JPH0410547Y2 - - Google Patents
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- JPH0410547Y2 JPH0410547Y2 JP14447886U JP14447886U JPH0410547Y2 JP H0410547 Y2 JPH0410547 Y2 JP H0410547Y2 JP 14447886 U JP14447886 U JP 14447886U JP 14447886 U JP14447886 U JP 14447886U JP H0410547 Y2 JPH0410547 Y2 JP H0410547Y2
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- passage member
- upper chamber
- inert gas
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- Expired
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は金属粉やセラミツクスからなるウイ
スカー等の粉体とアルコール等の揮発性液体とを
混合した混合物を乾燥させる乾燥装置に関するも
のである。
スカー等の粉体とアルコール等の揮発性液体とを
混合した混合物を乾燥させる乾燥装置に関するも
のである。
(従来技術)
金属粉あるいはセラミツクスのウイスカー等を
混合させる場合、単に機械的に攪拌するとウイス
カー相互が絡まり合つて毛玉状になるために均一
混合ができず、したがつてウイスカーの分散効果
および均一混合効果を向上させるためにアルコー
ル等の表面張力の小さい液体を混合させることが
行われている。この液体を混合させた混合物は製
品化に先立つて乾燥させる必要がある。この乾燥
の手段として従来は以下のような手段が提案され
ている。すなわち、 (A) 円筒シリンダ内に移送用スクリユーを配置
し、円筒シリンダの外部にヒータを設けた装
置。
混合させる場合、単に機械的に攪拌するとウイス
カー相互が絡まり合つて毛玉状になるために均一
混合ができず、したがつてウイスカーの分散効果
および均一混合効果を向上させるためにアルコー
ル等の表面張力の小さい液体を混合させることが
行われている。この液体を混合させた混合物は製
品化に先立つて乾燥させる必要がある。この乾燥
の手段として従来は以下のような手段が提案され
ている。すなわち、 (A) 円筒シリンダ内に移送用スクリユーを配置
し、円筒シリンダの外部にヒータを設けた装
置。
この装置ではホツパー内の被処理物を円筒シリ
ンダ中に供給し、その内部のスクリユーにより円
筒シリンダ中を移送しながらシリンダの外部から
ヒータにより加熱するようにしている。このシリ
ンダは石英等の透明材料で構成し、ヒータは赤外
線ランプあるいは赤外線ヒータをシリンダの外周
に多数配置して構成しており、このため被処理物
を多量に処理する場合にはヒータが大型化し、装
置がコストアツプとなるという問題がある。
ンダ中に供給し、その内部のスクリユーにより円
筒シリンダ中を移送しながらシリンダの外部から
ヒータにより加熱するようにしている。このシリ
ンダは石英等の透明材料で構成し、ヒータは赤外
線ランプあるいは赤外線ヒータをシリンダの外周
に多数配置して構成しており、このため被処理物
を多量に処理する場合にはヒータが大型化し、装
置がコストアツプとなるという問題がある。
(B) 加熱源に電磁波を利用し、被処理物を直接加
熱しながら供給する装置。
熱しながら供給する装置。
この装置では被処理物に対して直接に電磁波を
照射するために、被処理物が金属粉のように導電
性に優れた物質の場合には、これらの物質の表面
に電磁波が表面電流として流れ、粉対相互の移動
による接触のたびにスパークを発し、空気が混在
すると爆発する危険性がある。さらにアルコール
等の気化した物質が電磁波を受けてプラズマ化
し、グロー放電を生じて、空気が存在する場合に
は爆発が生じるおそれがある。
照射するために、被処理物が金属粉のように導電
性に優れた物質の場合には、これらの物質の表面
に電磁波が表面電流として流れ、粉対相互の移動
による接触のたびにスパークを発し、空気が混在
すると爆発する危険性がある。さらにアルコール
等の気化した物質が電磁波を受けてプラズマ化
し、グロー放電を生じて、空気が存在する場合に
は爆発が生じるおそれがある。
(C) 特開昭59−150014号公報中に記載されている
ように、加熱源として電磁波を利用し、電磁波
の吸収体で円筒シリンダを構成し、円筒シリン
ダに電磁波を吸収発熱させる装置。
ように、加熱源として電磁波を利用し、電磁波
の吸収体で円筒シリンダを構成し、円筒シリン
ダに電磁波を吸収発熱させる装置。
この装置では円筒シリンダがセラミツク製であ
るために、金属製の場合のような高精度の加工が
困難であり、このためシリンダ内で回転するスク
リユーとの間に大きな隙間を形成する必要があ
る。そしてこの大きな隙間が存在することによ
り、スクリユーにより移送されない被処理物がシ
リンダ内に沈積することになり、その結果沈積し
た粉体による加熱効率の低下および沈積した粉体
の長時間加熱により物性変化が生じることにな
る。
るために、金属製の場合のような高精度の加工が
困難であり、このためシリンダ内で回転するスク
リユーとの間に大きな隙間を形成する必要があ
る。そしてこの大きな隙間が存在することによ
り、スクリユーにより移送されない被処理物がシ
リンダ内に沈積することになり、その結果沈積し
た粉体による加熱効率の低下および沈積した粉体
の長時間加熱により物性変化が生じることにな
る。
(考案の目的)
この考案は、このような従来の欠点を解消する
ためになされたものであり、加熱源として電磁波
を利用し、加熱ムラや物性変化が生じることなく
効率よくしかも安全に被処理物を乾燥させること
ができる乾燥装置を提供するものである。
ためになされたものであり、加熱源として電磁波
を利用し、加熱ムラや物性変化が生じることなく
効率よくしかも安全に被処理物を乾燥させること
ができる乾燥装置を提供するものである。
(考案の構成)
この考案は、被処理物を搬送通路を通して搬送
しつつ加熱する装置であつて、上記通路を構成す
る通路部材は黒鉛、炭化硅素等の耐熱誘導体で通
気性を有するように構成され、上記通路部材はケ
ーシングで覆われてケーシング内には通路部材の
上側に上部室、通路の下側に下部室が形成される
とともに通路は上部室に開放され、下部室には不
活性ガス供給手段およびマイクロ波発振手段が接
続され、上部室には排ガス排出部が形成され、通
路の始端部にはホツパーが接続され、通路の終端
部には被処理物排出口が形成されているものであ
る。
しつつ加熱する装置であつて、上記通路を構成す
る通路部材は黒鉛、炭化硅素等の耐熱誘導体で通
気性を有するように構成され、上記通路部材はケ
ーシングで覆われてケーシング内には通路部材の
上側に上部室、通路の下側に下部室が形成される
とともに通路は上部室に開放され、下部室には不
活性ガス供給手段およびマイクロ波発振手段が接
続され、上部室には排ガス排出部が形成され、通
路の始端部にはホツパーが接続され、通路の終端
部には被処理物排出口が形成されているものであ
る。
上記構成では、マイクロ波により通路部材が加
熱され、通路部材を透過する不活性ガスによつて
被処理物が加熱されて乾燥されるとともに、不活
性ガスによるエアリフト効果によつて被処理物が
通路底部に沈積するのが防止される。
熱され、通路部材を透過する不活性ガスによつて
被処理物が加熱されて乾燥されるとともに、不活
性ガスによるエアリフト効果によつて被処理物が
通路底部に沈積するのが防止される。
(実施例)
図面において、ケーシング1内は仕切壁11に
より上部室41と下部室42とに区画され、かつ
黒鉛、炭化硅素等の耐熱誘導体で横断面U字形に
形成された通路部材7が配置されて通路70が構
成されている。この通路部材7は通気性を有する
ように構成され、その上端部には両側に突出する
フランジ71が形成され、このフランジ71が仕
切壁11によつて支持されることにより固定さ
れ、したがつて通路70は上部室41に開放され
ている。この通路70中にはスクリユー5が配置
され、その駆動モータ50がケーシング1外に配
置されている。また通路部材7の下側(下部室4
2に面する部分)はカオウール、石英繊維等から
なる断熱材6で覆われている。
より上部室41と下部室42とに区画され、かつ
黒鉛、炭化硅素等の耐熱誘導体で横断面U字形に
形成された通路部材7が配置されて通路70が構
成されている。この通路部材7は通気性を有する
ように構成され、その上端部には両側に突出する
フランジ71が形成され、このフランジ71が仕
切壁11によつて支持されることにより固定さ
れ、したがつて通路70は上部室41に開放され
ている。この通路70中にはスクリユー5が配置
され、その駆動モータ50がケーシング1外に配
置されている。また通路部材7の下側(下部室4
2に面する部分)はカオウール、石英繊維等から
なる断熱材6で覆われている。
上記下部室42には、図示しないマイクロ波発
振器に接続された導波管9が接続されるととも
に、不活性ガス供給管12が接続されている。こ
の不活性ガス供給管12はブロワ10に接続さ
れ、このブロワ10は配管19を介して凝縮器1
3に接続されている。また上部室41には排ガス
排出管15が接続され、この排出管15は上記凝
縮器13に接続されている。上記通路70の始端
部にはホツパー2が設けられ、このホツパー2の
出口部にはダンパー3が二段に設けられている。
また通路70の終端部に形成された被処理物排出
口18には排出シユート14が接続され、この排
出シユート14の出口部にもダンパー33が二段
に形成されている。
振器に接続された導波管9が接続されるととも
に、不活性ガス供給管12が接続されている。こ
の不活性ガス供給管12はブロワ10に接続さ
れ、このブロワ10は配管19を介して凝縮器1
3に接続されている。また上部室41には排ガス
排出管15が接続され、この排出管15は上記凝
縮器13に接続されている。上記通路70の始端
部にはホツパー2が設けられ、このホツパー2の
出口部にはダンパー3が二段に設けられている。
また通路70の終端部に形成された被処理物排出
口18には排出シユート14が接続され、この排
出シユート14の出口部にもダンパー33が二段
に形成されている。
上記導波管9は通路70の長さ方向に一対形成
され、それらの間の下部室42には通気性のある
仕切壁43が形成されて、不活性ガス供給管12
から供給された不活性ガスが通路部材7の長さ方
向にほぼ均一に分布されるようにしている。
され、それらの間の下部室42には通気性のある
仕切壁43が形成されて、不活性ガス供給管12
から供給された不活性ガスが通路部材7の長さ方
向にほぼ均一に分布されるようにしている。
つぎにこの装置の作用を説明する。ホツパー2
内の被処理物20がダンパー3により調整された
速度で通路70の始端部に供給され、モータ50
により回転するスクリユー5により通路70中を
搬送される。一方、図示しないマイクロ波発振器
からマイクロ波が導波管9を通して照射され、こ
のマイクロ波は断熱材6を透過して通路部材7に
照射され、これによつて通路部材7が全体的に加
熱される。またブロワ10により不活性ガスが不
活性ガス供給管12を通して下部室42に供給さ
れ、この不活性ガスは断熱材6および通気性を有
する通路部材7を透過して上部室41に送られ
る。この不活性ガスは加熱された通路部材7を通
過する際に加熱され、加熱された不活性ガスが通
路70中を搬送されている被処理物20中を透過
するために、被処理物20は不活性ガスにより加
熱されるとともにエアリフト効果により通路部材
7の壁面から浮遊することになる。このため被処
理物20は通路部材7の壁面に沈積することなく
乾燥されながら搬送され、排出口18から排出シ
ユート14に送り出される。
内の被処理物20がダンパー3により調整された
速度で通路70の始端部に供給され、モータ50
により回転するスクリユー5により通路70中を
搬送される。一方、図示しないマイクロ波発振器
からマイクロ波が導波管9を通して照射され、こ
のマイクロ波は断熱材6を透過して通路部材7に
照射され、これによつて通路部材7が全体的に加
熱される。またブロワ10により不活性ガスが不
活性ガス供給管12を通して下部室42に供給さ
れ、この不活性ガスは断熱材6および通気性を有
する通路部材7を透過して上部室41に送られ
る。この不活性ガスは加熱された通路部材7を通
過する際に加熱され、加熱された不活性ガスが通
路70中を搬送されている被処理物20中を透過
するために、被処理物20は不活性ガスにより加
熱されるとともにエアリフト効果により通路部材
7の壁面から浮遊することになる。このため被処
理物20は通路部材7の壁面に沈積することなく
乾燥されながら搬送され、排出口18から排出シ
ユート14に送り出される。
被処理物中の液体を蒸発させた不活性ガスは上
部室41から排出管15を通つて凝縮器13に送
られ、ここで液体分は分離されて除去され、不活
性ガスのみが配管19を通つてブロワ10に送ら
れる。
部室41から排出管15を通つて凝縮器13に送
られ、ここで液体分は分離されて除去され、不活
性ガスのみが配管19を通つてブロワ10に送ら
れる。
(考案の効果)
以上説明したように、この考案は耐熱誘導体で
通気性を有するように構成された通路部材をマイ
クロ波で加熱し、この加熱された通路部材を透過
する不活性ガスにより被処理物をエアリフト効果
をもたせて乾燥するようにしたものであり、被処
理物が沈積することは確実に防止され、熱効率よ
く乾燥させることができるものである。
通気性を有するように構成された通路部材をマイ
クロ波で加熱し、この加熱された通路部材を透過
する不活性ガスにより被処理物をエアリフト効果
をもたせて乾燥するようにしたものであり、被処
理物が沈積することは確実に防止され、熱効率よ
く乾燥させることができるものである。
第1図はこの考案の実施例を示す中央縦断面
図、第2図はその−線断面図である。 1……ケーシング、2……ホツパー、5……ス
クリユー、7……通路部材、12……不活性ガス
供給管、15……排出管、20……被処理物、4
1……上部室、42……下部室、70……通路。
図、第2図はその−線断面図である。 1……ケーシング、2……ホツパー、5……ス
クリユー、7……通路部材、12……不活性ガス
供給管、15……排出管、20……被処理物、4
1……上部室、42……下部室、70……通路。
Claims (1)
- 被処理物を搬送通路を通して搬送しつつ加熱す
る装置であつて、上記通路を構成する通路部材は
黒鉛、炭化硅素等の耐熱誘電体で通気性を有する
ように構成され、上記通路部材はケーシングで覆
われてケーシング内には通路部材の上側に上部
室、通路部材の下側に下部室が形成されるととも
に通路は上部室に開放され、下部室には不活性ガ
ス供給手段およびマイクロ波発振手段が接続さ
れ、上部室には排ガス排出部が形成され、通路の
始端部にはホツパーが接続され、通路の終端部に
は被処理物排出口が形成されていることを特徴と
する混合物の乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14447886U JPH0410547Y2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14447886U JPH0410547Y2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6352090U JPS6352090U (ja) | 1988-04-08 |
JPH0410547Y2 true JPH0410547Y2 (ja) | 1992-03-16 |
Family
ID=31055119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14447886U Expired JPH0410547Y2 (ja) | 1986-09-19 | 1986-09-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0410547Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0375485A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-03-29 | Kawasaki Refract Co Ltd | 不定形耐火物原料の乾燥方法 |
-
1986
- 1986-09-19 JP JP14447886U patent/JPH0410547Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6352090U (ja) | 1988-04-08 |
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