JPH039925B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH039925B2
JPH039925B2 JP1096883A JP1096883A JPH039925B2 JP H039925 B2 JPH039925 B2 JP H039925B2 JP 1096883 A JP1096883 A JP 1096883A JP 1096883 A JP1096883 A JP 1096883A JP H039925 B2 JPH039925 B2 JP H039925B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
formula
refractive index
resin
meth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1096883A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59136310A (ja
Inventor
Masahiko Iwano
Koji Arakawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kuraray Co Ltd filed Critical Kuraray Co Ltd
Priority to JP1096883A priority Critical patent/JPS59136310A/ja
Publication of JPS59136310A publication Critical patent/JPS59136310A/ja
Publication of JPH039925B2 publication Critical patent/JPH039925B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70433Layout for increasing efficiency or for compensating imaging errors, e.g. layout of exposure fields for reducing focus errors; Use of mask features for increasing efficiency or for compensating imaging errors
    • G03F7/70441Optical proximity correction [OPC]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
この発明は屈折率が大で、収差が小さいレンズ
用合成樹脂に関するものである。 従来より無機ガラスに代るレンズ用合成樹脂に
ついては、種々研究されている。これらの例とし
てポリジエチレンジグリコールビスアリルカーボ
ネート(以下CR−39と略す。)、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン等
がある。しかし、CR−39、ポリメチルメタクリ
レートは軽量で、衝撃に強いという長所を有して
いるが、屈折率が1.49と低く、ポリカーボネー
ト、ポリスチレンは屈折率が1.59と高い反面色収
差が大きいという欠点を有している。近年、屈折
率が高く、色収差が小さい樹脂を製造する研究が
なされており、特開昭55−13747号公報にはジ
(メタ)アクリル酸エステル類と(メタ)アクリ
ル酸エステル類あるいはスチレン系単量体とを共
重合させて得られる高屈折率樹脂組成物について
の記載があり、特開昭54−77686号には芳香環に
塩素、臭素またはヨウ素原子を有する単量体とカ
ーボネート類あるいは(メタ)アクリル酸エステ
ル類とを共重合させて得られる透明高屈折率樹脂
組成物についての記載がある。このようにして得
られる樹脂組成物は屈折率が1.60と高く、色収差
も小さくさらに光線透過率が85%以上であると記
載されている。しかし芳香環に塩素、臭素または
ヨウ素原子を有する単量体は含有するハロゲン原
子の増加に伴い、常温で固体の針状結晶となり、
単独では注型重合に際し、鋳型への単量体の充
填、脱気が著るしく困難であり、その重合物は極
めて脆弱であり、耐熱性、耐候性の面でも満足で
きるものではない。また前記の単量体を(メタ)
アクリル酸エステル類に溶解すれば、通常の液状
モノマーと同様工程で注型重合が可能であるが、
この場合でも、前記単量体の含有量が増加すると
それに伴つて生成した重合体の衝撃強度、耐熱
性、耐候性も低下する。 我々発明者は高い屈接率と低い色収差を有しか
つ透明性、耐衝撃性、性熱性のすぐれたレンズ用
樹脂を得ることを目的として検討した結果、一般
にトリブロモフエニルメタクリレートを主成分と
する樹脂は重合の完結が不充分なために諸物性が
向上せず実用に耐えないが、特定の単量体類を特
定割合で共重合することによつて樹脂中の残存単
量体を減少させることが可能となり、それによつ
て高い屈折率と低い色収差を有すると共にレンズ
用樹脂として望まれる透明性、耐衝撃性、耐熱
性、耐候性などをも満足する樹脂を得ることがで
きることを見出し、この発明を完成するに至つ
た。 即ち、この発明は 式
【式】で示されるトリブロモフエ ニルメタクリレート単位40〜90重量%、 式
【式】で示されるベンジルメタクリ レート単位5〜35重量%、一般式() 〔式中、Rは水素またはメチル基を表わし、nは
1〜23の整数である。〕 で示される少なくとも一種類のポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート単位2〜30重量%
及び 式
【式】〔但し、x1〜5の整数 である。〕 で示される少なくとも一種類の臭素化フエニルア
クリレート単位3〜40重量%からなる共重合体で
あつて、アツベ数が少なくとも34、屈折率が少な
くとも1.55であることを特徴とするレンズ用樹脂
である。 この発明に於いて、トリブロモフエニルメタク
リレート単位の含有量は40〜90重量%好ましくは
50〜80重量%が好適である。トリブロモフエニル
メタクリレートの含有量が多い程生成する樹脂の
屈折率、硬度、耐熱性、吸湿性および難燃性が改
善されるが、トリブロモフエニルメタクリレート
単位の含有量が90重量%を超えると衝撃強度が著
るしく低下し、重合率の低下と共に耐熱性、耐候
性も低下する。一方トリブロモフエニルメタクリ
レート単位の含有量が40重量%未満の場合は屈折
率の値が小さく、この発明の目的を達することが
できない。 メチルメタクリレート単位の含有量は5〜50重
量%好ましくは15〜35重量%が好適である。ベン
ジルメタクリレート単位の含有量が5重量%未満
の場合はトリブロモフエニルメタクリレートの溶
解が困難となるばかりではなく、鋳型への注入、
脱気等の諸工程において溶解しているトリブロモ
フエニルメタクリレートが析出しないように高温
に保つことが必要であるなど作業性が悪くなり、
そのために重合歪みなど欠点が発生し易い。 メチルメタクリレートの含有量が50重量%を越
えると屈折率、耐熱性が低下する。 一般式()で表わされるポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート単位を構成する単量
体としてはジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレートおよびポリエチレングリコール
部分の平均分子量が400、600、1000のものをあげ
ることができる。 一般式()で示されるポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート単位の含有量は2〜30
重量%好ましくは5〜20重量%が適当である。一
般式()で示されるポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート単位の含有量が2重量%未
満では生成する樹脂組成物の耐衝撃性が不十分で
あり、30重量%を越えると生成する樹脂は未重合
の残存単量体が多くなり耐熱性が低下するばかり
ではなく、重合終了時に重合体の収縮が大きくな
つて鋳型面から樹脂組成物の部分的剥離が生じ易
く表面性が悪くなる。 一般式()においてnの値は1〜23の範囲が
好ましく、この中で特に耐衝撃性改良の効果の大
きいのは4〜20の範囲である。 この発明で使用される芳香環に4〜5個の臭素
原子を有する臭素化フエニルアクリレート単位の
含有量は3〜40重量%好ましくは5〜30重量%が
適当である。臭素化フエニルアクリレート単位の
有量が3重量%未満では目的とする残存単量体の
減少効果が少なく、40重量%を越えると残存単量
体は減少するものの耐熱性は低下し、鋳型面から
の部分的剥離現象が越こる。すなわち、この発明
においては芳香環に1〜5個の臭素原子を有する
臭素化フエニルアクリレートを用いることにより
屈折率、耐熱性の著るしい低下を伴わずに高い重
合率を得ることができる。 この発明によれば前記組成を有し、色収差の尺
度となるアツベ数が34以上好ましくは35以上、屈
折率が1.55以上好ましくは1.58以上であるレンズ
用に好適に用いられる。樹脂を得ることができ
る。 この発明の樹脂は適当な鋳型の中で重合開始剤
の存在下に重合を行なうことにより得ることがで
きる。このような重合開始剤としてはラウロイル
パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキ
サイド、t−ブチルパーオキシイソプチレート、
t−ブチルパーオキシヒバレート、t−ブチルパ
ーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−
ブチルジパーオキシイソフタレート等の有機過酸
化物または2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、2,2′−アゾビス−2,4−ジメテルバレロ
ニトリル、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカ
ルボニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスイソ
ブチレート等公知のラジカル開始剤を単独または
併用で使用することができる。 このようにこの発明のレンズ用樹脂は従来公知
のCR−39、ポリメチルメタクリレートに比べ屈
折率が高く、ポリカーボネート、ポリスチレンに
比べて色収差が小さいだけでなく、レンズ用樹脂
として必要な表面性、表面硬度を有し、耐衝撃性
が高く加工性に優れ、耐熱性も高いだけでなく低
吸湿性であるためこの樹脂で作つたレンズは使用
中の形態安定性に優れている。 なお、この樹脂には公知のサリチル酸エステル
系、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系な
どの紫外線吸収剤、高級アルコール、高級脂肪
酸、ワツクスなどの離型剤などを添加することが
出来る。 以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 トリブロモフエニルメタクリレート50重量部と
トリプロモフエニルメタクリレート20重量部をベ
ンジルメタクリレート25重量部に50℃で加温溶解
した後、n=14のポリエチレングリコールジメタ
クリレート5重量部を加え、さらに過酸化ラウロ
イル0.05重量部を加えて撹拌した。フイルターを
介して不溶物を除き5mm間隔に置いた2枚の平板
ガラスの間に塩化ビニル製ガスケツトをはさんで
作成した製板用ガラスセルに注入した。 減圧脱気したのち70℃で2時間重合を行ない、
さらに130℃2時間放置したのち冷却して5mmの
平板を得た。アツベの屈折率計で25℃においてこ
の板の屈折率を測定したところ1.61であり、アツ
ベ数は、35.1であつた。又、全光線透過率は、91
%、残存単量体は0.9%、ビツカート軟化点(V.
S.P.)は124℃であつた。得られた板の耐衝撃性
の尺度として丸鋸カツターによる切断、ボール盤
による穴あけ等を試みたところ、レンズ用プラス
チツク材料として充分な加工性を有していた。 なお、試験に用いたカツター、ボール盤の概要
は次のとおりである。 丸鋸カツター ボール盤型式 外 径 255mm 外 径 2mm 歯 数 100 回転数 500rpm 歯 巾 3mm 回転数 2800rpm すくい角 0゜ リード角 20゜ 外径にげ角 15゜ 実施例2〜9 比較例1〜6 実施例1と同様の方法で作成した組成物の物性
値を表1に示す。比較として市販のレンズ用プラ
スチツク材料についても併記する。これにより本
実施例で得られた樹脂の物性の優れていることが
明らかである。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式【式】で示されるトリブロモフ エニルメタクリレート単位40〜90重量%、 式【式】で示されるベンジルメタクリ レート単位5〜50重量%、一般式() 〔式中、Rは水素またはメチル基を表わし、nは
    1〜23の整数である。〕 で示される少なくとも一種類のポリエチレングリ
    コールジ(メタ)アクリレート単位2〜30重量%
    および 式【式】〔但し、Xは1〜5の 整数である。〕 で示される少なくとも一種類の臭素化フエニルア
    クリレート単位3〜40重量%からなる共重合体で
    あつて、アツベ数が少なくとも34、屈折率が少な
    くとも1.55であることを特徴とするレンズ用樹
    脂。
JP1096883A 1983-01-26 1983-01-26 レンズ用樹脂 Granted JPS59136310A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1096883A JPS59136310A (ja) 1983-01-26 1983-01-26 レンズ用樹脂

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1096883A JPS59136310A (ja) 1983-01-26 1983-01-26 レンズ用樹脂

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59136310A JPS59136310A (ja) 1984-08-04
JPH039925B2 true JPH039925B2 (ja) 1991-02-12

Family

ID=11764962

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1096883A Granted JPS59136310A (ja) 1983-01-26 1983-01-26 レンズ用樹脂

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59136310A (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5132384A (en) * 1989-11-22 1992-07-21 Nippon Shokubai Co., Ltd. Optical material of low specific gravity and excellent impact resistance, optical molding product using the optical material and manufacturing method thereof
US5290892A (en) * 1990-11-07 1994-03-01 Nestle S.A. Flexible intraocular lenses made from high refractive index polymers
JP2975121B2 (ja) * 1990-12-17 1999-11-10 大日本印刷株式会社 フレネルレンズ形成用組成物、該組成物を使用したフレネルレンズおよび透過型スクリーン
JP3045422B2 (ja) * 1991-12-18 2000-05-29 株式会社日本触媒 吸水性樹脂の製造方法
US6833391B1 (en) * 2003-05-27 2004-12-21 General Electric Company Curable (meth)acrylate compositions
US7271283B2 (en) 2003-08-29 2007-09-18 General Electric Company High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom
US7045558B2 (en) 2003-08-29 2006-05-16 General Electric Company Method of making a high refractive index optical management coating and the coating

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59136310A (ja) 1984-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0437961B2 (ja)
JPH039925B2 (ja)
EP0209124B1 (en) Plastic lens
JPH039924B2 (ja)
JPH039926B2 (ja)
JPS61127712A (ja) 高屈折率レンズ用樹脂
JPH0319242B2 (ja)
GB2152064A (en) Water-absorptive contact lenses
JPS61167901A (ja) 有機光学材料
JPH0243208A (ja) 透明な親水性架橋コポリマー及びその製造方法
JP4678008B2 (ja) プラスチックレンズ用硬化性組成物
JP2551603B2 (ja) コンタクトレンズ
JPS59214822A (ja) 酸素透過性コンタクトレンズ
JP3843394B2 (ja) 選択的光吸収性を有する透明光学材料とその製造方法
JP2795347B2 (ja) 高屈折率樹脂レンズ
JPH0431082B2 (ja)
JP2983226B2 (ja) 透明樹脂材料
JP2844631B2 (ja) 光学用樹脂
JPH08157540A (ja) 高屈折率レンズ用樹脂の製造法
JPS6173101A (ja) 高屈折率プラスチツクレンズ
JPH0341801B2 (ja)
JPH0115847B2 (ja)
JPH0431362B2 (ja)
JPH07309915A (ja) 高屈折率光学用樹脂
JPH0679083B2 (ja) 光学材料