JPH04108523A - シクロデキストリン膜の製造方法 - Google Patents

シクロデキストリン膜の製造方法

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JPH04108523A
JPH04108523A JP22746290A JP22746290A JPH04108523A JP H04108523 A JPH04108523 A JP H04108523A JP 22746290 A JP22746290 A JP 22746290A JP 22746290 A JP22746290 A JP 22746290A JP H04108523 A JPH04108523 A JP H04108523A
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JP
Japan
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cyclodextrin
membrane
plasticizer
derivative
support
Prior art date
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Pending
Application number
JP22746290A
Other languages
English (en)
Inventor
Masanobu Yoshinaga
雅信 吉永
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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  • Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はシクロデキストリン膜の製造方法に関し、更に
詳しくは機能性の分離膜や透過膜などに用いられるシク
ロデキストリン膜の製造方法に関する。
[従来の技術] シクロデキストリンは水溶液中で種々のゲスト化合物と
構造特異的な包接化合物を形成する。したがって、シク
ロデキストリンを含む固体膜には、特異的な分離能と透
過能などが期待され、またシクロデキストリンが高分子
に担持されることにより単体として成し得なかった種々
の物性を期待することができ、利用面も広がるため、シ
クロデキストリンを含む膜を自由に作成しうる方法が望
まれていた。
このようなシクロデキストリン膜の作成に関して、例え
ば特開昭60−232210号公報には、シクロデキス
トリンの包接化合物の結晶とイソシアネート基を有する
化合物からなる高分子を市販の限外濾過膜上にキャスト
する方法が開示されており、また、特開昭62−258
702号公報にはシクロデキストリンと各種モノマーを
反応させた一後アクリロニトリル誘導体と共重合して得
られた高分子を公知の方法を用いて製膜する方法が開示
されている。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、前記特開昭60−232210号開示の
方法はシクロデキストリン膜を高分子自体の膜として使
用しうるち、のではなく、また、特開昭62−2587
02号開示の方法は、得られる高分子膜中のシクロデキ
ストリンの導入率が低く十分なものではなかった。
従って、本発明の目的は、シクロデキストリンを膜内に
保持し、単体かつ強度の高い膜として使用しつるシクロ
デキストリン膜の製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は前記課題に鑑みて鋭意研究の結果、本発明
の上記目的は、シクロデキストリン又はその誘導体を製
膜機能を有する高分子化合物及び可塑剤と共に溶媒に溶
解して得られる溶液を支持体上に展延した後乾燥するこ
とを特徴とするシクロデキストリン膜の製造方法により
達成されることを見出した。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明において製膜機能を有する高分子化合物としては
、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリメタクリル酸エステル
(例えば、ポリメタクリル酸メチル)、ポリアクリル酸
エステル(例えばポリアクリル酸メチル)、ポリカーボ
ネート、ポリブタジェン、ポリ酢酸ビニル、ポリスルホ
ン(例えば、ポリエーテルスルホン、ポリフェニルスル
ホン)、ポリアミド(例えば、ポリエーテルアミド)、
ポリイミド、ポリN−ビニルピロリドン、ポリエチレン
テレフタレート、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ある
いはそのケン化物であるエチレン−ビニルアルコール共
重合体、アクリロニトリル−メタクリルスルホン酸ナト
リウム共重合体、アクリロニトリル−塩化ビニル(又は
塩化ビニリデン)共重合体、ポリエーテルカーボネート
、ブタジェン−アクリロニトリル共重合体、エチレン−
無水マレイン酸共重合体、メタクリル酸(又はアクリル
酸)エステル(例えばメタクリル酸(又はアクリル酸)
メチル)−N−ビニルピロリドン共重合体、スチレン−
ブタジェン(スチレンをクロロメチル化又はアミノ化し
たものも含む)共重合体、スチレン−ジビニルベンゼン
共重合体、スチレン−ジビニルベンゼン−塩化ビニル共
重合体、セルロース系化合物(例えばニトロセルロース
、エチルセルロース、アセチルセルロース)等又はこれ
らの組合わせが用いられる。
また、本発明において、シクロデキストリン又はその誘
導体、及び上記高分子化合物と共に用いられる可塑剤と
しては有機酸エステル型可塑剤とリン酸エステル型可塑
剤が挙げられるが、前記高分子化合物、シクロデキスト
リン等の相溶性の点から有機酸エステル型可塑剤が好ま
しく用いられる。
このような可塑剤としては具体的には、ジオクチルフタ
レート(DOP) 、ビス−2−エチルへキシルセバケ
ート(DO8)、ニトロフェニルオクチルエーテル(N
POE) 、ニドセフェニルフェニルエーテル(NPP
E) 、)リス−2−エチルへキシルフタレート(TE
HP) 、フルオロフェニル壷二トロフェニルエーテ4
(FPNPE)等が挙げられる。
本発明においては、前記高分子化合物と可塑剤をシクロ
デキストリン又はその誘導体と共に溶媒に溶解し、支持
体上に塗設するものであるが、この際、用いられる溶媒
としては、水又は有機溶媒であり、有機溶媒としては特
に、テトラヒドロフラン(THF) 、塩化メチレン、
アセトン、ジメチルホルムアミド(DMF) 、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO) 、等が好ましく用いられ
る。
本発明においては、前記製膜機能を有する高分子化合物
1モルに対し、可塑剤を5〜50モル、好ましくは10
〜20モル、シクロデキストリン又はその誘導体を1〜
20モル、好ましくは1〜5モルに相当する配合比にて
、水又は前記有機溶媒に溶解し、得られる溶液をガラス
板、テフロン板、金属板等の支持体上に展延し、乾燥す
ることによりシクロデキストリン膜を得ることができる
本発明にお′いてシクロデキストリンの誘導体を形成す
るシクロデキストリンとしては、例えばα−シクロデキ
ストリン、β−シクロデキストリン及びγ−シクロデキ
ストリンが挙げられる。また、本発明に用いられるシク
ロデキストリンの誘導体としては、例えば、メチル化β
−シクロデキストリン、アセチル化β−シクロデキスト
リン等が挙げられる。
本発明においてはシクロデキストリンとブレンドさせる
高分子化合物が製膜能を有しているため、他の支持膜の
助けを得ることなくシクロデキストリン膜を製造するこ
とができ、また、膜強度についても可塑剤を添加するこ
とにより高分子化合物とシクロデキストリン誘導体が分
離することなく強化することができ、連続操作性に耐え
うるシクロデキストリン膜を製造することができる。
更に、膜の劣化が著しい条件下で使用する場合にも、シ
クロデキストリンの水酸残基を架橋させることにより膜
を不溶化することができる。
本発明のシクロデキストリン膜は、例えば光学異性体な
どの分離膜、特定物質の濃縮等を行なう透過膜などとし
て利用することができる。
以下に、本発明の具体的実施例を挙げる。
[実施例] 実施例1 ポリ塩化ビニル(分子量:約1万)5g1可塑剤N P
 OE 2.5g 、及びメチル化β−シクロデキスト
リン20gをTHF (テトラヒドロフラン)100d
に溶・解しよく撹拌する。その後THFを減圧下、溶解
物が析出する直前まで濃縮し、得られた溶液をガラス板
などの支持体の上に展延した後、溶媒(THF)を蒸発
させ、シクロデキストリン膜を作製した。
実施例2 ポリメタクリル酸メチル(分子量:約1万)5g、可塑
剤D OP 1.5g及びアセチル化β−シクロデキス
トリン2.5gをT HF 100vfiに溶解しよく
撹拌する。その後THFを減圧下、溶解物が析出する直
前まで濃縮し得られた粘稠液体をガラス板などの支持体
の上に展延した後、溶媒を完全に蒸発させ、シクロデキ
ストリン膜を作製した。
実施例3 ポリN−ビニルピロリドン(分子量:約5万)10g1
可塑剤DOP2.0g及びアセチル化β−シクロデキス
トリン2.5gを塩化メチレン50dに溶解し、よく撹
拌する。その後塩化メチレンを減圧下溶解物が析出する
直前まで濃縮し、得られた溶液をガラス板などの支持体
の上に展延した後、溶媒を蒸発させ、シクロデキストリ
ン膜を作製した。
実施例4 ポリエチレン−無水マレイン酸共重合体(分子量:約1
5万)5g1可塑剤N P OE 1.5g及びメチル
化β−シクロデキストリン2.0gをアセトン50uJ
2に溶解し、よく撹拌する。その後アセトンを減圧下、
溶解物が析出する直前まで濃縮し、得られた溶液をガラ
ス板などの支持体の上に展延した後、溶媒を蒸発させ、
シクロデキストリン膜を作製した。
実施例5 ポリエチレン−ビニルアルコール共重合体(酢酸ビニル
をケン化したもの、分子量:約1万)5g1可塑剤D 
OS 2.0g及びβ−シクロデキストリン2.Ogを
D M F 100dに溶解する。その後DMFを減圧
下40〜50℃で溶解物が析出する直前まで濃縮し、得
られた粘稠液体をガラス板などの支持体の上に展延した
後40〜50℃に加熱し、ある程度蒸発した時点で水中
に入れ、膜を剥し、シクロデキストリン膜を得た。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の製造方法により、
シクロデキストリンを膜内に保持することができ、単体
かつ強度の高い膜として使用しうるシクロデキストリン
膜を提供することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. シクロデキストリン又はその誘導体を製膜機能を有する
    高分子化合物及び可塑剤と共に溶媒に溶解して得られる
    溶液を支持体上に展延した後乾燥することを特徴とする
    シクロデキストリン膜の製造方法。
JP22746290A 1990-08-29 1990-08-29 シクロデキストリン膜の製造方法 Pending JPH04108523A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5492947A (en) * 1994-06-23 1996-02-20 Aspen Research Corporation Barrier material comprising a thermoplastic and a compatible cyclodextrin derivative
US6851462B2 (en) 2001-10-30 2005-02-08 The Goodyear Tire & Rubber Company Rubber compositions containing a cyclodextrin compound
JP2019195767A (ja) * 2018-05-09 2019-11-14 株式会社都ローラー工業 造水装置

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