
していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保
存して）光学活性な（Ｓ）−または（式中、Ｒ１、Ｒ２
、Ｒ３、Ｒ７、※および＊は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※およ
び＊が有していたＳ−立体配置またはＲ立体配置をその
まま保存して）光学活性なバレロラクトール化合物を得
る工程。
（Ｃ）前記一般式（Ｉｌｂ）で表されるバレロラクトー
ル化合物と一般式（ＶＩ） （Ｒ１２）３Ｐ＝ＣＨＣ（＝Ｏ）ＯＲ９（Ｖｌ）（式中
、Ｒ９は炭素数１〜４個の低級アルキル基であり、Ｒ１
２はフェニル基である） で表されるリンイレン化合物とを反応させ、一般式（Ｉ
ａ） （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ７、Ｒ９、※および＊は
前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※およ
び＊が有していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそ
のまま保存して）光学活性なオクテン酸エステル化合物
を得る工程。
（ｄ）前記一般式（Ｉａ）で表されるオクテン酸エステ
ル化合物を位置選択的に水素化して、一般式（Ｉｂ） （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、Ｒ９、※および＊は
前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※およ
び＊が有していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそ
のまま保存して）光学活性なオクタン酸エステル化合物
を得る工程。
（ｅ）前記一般式（Ｉｂ）で表されるオクタン酸エステ
ル化合物をジアルキル化して、一般式（式中、Ｒ１０お
よびＲ１１は、それぞれ独立に炭素数１〜４個の低級ア
ルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ７、※および＊
は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※およ
び＊が有していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそ
のまま保存して）光学活性なオクタンジオール化合物を
得る工程。
（ｆ）前記一般式（Ｉｃ）で表されるオクタンジオール
化合物の保護基を脱離して、一般式（Ｉｄ）※および＊
が有していたＳ−立体配置またはＲ〜立体配置をそのま
ま保存して）光学活性なオクタントリオール化合物を得
る工程。
（ｇ）前記一般式（Ｉｄ）で表されるオクタントリオー
ル化合物を酸化的に開裂して、一般式（式中、Ｒ１、Ｒ
２、Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１１、※および＊は前記と同じ意
味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子１０Ｒ
１１ （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ１０、Ｒ１１および※は
前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※が有
していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保
存して）光学活性なヒドロキシヘプタナール化合物を得
る工程。
（ｈ）前記−服式（Ｉｅ）で表されるヒドロキシヘプタ
ナール化合物と一般式（ＶＩＩ）（式中、Ｒ８は水素原
子、ヒドロキシ基、炭素数１〜４個の低級アルキル基ま
たは炭素数１〜４個の低級アルコキシ基、例えば、メト
キシ基またはエトキシ基であり、そしてＸはハロゲン原
子、例えば、臭素原子、塩素原子またはヨウ素原子であ
る） で表されるベンゼンマグネシウムハライド化合物とを反
応させ、一般式（Ｉｆ） （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８、Ｒ１０、Ｒ１１およ
び※は前記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※が有
していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保
存して）光学活性なフェニルヘプタンジオール化合物を
得る工程。
（ｉ）前記一般式（Ｉｆ）で表されるフェニルヘプタン
ジオール化合物を脱水して、−ｉ式（ＩＩＩ）（式中、
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ８、ＲＩＯｌＲｌｌおよび※は前
記と同じ意味である） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子※が有
していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保
存して）光学活性なフェニルへプトジエン化合物を得る
工程。
次に、工程（ａ）から工程（ｉ）について説明する。
」ｌし←弘と 不飽和バレロラクトン（ＩＶ）と有機金属化合物（Ｖ）
との反応は、不活性カス（例えば、アルゴンガスまたは
窒素ガス）の雰囲気下で、低温下（例えば、０〜−１０
０°Ｃ１特には−１０〜−８０°Ｃ）にて、無水のエー
テル性溶媒（例えは、エーテルまたはテトラヒドロフラ
ン）中で実施する。有機金属化合物（Ｖ）としては、例
えは、ビニルマグネシウムハライドまたはビニルリチウ
ムを用いることができる。
不飽和バレロラクトン（ＴＶ）における５位キラル中心
炭素原子の立体配置は変化せずに、飽和バレロラクトン
化合物（ｒｒａ）の５位に導入される。
また、飽和バレロラクトン化合物（ＩＩａ）の３位に新
たにキラル中心が導入される。３位に導入される立体配
置の種類は、不飽和バレロラクトン化合物（【■）の５
位キラル中心炭素原子における立体配置に依存する。即
ち、アルケニル基の導入は５位置換基に対して選択的に
アンチ側に起こる。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
この工程（ａ）で出発材料として用いる不飽和バレロラ
クトン化合物（ｒｖ）は、例えば以下の方法によって調
製することができる。
初めに、一般式（ＶＩＩＩ） （式中、Ｒ７および＊は前記と同じ意味である）で表さ
れる光学活性な（Ｓ）−または（Ｒ）−グリシドール化
合物と式（ＩＸ） Ｈ（、−Ｃ−ＣＯＯＲ１３ （ＩＸ） ［式中、Ｒ１３は水素原子；アルキル基、特には炭素数
１〜４個の低級アルキル基（例えばメチル基またはエチ
ル基）；フェニル置換アルキル基、特にはフェニル基で
置換された炭素数１〜４個の低級アルキル基（例えばベ
ンジル基）；アルケニル基、特には炭素数１〜４個の低
級アルケニル基（例えばアリル基）；フェニル基：置換
フェニル基、特には炭素数１〜４個の低級アルキル基ま
たはアルコキシ基で置換されたフェニル基（例えばｐ−
メトキシ基）；またはトリアルキルシリル基、特にトリ
低級アルキルシリル基（例えは、トリメチルシリル基）
である］ で表されるプロパルギル酸またはその誘導体とを反応さ
せ、一般式（Ｘ） Ｈ （式中、Ｒ７、Ｒ１３および＊は前記と同じ意味である
） で表される相当する（即ち、キラル中心炭素原子＊か有
していたＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保
存して）光学活性な（Ｓ）−まなは（Ｒ）−ヘキシノエ
ート化合物を得る。
前記のグリシドール（ＶＩＩＩ）はキラル中心１個を有
し、８体およびＲ体が存在する。それらの８体およびＲ
体はそれぞれ公知の化合物である。
グリシドール（ＶＩＩ）とプロパルギル酸またはその誘
導体（ＩＸ）との反応は、不活性ガス（例えば、アルゴ
ンガスまたは窒素ガス）雰囲気にて、低温下（例えば、
Ｏ〜−１２０’Ｃ１特には−１０〜−１００″Ｃ）で、
非プロトン性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、トル
エン、ヘキサンまたはエーテル）中で、強塩基（例えば
、アルキルリチウム）およびルイス酸触媒（例えば、三
フッカホウ素、特に三フッ化ホウ素・エーテルンの存在
下にて実施する。この反応により、出発材料であるり刃
シドール（Ｖｌｌｌ）由来のキラル中心炭素原子におけ
る立体配置が、ヘキシノエート化合物（Ｘ）に導入され
る。精製にはシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用
いることができる。
続いて、前記一般式（Ｘ）で表されるヘキシノエート化
合物と一般式（ＸＩ　） Ｍ’Ｍ“（Ｒ３）２　　　　　　　　　　（ＸＩ）（式
中、Ｍｌは１価の金属イオン、例えばリチウムまたは銅
であり、Ｍｌ＋は２価の金属イオン、例えば銅またはマ
グネシウムであり、そしてＲ３は前記と同じ意味である
） で表される求核剤とを反応させ、一般式（ＩＶ）で表さ
れる相当する（即ち、キラル中心炭素原子＊か有してい
たＳ−立体配置またはＲ−立体配置をそのまま保存して
）光学活性な（Ｓ）−または（Ｒ）−不飽和バレロラク
トン化合物を得ることができる。
この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは
窒素ガス）の雰囲気下で、低温下（例えば、○〜−１０
０°Ｃ１特には−１０〜−８０’Ｃ）にて、非プロトン
性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキ
サンまたはエーテル）中で、銅（Ｉ）化合物（例えば、
Ｃｕ　１．ＣｕＣＮ）の存在下で実施する。求核剤とし
ては、例えは、リチウムジアルキルキュープレート、リ
チウムジフェニルキュープレート、またはアルキル若し
くはフェニルマグネシウムハライドを用いることができ
る。
ヘキシノエート化合物（ＩＸ）における５位キラル中心
炭素原子の立体配置は変化せずに、不飽和バレロラクト
ン化合物（ＩＶ）の５位に導入される。
得られた化合物を必要により精製（例えは、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程（ａ）
に用いる。
工丘工旦り この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは
窒素ガス）の雰囲気下で、低温下（例えば、０〜−１０
０°Ｃ１特には−１０〜−８０°Ｃ）にて、非プロトン
性溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、エチルエーテル
またはジオキサン）中で、前記一般式（ＸＩ）の求核剤
の存在下で実施する。
この工程（ｂ）において４位および５位キラル中心炭素
原子の立体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程ユ旦Ｌ バレロラクトール化合物（Ｉｒｂ）とリンイレン化合物
（Ｖｌ）との反応は、不、活性ガス（例えば、アルゴン
ガスまたは窒素ガス）の雰囲気下で、常温下（例えば、
０〜５０℃、特には１０〜３０°Ｃ）にて、無水有機溶
媒（例えば、塩化メチレンまたはテトラヒドロフラン）
中で実施する。リンイレン化合物（ＶＩ）としては、例
えば、エトキシカルボニルメチレントリフェニルホスホ
ランを用いることができる。
この工程（Ｃ）において２つのキラル中心炭素原子の立
体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程ユ亘Ｌ ２重結合の還元は、不活性ガス（例えば、アルコンカス
または窒素ガス）雰囲気にて、アルコール性溶媒（例え
ば、低級アルコールまたはその含水物）中で、常温下で
、金属マグネシウムを用いて行う。
この工程（ｄ）において２つのキラル中心炭素原子の立
体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程」旦り この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンガスまたは
窒素ガス）雰囲気にて、低温下（例えば、０〜−１２０
°Ｃ１特には−１０〜−１００°Ｃ）で、非プロトン性
溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサ
ンまたはエーテル）中で、メチルリチウムまたはメチル
マグネシウムハライドを用いて行う。
この工程（ｅ）において２つのキラル中心炭素原子の立
体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程ユニＬ この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンカスまたは
窒素ガス）雰囲気にて、低温下（例えば、○〜−１２０
℃、特には−１０〜−１００°Ｃ）て、非プロトン性溶
媒（例えば、テトラヒドロフラン、トルエン、ヘキサン
またはエーテル）中で、液体アンモニウムまたは低級ア
ルキル第１アミン中で、アルカリ金属（例えば、ナトリ
ウム、リチウムまたはカリウム）またはアルカリ土類金
属（例えば、カルシウム）の存在下で行なわれる。
この工程（ｆ）において２つのキラル中心炭素原子の立
体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工丘ユ且工 この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンカスまたは
窒素ガス）雰囲気にて、常温下で、含水アルコール性溶
媒（例えば、低級アルコールまたはその含水物）中で過
ヨウ素酸ナトリウムを用いて、またはベンゼン中で四酢
酸鉛を用いて行う。
この酸化的開裂操作によって、工程（ａ）で用いた出発
材料・不飽和バレロラクトン化合物由来のキラル中心は
消滅するが、工程（ａ）で導入されたキラル中心炭素原
子における立体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程」立Ｌ ヒドロキシヘプタナール化合物（Ｉｅ）とベンゼンマグ
ネシウムハライド化合物（ＶＩＩ）との反応は、不活性
ガス（例えば、アルゴンガスまたは窒素ガス）雰囲気に
て、低温下（例えば、０〜＝１２０°Ｃ１特には−１０
〜−１００°Ｃ）で、エーテル性溶媒（例えば、テトラ
ヒドロフラン）を用いて行う。
この反応によって、工程（ａ）で導入されたキラル中心
炭素原子における立体配置は変化せずに保存される。ま
た、フェニル基が置換されている炭素原子に新たにキラ
ル中心が生成するが、これはＳ一体とＲ一体との混合体
であることができる。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
工程Ａ土Ｙ この工程は、不活性ガス（例えば、アルゴンカスまたは
窒素ガス）雰囲気にて、非プロトン性溶媒（例えば、塩
化メチレン）中で、第３アミンのアルキルスルホン酸ク
ロライドを用いて行う。
この工程においては、工程（ａ）で導入されたキラル中
心炭素原子における立体配置は変化せずに保存される。
得られた化合物を必要により精製（例えば、シリカゲル
カラムクロマトグラフィー処理）して、次の工程に用い
る。
こうして得られたフェニルへブトジエン化合物（ＩＩＩ
）は、バクチオールの前駆体として有用である。
［実施例］ 以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明するが
、これらは本発明の範囲を限定するものではない。
ルー３−ビニル−δ−バレロラクトンのなお、前記の式
中でＢｎはベンジル基である（以下同様）。
アルゴン気流下および一３０℃で、ヨウ化銅１５６ｍｇ
　（０，７８ミリモル）の無水ジエチルエーテル懸濁液
４ｍｌに、ビニルマグネシウムフロマイト（２，２Ｍ）
の無水テトラヒド口フラン溶液０．７ｍｌを加えて１０
分間攪拌し、更に同し温度でラクトン体（１）９０ｍｇ
　（０，３９ミリモル）の無水ジエチルエーテル溶液３
ｍｌを加え、１０分間攪拌した０反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、飽
和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。
得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
によりジエチルエーテル／ヘキサン（１：３、ｖ／ｖ）
流分から、標記のビニルラクトン体（２）７４ｍｇ　（
７３％）を得た。理化学的データは以下のとおりである
。
ＩＲｖ（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−”：２９００゜１７
３０．１２３５．１１１０．７３８’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ
Ｃ］　３）δニア、３５　（ｓ。
５Ｈ）、５．７７　（ｄｄ、ＬＨ，Ｊ＝１８．０．１０
．５Ｈｚ）、５．１０　（ｍ。
２Ｈ）、４．５８　（ｓ、２Ｈ）、４．５０（ｍ、ＬＨ
）、３．６０　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝３．５Ｈｚ＞、２．７
３　（ｄ、ＬＨ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、２．２５　（ｄ、Ｉ
Ｈ，Ｊ＝１８Ｈｚ）、１．７６　（ｍ、２Ｈ）、１．１
４（ｓ、３Ｈ） ＭＳ　　ｍ／ｚ　：　２６１　（Ｍ”１）。
９１　（１００％） ｅｘａｃｔ　　　ｍａｓｓ： Ｃ１６８２１０３（Ｍ”）に対する理論値：２６１．１
４９０ 実測値：２６１．１５２に の例１で用いた出発材料ラクトン体（１）は以下の方法
で調製した。
テトラヒドロフラン７０ｍ１にプロパルギル酸メチル２
．５０ｍ１　（２８，１ミリモル）を溶かした溶液中に
、−９０℃の冷却下で、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ヘキ
サン中の１．５６モル溶液）１８．０ｍｌ　（２８，０
ミリモル）を４０分間かけて滴下した０滴下終了後、更
に２０分間攪拌した。同じ温度下で、テトラヒドロフラ
ン２０ｍ１に（Ｓ）−０−ベンジルグリシドール３．５
５ｇ（２１，６ミリモル）を溶かした溶液をカニユーレ
で更に加え、５分間攪拌した。得られた黄褐色溶液に、
三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル３．５０ｍ１　（２
８，０ミリモル）を１０分間かけて滴下し、同じ温度で
１時間攪拌した。
得られた反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液２０ｍ１
を加え、室温まで昇温させな後、ジエチルエーテル２０
０ｍ１で抽出した。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液２０ｍ１および飽和塩化ナトリウム水溶液２０ｍ１
で順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去させた。
残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２００
ｇ使用）で処理し、ジエチルエーテル／ｎ−ヘキサン（
１：１）の流分から（Ｒ）−メチル−６−ベンジルオキ
シ−５−ヒドロキシ−２−ヘキシノエート〔以下、２−
ヘキシノエート体と称する］４．５０ｇ（収率：８４％
）を得な。
２−ヘキシノエート体の理化学的データは以下のとおり
である。
［α］Ｄ　＝　　−１４，７°（ｃｍ１．０７、ＣＨＣ
１３） 沸点：１６０〜１６５℃（０、３ｍ　ｍ　Ｈｇ　）（Ｋ
ｕｇｅ　ｌ　ｒｏｈ　ｌ　） １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３、δ）　：２．６０　（２）
（。
ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ）、２．６０　（ＬＨｌｂｒｓ、Ｃ
２０で消失）、３．４０ ３．７５　（２Ｈ，ｍ）、３．７８　（３Ｈ２ｓ）、３
．９０−４．１０　（ＬＨ，ｍ）。
４．５８　（２Ｈ，ｓ）、７．３　（５Ｈ，５）ＩＲｖ
　（ｎｅａｔ）ｍａｘ　　ｃｍ−１：３３３０　（ｂｒ
）、２２６０．１７１０Ｍ５　　ｍ／ｅ：２４８（Ｍ＋
）。
９１　（１００％） 元素分析： 理論値（Ｃ１４Ｈ１６０４）： Ｃ＝６７．７１．Ｈ＝６．５０ 測定値：Ｃ＝６７．６６、Ｈ＝６．７６続いて、アルゴ
ン気流下で、テトラヒド口フラン１５０ｍ１にヨウ化銅
８．５ｍｇ　（４２，２７ミリモル）を懸濁させ、この
懸濁液に０℃下でメチルリチウム（１，０６モルのエー
テル溶液）７９．８ｍｌ　（８４，５４ミリモル）を加
え、同じ温度で１０分間攪拌した。得られた反応液を６
０°Ｃに冷却し、前記のヘキシノエート体４．５ｇ　（
１８，１ミリモル）をテトラヒドロフラン１０ｍ１に溶
解した溶液を加え、１時間攪拌した。更に同じ温度で飽
和塩化アンモニウム水溶液２０ｍ１を徐々に加え、室温
まで昇温させな後、ジエチルエーテルを加え、有機相を
飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マクネシ
ウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去させた。
残留物をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル）で処
理しなところ、エーテル／ヘキサン（１：２）の流分か
らはトランスエステル体２４８ｍｇが得られ、そして、
エーテル／ヘキサン（１：１）の流分からは、無色油状
物質としてα、β−不飽和ラクトう体（１）３．８２ｇ
　（収率：９１％）が得られた。α、β−不飽和不飽和
ラクトフッの理化学的データは以下のとおりである。
［α］Ｄ　　＝　　＋１２０．９°　（ｃｍ１．１２゜
ＣＨＣ１３） １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，δ）：　１．９８（３Ｈ，
ｓ）、２．３５　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ１８Ｈｚ、５．１Ｈ
ｚ）、２．５０　（ＩＨ。
ｄｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ、、１２Ｈｚ）、３．６９（２Ｈ，
ｄ、Ｊ＝４．６Ｈｚ）、４，４０４．７５　（ＬＨ，ｍ
）、５．８０　（ＬＨ。
ｂｒｓ）、７．３４　（５Ｈ，５） ＩＲν（ｎｅａｔ）ｍａｘ　　ｃｍ−１：　１７２０゜
１２５５．１１２２ ＭＳ　　ｍ／ｅ　：　２３２　（Ｍ”）。
１１１（１００％） 元素分析： 理論値（Ｃ１４Ｈ１６０３）： Ｃ＝７２．３８．Ｈ＝６．９５ 測定値：Ｃ＝７２．５２．Ｈ＝７．１４２：　　（２Ｒ
Ｓ　　４Ｓ、６Ｒ）−５−ペンシルシメ　ルー２−ヒド
ロ　シー４−メチル−４−ビニルート−ヒドロビランの アルゴン気流下および一３０°Ｃで、無水テトラヒドロ
フラン（２０ｍｌ）中のラクトン体（２）５８０ｍｇ　
（２，２３ミリモル）の溶液に、水素化アルミニウムジ
イソブチル（１，０Ｍ）のトルエン溶液２．９ｍｌを加
えて１０分間攪拌した。
反応液に１０％水酸化ナトリウム水溶液を加え、３時間
攪拌した後、セライトｒ遇し、Ｐ液から減圧下で溶媒を
留去した。こうして得られた粗製ラクトール体（３）は
、精製せずに次の反応に用いた。ラクトール体（３）の
理化学的データは以下のとおりである。
ＩＲν（ｎｅａｔ）ｍａｘ、　ｃｍ　’：３３８０゜２
９００．１４５０，９１０，７３８ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３）δニア。
５８）、５．７３　（ｄｄ、ＬＨ。
１７．５，１１．０Ｈｚ）、５゜ ３８）、４．５６　（ｓ、２Ｈ） （ｍ、ＬＨ）、３．４０　（ｍ ２．０−１．１　　（ｍ、５Ｈ）。
３Ｈ） ３３（ｓ ０（ｍ。
３．８０ ２Ｈ）。
１．０３　（ｓ。
ＭＳ　　ｍ／ｚ　：　２６２　（Ｍ”１）６９　（１０
０％） ｅｘａｃｔ　　　ｍａｓｓ： Ｃ１６Ｈ２００２（Ｍ”−８２０）に対する理論値：２
４４．１４６３ 実測値：２４４．１４５９ フラン　エ　ルの亀す を得た。理化学的データは以下のとおりである。
アルゴン気流下および室温で、ジクロロメタン（２０ｍ
　ｌ　）中のラクトール体（３）５４０ｍｇ（２，０６
ミリモル）の溶液に、トリフェニルホスホランエトキシ
カルボニルメチレン２．１５ｍｇ（６，１８ミリモル）
を加えて３６時間加熱還流した０反応液にシリカゲルを
加え、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによりジエチルエーテ
ル／ヘキサン（１：３．ｖ／ｖ）流分から、標記のエス
テル体（４）６２０ｍｇ　（８４％、２工程）ＩＲしく
ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−’　：　３４５０゜２９００
．１７１５，１６４１．７３８’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１
３）δ：　７．３３　（ｓ。
５Ｈ）、６．９２　（ｄｔ、ＩＨ，Ｊ＝１５．６，７．
６．Ｈｚ）、５．９０　（ｍ。
２Ｈ）、５．０５　（ｍ、２Ｈ）、４．５４（ｓ、２Ｈ
）、４．１７　（ｑ、２Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、３．９
５　（ｍ、ＬＨ）。
３．８３　（ｍ、２Ｈ）、２．３０　（ｍ。
３Ｈ）、　　　２．０５　（ｍ、２Ｈ）、１．２８（ｔ
、３Ｈ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．０５（ｓ、３Ｈ） ＭＳ　　ｍ／ｚ　：　３３２　（Ｍ”）、３３Ｂ　（Ｍ
＋１）。
９１　（１００％） ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ： Ｃ２０Ｈ２８０４（Ｍ”）に対する理論値二３３２．１
９８８ 実測値：３３２．１９５６ ４二　（５Ｒ，７Ｒ−８−ベンジルオキシ−７２剪ｌ土
土Ω謝製 アルゴン気流下および室温で、メチルアルコール（３０
ｍｌ）中のエステル体（４）６００ｍｇ（１，８ミリモ
ル）の溶液に、マグネシウム４３２ｍｇ　（１８ミリモ
ル）を加えて４時間攪拌した。水冷下で、反応液に１０
％塩酸水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られた残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによりジエチルエ
ーテル／ヘキサン（１：　２．ｖ／ｖ）流分から、標記
の飽和エステル体（５）３４８ｍｇ（６１％）を得た。
理化学的データは以下のとおりである。
［α］％Ｆ　　＝　　　５．１０７５゜（Ｃ二１．２２
６．ＣＨＣｌ３＞ ＩＲ１／　（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−’：３４５０゜
２９００．１７３５．７３８ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　７．３３　（ｓ。
５１（）、５．８３　（ｄｄ、ＬＨ，Ｊ＝１７．１，１
１．０Ｈｚ）、５．０　（ｍ。
２Ｈ）、４．５５　（ｓ、２Ｈ）、３゜９０（ｍ、ＬＨ
）、３．３５　（ｍ、２Ｈ）。
３．６６　（ｓ、３Ｈ）、２．３０　（ｍ。
３Ｈ）、１．８−１．１　（ｍ、６Ｈ）。
１．０３　（ｓ、３Ｈ） ＭＳ　　ｍ／ｚ　：　３２０　（Ｍ”）、２１３（Ｍ”
−ＢｎＯ）、９１　（１００％）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓ
ｓ： Ｃ１２８２１０３（Ｍ”−Ｂｎ○）に対する理論値：２
１３．１４９１ 実測値：２１３．１４６５ 一ビニルー　フランの；。１ Ｈ３ アルゴン気流下および一３０°Ｃで、無水テトラヒドロ
フラン（５ｍｌ）中のエステル体（５）３１０ｍｇ　（
０，９６９ミリモル）の溶液に、無水テトラヒドロフラ
ン（１５ｍｌ＞中のメチルリチウム（１，０８モル）４
．５ｍｌの溶液を加えて、同じ温度で３０分間攪拌した
０反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、ジエチ
ルエーテルで抽出した。有機相を飽和塩化ナトリウム水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去した。得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによりジエチルエーテル／ヘキサン
（２：　１．ｖ／ｖ）流分から、標記のジオール体（６
）２４０ｍｇ　（７７％）を得た。理化学的データは以
下のとおりである。
［α］Ｄ　　＝　　−５，８３°　（ｃｍ１．３８２゜
ＣＨＣｌ３） ＩＲＬ／　（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−１：３４００２
９２０．１１００，９１０，７３８ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　７．３３　（Ｓ。
５Ｈ）、５．８５　（ｄｄ、ＬＨ，Ｊ＝１７．１，１１
゜ＯＨｚ＞、４．９５　（ｍ。
２Ｈ）、４．５５　（ｓ、２Ｈ）、３．９０（ｍ、ＩＨ
）、３．７５　（ｍ、２Ｈ）。
２．３５　（ｂｒｓ、ＬＨ，Ｄ２０と交換可能）、　１
．６−１．１　（ｍ、　８Ｈ）　。
１．１９　（ｓ、６Ｈ）、１．０３　（ｓ、３Ｈ）ＭＳ
　　ｍ／ｚ　：　３０２　（Ｍ”−Ｈ２Ｏ）、１８１（
Ｍ”−Ｂｎ、Ｈ２Ｏ，２ＸＣＨ３）、９１（１００％） ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ： ＣＣ１２Ｈ２１０（”−Ｂｎ、Ｈ２Ｏ，２ＸＣＨ３）に
対する理論値： １８１．１６３０ 実測値：１８１．１６１１ 皿 Ｈ３ 無水テトラヒドロフラン（４ｍ　ｌ　）中のジオール体
（６）２２８ｍｇ　（０，７１３ミリモル）の溶液に、
液体アンモニア３０ｍ１を加えて、更に３３℃でリチウ
ム５０ｍｇ　（７，１ミリモル）を加え、１０分間攪拌
した０反応液に塩化アンモニウムを加え、常圧および室
温下でアンモニアを留去し、ジエチルエーテルを加え、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去し
た。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにより酢酸エチル流分から、標記のトリオール体（
７）１６０ｍｇ　（９８％）を得た。理化学的データは
以下のとおりである。
［ａ］２ｇ　　＝　　＋４．４５°　（ｃｍ１．０４８
゜メチルアルコール） ＩＲν（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−”　：　３３５０゜
２９２０．１４６０，１３７０．９００１Ｈ−ＮＭＲ（
ＣＤＣ１３）δ：　５．９０　（ｄｄ。
ＬＨ，Ｊ＝１７．１，１１．０Ｈｚ）。
５．０　（ｍ、２Ｈ）、３．８０　（ｍ、ＬＨ）。
３．４５　（ｍ、２Ｈ）、２．６　（ｂｒｓ、３Ｈ１交
換可能）、　１．５−１．１　（ｍ、　８Ｈ）、１．２
０　（ｓ、６Ｈ）、０．８８　（ｓ。
３Ｈ） ＭＳ　　ｍ／ｚ：１８３　（Ｍ”−ＣＨ３０２）、６９
（１００％） ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ： ＣＣ１２Ｈ２３０（”−ＣＨ３０２）に対する理論値：
１８３．１７９１ 実測値：１８Ｂ、１７７０ ジフェニル　−オクタンの；邑１１ アルゴン気流下で、エチルアルコール（１０ｍｌ）中の
トリオール体（７）１６０ｍｇ（０，６９６ミリモル）
の溶液に、水２ｍｌ中の過ヨウ素酸ナトリウム４５０ｍ
ｇ　（２，１ミリモル）の懸濁液を加えて、室温で１０
分間攪拌した。
反応液に水とジエチルエーテルとを加え、有機相を飽和
塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、減圧下で溶媒を留去し
、残留物を無水テトラヒドロフラン１ｍｌに溶解した。
Ｐ−ブロモアニソール０．４３ｍ１　（３，４５ミリモ
ル）とマグネシウム８６．４ｍｇ　（３，６ミリモル）
とから調製したグリニヤール試薬の無水テトラヒドロフ
ラン（４ｍｌ　＞液に、前記の溶液を水冷下で加えた。
同じ温度で１０分間攪拌した後、反応液に飽和塩化アン
モニウム水溶液を加え、ジエチルエーテルで抽出し、有
機相を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した。得られ
た残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
ジエチルエーテル／ヘキサン（１：１．ｖ／Ｖ）流分か
ら、標記のジオール体（８）１５２ｍｇ（７５％）を得
た。理化学的データは以下のとおりである。
ＩＲＬ／　（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−１：３４００゜
２９５０．１６１０，１５１０．１２４０゜１１７０．
１０３８．８３０ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　７．２８　（ｍ。
２Ｈ）、６．８５　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、６
．１２−５．６５　（ｍ、ＬＨ）。
５．０５　（ｍ、２Ｈ）、５．７１　（ｍ。
ＩＨ）、３．８０　（ｓ、３Ｈ）、１．９−１．１　（
ｍ、ｌ０Ｈ）、１．１９　（ｓ、６Ｈ）、１．１０　（
ｓ、３Ｈ） ＭＳ　　’ｍ／ｚ：３０６　（Ｍ”）、１３７（１００
％） ｅｘａｃｔ　　　ｍａｓｓ： Ｃ１９Ｈ３００３（Ｍ”）Ｃ：Ｊｔｔ６理論値：３０６
．２１９５ 実測値二３０６．２１８２ ８：　（３Ｒ−１−−メト　ジフェニル−３７−ジメ　
ルー３−ビニル−トー１互二盗象芸り４匣災 アルゴン気流下で、ジクロロメタン（３ｍｌ　）中のジ
オール体（８）１１０ｍｇ　（０，３５９ミリモル）の
溶液に、塩化メタンスルホニル０．１１ｍ１　（１，４
３８ミリモル）と、トリエチルアミン０．３ｍｌ　（２
，１５ミリモル）と４＝ニジメチルアミノピリジン２ｍ
ｇとを水冷下で加えて、室温で１５時間攪拌した０反応
液にジクロロメタンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液および飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒を留去した
。得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフイ
ーによりヘキサン流分から、標記のバクチオールメチル
エーテル体（９）６５ｍｇ（６７％）を得た。理化学的
データは以下のとおりである。
［α］摩　＝　　＋３１．１８°　（ｃｍ１．４５゜Ｃ
ＨＣｌ３） ［α］Ｄ　　＝　　＋３２．６１°　（ｃｍ０．８３゜
ＣＨＣｌ３）［これは天然物のデータである］ＩＲν（
ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−１：　２９８０゜２９４０．
１６１０，１５１８，１４６０゜１２４５．１１７８，
１０４０，９７８゜９１５．８２０ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　３）δ：　７．３０　（ｄ。
２ＨＪ＝８．８Ｈｚ）、６．８３　（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝８
．８Ｈｚ）、６．３０　（ｄ、ＬＨ。
Ｊ＝１６．４Ｈｚ）、６．０５　（ｄ、ＬＨ。
Ｊ＝１６．４Ｈｚ＞、５．９０　（ｄｄ、ＬＨ。
Ｊ＝１６．０，１０．０Ｈｚ）、５．２−４．９　（ｍ
、３Ｈ）、３．８０　（ｓ、、３Ｈ）、１．９１　（ｍ
、２Ｈ）、１．６８　（ｓ。
３Ｈ）、１．５７　（ｓ、３Ｈ）、１．４　（ｍ。
２Ｈ）　　、　　１．　２０　　（ｓ、　　３Ｈ）ＭＳ
　　ｍ／ｚ　：　２７０　（Ｍ”）、１８７　（１００
％）、１７２，１５９，１３４，１２１１１５．９１．
４１ ９：（＋　−バクチオールの＝告１ｊ アルゴン気流下で、ジエチルエーテル（４ｍｌ）にマグ
ネシウム４２ｍｇ　（１，７４ミリモル）を加え、攪拌
下にヨウ化メチル０１１ｍ１（１，５９ミリモル）をゆ
っくり滴下し、滴下終了後しばらく加温し、更にこの混
合物にメチルエーテル体（９）１２０ｍｇ　（０，４４
ミリモル）を加えた。減圧下で溶媒を留去させ、残留物
を１８０°Ｃで１０分間加熱した。室温に戻し、ジエチ
ルエーテルを加え、５％塩酸水溶液および飽和塩化ナト
リウム水溶液で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下で溶媒を留去し、残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによりエーテル／ヘキサン（１：
　２０．ｖ／ｖ）流分から、標記のく＋）−バクチオー
ル（１０）１０１ｍｇ（８９％）を得た。理化学的デー
タは以下のとおりである。
［α］’８　　＝　　＋２８．３０゜ （ｃｍ０．７５．ＣＨＣｌ３） ［αコダ　　＝　　　＋２９．７１　。
（ｃｍ１．０７．ＣＨＣｌ３）［これは天然物のデータ
である］ ＩＲＬ／　（ｎｅａｔ）ｍａｘ、ｃｍ−”：　３３５０
゜１６１０．１５１５．１４４０，１３７０゜１２３０
．１１６０．９９８，９７０゜９１０．８１０ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　７．２５　（ｍ。
２Ｈ）、６．７５　（ｍ、２Ｈ）、６．２８（ｄ、ＬＨ
，Ｊ＝１６．４Ｈｚ）、６．０５（ｄ、ＩＨＪ＝１６．
４１Ｈｚ）。
５．８７　（ｍ、ＬＨ）、５、Ｏ（ｍ、３Ｈ）。
４．７８　（ｓ、ＬＨ，交換可能）、１．９０（ｍ、２
Ｈ）、１．６６　（ｓ、３Ｈ）。
１．５７　（ｓ、３Ｈ）、１．５０　（ｍ２Ｈ）、１．
１９　（ｓ、３Ｈ） ［発明の効果］ 本発明によれば、入手が容易な出発材料を用いて、光学
活性なバクチオールの２種の対掌体のいずれをも任意に
調製することができる。また、本発明は合成手順が単純
で、キラル中心の導入率が高く、大量生産にも適してい
る。更に、本発明で用いる製造方法によれば、キラリテ
ィーを有する出発材料にラセミ化を起こすことなく、キ
ラリティーを維持したままで目的生成物を得ることがで
きる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＿１は水素原子または炭素数１〜４個の低級
    アルキル基であり、Ｒ＿２は水素原子または炭素数１〜
    ４個の低級アルキル基であり、Ｒ＿３は炭素数１〜４個
    の低級アルキル基であり、Ｒ＿４は一般式（ａ） −ＣＨ＿２−ＯＲ＿７（ａ） （式中、Ｒ＿７は水素原子またはヒドロキシ基を保護す
    る基である） で表される基もしくは一般式（ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ｂ） （式中、Ｒ＿８は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜
    ４個の低級アルキル基または炭素数１〜４個の低級アル
    コキシ基である） で表される基であってＲ＿５はヒドロキシ基であるか、
    あるいはＲ＿４とＲ＿５とが一緒になってオキソ基であ
    るものとし、ＹおよびＺは両者の直接結合であるかまた
    はそれぞれ水素原子であり、Ｒ＿６は一般式（ｃ） −Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ＿９（ｃ） （式中、Ｒ＿９は水素原子または炭素数１〜４個の低級
    アルキル基である） で表される基または一般式（ｄ） −Ｃ（ＯＨ）Ｒ＿１＿０Ｒ＿１＿１（ｄ） （式中、Ｒ＿１＿０およびＲ＿１＿１は、それぞれ独立
    に水素原子または炭素数１〜４個の低級アルキル基であ
    る） で表される基であり、そして式中で※を付したキラル中
    心炭素原子における立体配置は、択一的にＳ−配置また
    はＲ−配置のいずれか一方の配置のみをとるものとし、
    更に式中で＊を付した環炭素原子がキラル中心炭素原子
    である場合においてそのキラル中心炭素原子における立
    体配置は、択一的にＳ−配置またはＲ−配置のいずれか
    一方の配置のみをとるものとする］ で表される光学活性なアルケニル置換ヘプタン化合物。
  2. （２）一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ［式中、Ｒ＿１は水素原子または炭素数１〜４個の低級
    アルキル基であり、Ｒ＿２は水素原子または炭素数１〜
    ４個の低級アルキル基であり、Ｒ＿３は炭素数１〜４個
    の低級アルキル基であり、Ｒ＿７は水素原子またはヒド
    ロキシ基を保護する基であり、Ｐは水素原子であってＱ
    はヒドロキシ基であるかまたはＰとＱとが一緒になって
    オキソ基であるものとし、そして式中で※を付したキラ
    ル中心炭素原子における立体配置は、択一的にＳ−配置
    またはＲ−配置のいずれか一方の配置のみをとるものと
    する］ で表される光学活性なアルケニル置換オキサン化合物。
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