JPH039925B2 - - Google Patents
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- JPH039925B2 JPH039925B2 JP1096883A JP1096883A JPH039925B2 JP H039925 B2 JPH039925 B2 JP H039925B2 JP 1096883 A JP1096883 A JP 1096883A JP 1096883 A JP1096883 A JP 1096883A JP H039925 B2 JPH039925 B2 JP H039925B2
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-tribromophenyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(Br)C(Br)=C1Br ZSVFYHKZQNDJEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 8
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 8
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 7
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical group C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical group CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical group COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDQNOOZIDCTAPX-UHFFFAOYSA-N 3-butylperoxycarbonylbenzenecarboperoxoic acid Chemical compound CCCCOOC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OO)=C1 VDQNOOZIDCTAPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- -1 higher alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 230000000877 morphologic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 150000003902 salicylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
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- G03F7/70441—Optical proximity correction [OPC]
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
この発明は屈折率が大で、収差が小さいレンズ
用合成樹脂に関するものである。 従来より無機ガラスに代るレンズ用合成樹脂に
ついては、種々研究されている。これらの例とし
てポリジエチレンジグリコールビスアリルカーボ
ネート(以下CR−39と略す。)、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン等
がある。しかし、CR−39、ポリメチルメタクリ
レートは軽量で、衝撃に強いという長所を有して
いるが、屈折率が1.49と低く、ポリカーボネー
ト、ポリスチレンは屈折率が1.59と高い反面色収
差が大きいという欠点を有している。近年、屈折
率が高く、色収差が小さい樹脂を製造する研究が
なされており、特開昭55−13747号公報にはジ
(メタ)アクリル酸エステル類と(メタ)アクリ
ル酸エステル類あるいはスチレン系単量体とを共
重合させて得られる高屈折率樹脂組成物について
の記載があり、特開昭54−77686号には芳香環に
塩素、臭素またはヨウ素原子を有する単量体とカ
ーボネート類あるいは(メタ)アクリル酸エステ
ル類とを共重合させて得られる透明高屈折率樹脂
組成物についての記載がある。このようにして得
られる樹脂組成物は屈折率が1.60と高く、色収差
も小さくさらに光線透過率が85%以上であると記
載されている。しかし芳香環に塩素、臭素または
ヨウ素原子を有する単量体は含有するハロゲン原
子の増加に伴い、常温で固体の針状結晶となり、
単独では注型重合に際し、鋳型への単量体の充
填、脱気が著るしく困難であり、その重合物は極
めて脆弱であり、耐熱性、耐候性の面でも満足で
きるものではない。また前記の単量体を(メタ)
アクリル酸エステル類に溶解すれば、通常の液状
モノマーと同様工程で注型重合が可能であるが、
この場合でも、前記単量体の含有量が増加すると
それに伴つて生成した重合体の衝撃強度、耐熱
性、耐候性も低下する。 我々発明者は高い屈接率と低い色収差を有しか
つ透明性、耐衝撃性、性熱性のすぐれたレンズ用
樹脂を得ることを目的として検討した結果、一般
にトリブロモフエニルメタクリレートを主成分と
する樹脂は重合の完結が不充分なために諸物性が
向上せず実用に耐えないが、特定の単量体類を特
定割合で共重合することによつて樹脂中の残存単
量体を減少させることが可能となり、それによつ
て高い屈折率と低い色収差を有すると共にレンズ
用樹脂として望まれる透明性、耐衝撃性、耐熱
性、耐候性などをも満足する樹脂を得ることがで
きることを見出し、この発明を完成するに至つ
た。 即ち、この発明は 式
用合成樹脂に関するものである。 従来より無機ガラスに代るレンズ用合成樹脂に
ついては、種々研究されている。これらの例とし
てポリジエチレンジグリコールビスアリルカーボ
ネート(以下CR−39と略す。)、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン等
がある。しかし、CR−39、ポリメチルメタクリ
レートは軽量で、衝撃に強いという長所を有して
いるが、屈折率が1.49と低く、ポリカーボネー
ト、ポリスチレンは屈折率が1.59と高い反面色収
差が大きいという欠点を有している。近年、屈折
率が高く、色収差が小さい樹脂を製造する研究が
なされており、特開昭55−13747号公報にはジ
(メタ)アクリル酸エステル類と(メタ)アクリ
ル酸エステル類あるいはスチレン系単量体とを共
重合させて得られる高屈折率樹脂組成物について
の記載があり、特開昭54−77686号には芳香環に
塩素、臭素またはヨウ素原子を有する単量体とカ
ーボネート類あるいは(メタ)アクリル酸エステ
ル類とを共重合させて得られる透明高屈折率樹脂
組成物についての記載がある。このようにして得
られる樹脂組成物は屈折率が1.60と高く、色収差
も小さくさらに光線透過率が85%以上であると記
載されている。しかし芳香環に塩素、臭素または
ヨウ素原子を有する単量体は含有するハロゲン原
子の増加に伴い、常温で固体の針状結晶となり、
単独では注型重合に際し、鋳型への単量体の充
填、脱気が著るしく困難であり、その重合物は極
めて脆弱であり、耐熱性、耐候性の面でも満足で
きるものではない。また前記の単量体を(メタ)
アクリル酸エステル類に溶解すれば、通常の液状
モノマーと同様工程で注型重合が可能であるが、
この場合でも、前記単量体の含有量が増加すると
それに伴つて生成した重合体の衝撃強度、耐熱
性、耐候性も低下する。 我々発明者は高い屈接率と低い色収差を有しか
つ透明性、耐衝撃性、性熱性のすぐれたレンズ用
樹脂を得ることを目的として検討した結果、一般
にトリブロモフエニルメタクリレートを主成分と
する樹脂は重合の完結が不充分なために諸物性が
向上せず実用に耐えないが、特定の単量体類を特
定割合で共重合することによつて樹脂中の残存単
量体を減少させることが可能となり、それによつ
て高い屈折率と低い色収差を有すると共にレンズ
用樹脂として望まれる透明性、耐衝撃性、耐熱
性、耐候性などをも満足する樹脂を得ることがで
きることを見出し、この発明を完成するに至つ
た。 即ち、この発明は 式
【式】で示されるトリブロモフエ
ニルメタクリレート単位40〜90重量%、
式
【式】で示されるベンジルメタクリ
レート単位5〜35重量%、一般式()
〔式中、Rは水素またはメチル基を表わし、nは
1〜23の整数である。〕 で示される少なくとも一種類のポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート単位2〜30重量%
及び 式
1〜23の整数である。〕 で示される少なくとも一種類のポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート単位2〜30重量%
及び 式
【式】〔但し、x1〜5の整数
である。〕
で示される少なくとも一種類の臭素化フエニルア
クリレート単位3〜40重量%からなる共重合体で
あつて、アツベ数が少なくとも34、屈折率が少な
くとも1.55であることを特徴とするレンズ用樹脂
である。 この発明に於いて、トリブロモフエニルメタク
リレート単位の含有量は40〜90重量%好ましくは
50〜80重量%が好適である。トリブロモフエニル
メタクリレートの含有量が多い程生成する樹脂の
屈折率、硬度、耐熱性、吸湿性および難燃性が改
善されるが、トリブロモフエニルメタクリレート
単位の含有量が90重量%を超えると衝撃強度が著
るしく低下し、重合率の低下と共に耐熱性、耐候
性も低下する。一方トリブロモフエニルメタクリ
レート単位の含有量が40重量%未満の場合は屈折
率の値が小さく、この発明の目的を達することが
できない。 メチルメタクリレート単位の含有量は5〜50重
量%好ましくは15〜35重量%が好適である。ベン
ジルメタクリレート単位の含有量が5重量%未満
の場合はトリブロモフエニルメタクリレートの溶
解が困難となるばかりではなく、鋳型への注入、
脱気等の諸工程において溶解しているトリブロモ
フエニルメタクリレートが析出しないように高温
に保つことが必要であるなど作業性が悪くなり、
そのために重合歪みなど欠点が発生し易い。 メチルメタクリレートの含有量が50重量%を越
えると屈折率、耐熱性が低下する。 一般式()で表わされるポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート単位を構成する単量
体としてはジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレートおよびポリエチレングリコール
部分の平均分子量が400、600、1000のものをあげ
ることができる。 一般式()で示されるポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート単位の含有量は2〜30
重量%好ましくは5〜20重量%が適当である。一
般式()で示されるポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート単位の含有量が2重量%未
満では生成する樹脂組成物の耐衝撃性が不十分で
あり、30重量%を越えると生成する樹脂は未重合
の残存単量体が多くなり耐熱性が低下するばかり
ではなく、重合終了時に重合体の収縮が大きくな
つて鋳型面から樹脂組成物の部分的剥離が生じ易
く表面性が悪くなる。 一般式()においてnの値は1〜23の範囲が
好ましく、この中で特に耐衝撃性改良の効果の大
きいのは4〜20の範囲である。 この発明で使用される芳香環に4〜5個の臭素
原子を有する臭素化フエニルアクリレート単位の
含有量は3〜40重量%好ましくは5〜30重量%が
適当である。臭素化フエニルアクリレート単位の
有量が3重量%未満では目的とする残存単量体の
減少効果が少なく、40重量%を越えると残存単量
体は減少するものの耐熱性は低下し、鋳型面から
の部分的剥離現象が越こる。すなわち、この発明
においては芳香環に1〜5個の臭素原子を有する
臭素化フエニルアクリレートを用いることにより
屈折率、耐熱性の著るしい低下を伴わずに高い重
合率を得ることができる。 この発明によれば前記組成を有し、色収差の尺
度となるアツベ数が34以上好ましくは35以上、屈
折率が1.55以上好ましくは1.58以上であるレンズ
用に好適に用いられる。樹脂を得ることができ
る。 この発明の樹脂は適当な鋳型の中で重合開始剤
の存在下に重合を行なうことにより得ることがで
きる。このような重合開始剤としてはラウロイル
パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキ
サイド、t−ブチルパーオキシイソプチレート、
t−ブチルパーオキシヒバレート、t−ブチルパ
ーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−
ブチルジパーオキシイソフタレート等の有機過酸
化物または2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、2,2′−アゾビス−2,4−ジメテルバレロ
ニトリル、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカ
ルボニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスイソ
ブチレート等公知のラジカル開始剤を単独または
併用で使用することができる。 このようにこの発明のレンズ用樹脂は従来公知
のCR−39、ポリメチルメタクリレートに比べ屈
折率が高く、ポリカーボネート、ポリスチレンに
比べて色収差が小さいだけでなく、レンズ用樹脂
として必要な表面性、表面硬度を有し、耐衝撃性
が高く加工性に優れ、耐熱性も高いだけでなく低
吸湿性であるためこの樹脂で作つたレンズは使用
中の形態安定性に優れている。 なお、この樹脂には公知のサリチル酸エステル
系、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系な
どの紫外線吸収剤、高級アルコール、高級脂肪
酸、ワツクスなどの離型剤などを添加することが
出来る。 以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 トリブロモフエニルメタクリレート50重量部と
トリプロモフエニルメタクリレート20重量部をベ
ンジルメタクリレート25重量部に50℃で加温溶解
した後、n=14のポリエチレングリコールジメタ
クリレート5重量部を加え、さらに過酸化ラウロ
イル0.05重量部を加えて撹拌した。フイルターを
介して不溶物を除き5mm間隔に置いた2枚の平板
ガラスの間に塩化ビニル製ガスケツトをはさんで
作成した製板用ガラスセルに注入した。 減圧脱気したのち70℃で2時間重合を行ない、
さらに130℃2時間放置したのち冷却して5mmの
平板を得た。アツベの屈折率計で25℃においてこ
の板の屈折率を測定したところ1.61であり、アツ
ベ数は、35.1であつた。又、全光線透過率は、91
%、残存単量体は0.9%、ビツカート軟化点(V.
S.P.)は124℃であつた。得られた板の耐衝撃性
の尺度として丸鋸カツターによる切断、ボール盤
による穴あけ等を試みたところ、レンズ用プラス
チツク材料として充分な加工性を有していた。 なお、試験に用いたカツター、ボール盤の概要
は次のとおりである。 丸鋸カツター ボール盤型式 外 径 255mm 外 径 2mm 歯 数 100 回転数 500rpm 歯 巾 3mm 回転数 2800rpm すくい角 0゜ リード角 20゜ 外径にげ角 15゜ 実施例2〜9 比較例1〜6 実施例1と同様の方法で作成した組成物の物性
値を表1に示す。比較として市販のレンズ用プラ
スチツク材料についても併記する。これにより本
実施例で得られた樹脂の物性の優れていることが
明らかである。
クリレート単位3〜40重量%からなる共重合体で
あつて、アツベ数が少なくとも34、屈折率が少な
くとも1.55であることを特徴とするレンズ用樹脂
である。 この発明に於いて、トリブロモフエニルメタク
リレート単位の含有量は40〜90重量%好ましくは
50〜80重量%が好適である。トリブロモフエニル
メタクリレートの含有量が多い程生成する樹脂の
屈折率、硬度、耐熱性、吸湿性および難燃性が改
善されるが、トリブロモフエニルメタクリレート
単位の含有量が90重量%を超えると衝撃強度が著
るしく低下し、重合率の低下と共に耐熱性、耐候
性も低下する。一方トリブロモフエニルメタクリ
レート単位の含有量が40重量%未満の場合は屈折
率の値が小さく、この発明の目的を達することが
できない。 メチルメタクリレート単位の含有量は5〜50重
量%好ましくは15〜35重量%が好適である。ベン
ジルメタクリレート単位の含有量が5重量%未満
の場合はトリブロモフエニルメタクリレートの溶
解が困難となるばかりではなく、鋳型への注入、
脱気等の諸工程において溶解しているトリブロモ
フエニルメタクリレートが析出しないように高温
に保つことが必要であるなど作業性が悪くなり、
そのために重合歪みなど欠点が発生し易い。 メチルメタクリレートの含有量が50重量%を越
えると屈折率、耐熱性が低下する。 一般式()で表わされるポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート単位を構成する単量
体としてはジエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリエチレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレートおよびポリエチレングリコール
部分の平均分子量が400、600、1000のものをあげ
ることができる。 一般式()で示されるポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート単位の含有量は2〜30
重量%好ましくは5〜20重量%が適当である。一
般式()で示されるポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート単位の含有量が2重量%未
満では生成する樹脂組成物の耐衝撃性が不十分で
あり、30重量%を越えると生成する樹脂は未重合
の残存単量体が多くなり耐熱性が低下するばかり
ではなく、重合終了時に重合体の収縮が大きくな
つて鋳型面から樹脂組成物の部分的剥離が生じ易
く表面性が悪くなる。 一般式()においてnの値は1〜23の範囲が
好ましく、この中で特に耐衝撃性改良の効果の大
きいのは4〜20の範囲である。 この発明で使用される芳香環に4〜5個の臭素
原子を有する臭素化フエニルアクリレート単位の
含有量は3〜40重量%好ましくは5〜30重量%が
適当である。臭素化フエニルアクリレート単位の
有量が3重量%未満では目的とする残存単量体の
減少効果が少なく、40重量%を越えると残存単量
体は減少するものの耐熱性は低下し、鋳型面から
の部分的剥離現象が越こる。すなわち、この発明
においては芳香環に1〜5個の臭素原子を有する
臭素化フエニルアクリレートを用いることにより
屈折率、耐熱性の著るしい低下を伴わずに高い重
合率を得ることができる。 この発明によれば前記組成を有し、色収差の尺
度となるアツベ数が34以上好ましくは35以上、屈
折率が1.55以上好ましくは1.58以上であるレンズ
用に好適に用いられる。樹脂を得ることができ
る。 この発明の樹脂は適当な鋳型の中で重合開始剤
の存在下に重合を行なうことにより得ることがで
きる。このような重合開始剤としてはラウロイル
パーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキ
サイド、t−ブチルパーオキシイソプチレート、
t−ブチルパーオキシヒバレート、t−ブチルパ
ーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−
ブチルジパーオキシイソフタレート等の有機過酸
化物または2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル、2,2′−アゾビス−2,4−ジメテルバレロ
ニトリル、1−アゾビス−1−シクロヘキサンカ
ルボニトリル、ジメチル−2,2′−アゾビスイソ
ブチレート等公知のラジカル開始剤を単独または
併用で使用することができる。 このようにこの発明のレンズ用樹脂は従来公知
のCR−39、ポリメチルメタクリレートに比べ屈
折率が高く、ポリカーボネート、ポリスチレンに
比べて色収差が小さいだけでなく、レンズ用樹脂
として必要な表面性、表面硬度を有し、耐衝撃性
が高く加工性に優れ、耐熱性も高いだけでなく低
吸湿性であるためこの樹脂で作つたレンズは使用
中の形態安定性に優れている。 なお、この樹脂には公知のサリチル酸エステル
系、ベンゾフエノン系、ベンゾトリアゾール系な
どの紫外線吸収剤、高級アルコール、高級脂肪
酸、ワツクスなどの離型剤などを添加することが
出来る。 以下実施例によりこの発明を具体的に説明す
る。 実施例 1 トリブロモフエニルメタクリレート50重量部と
トリプロモフエニルメタクリレート20重量部をベ
ンジルメタクリレート25重量部に50℃で加温溶解
した後、n=14のポリエチレングリコールジメタ
クリレート5重量部を加え、さらに過酸化ラウロ
イル0.05重量部を加えて撹拌した。フイルターを
介して不溶物を除き5mm間隔に置いた2枚の平板
ガラスの間に塩化ビニル製ガスケツトをはさんで
作成した製板用ガラスセルに注入した。 減圧脱気したのち70℃で2時間重合を行ない、
さらに130℃2時間放置したのち冷却して5mmの
平板を得た。アツベの屈折率計で25℃においてこ
の板の屈折率を測定したところ1.61であり、アツ
ベ数は、35.1であつた。又、全光線透過率は、91
%、残存単量体は0.9%、ビツカート軟化点(V.
S.P.)は124℃であつた。得られた板の耐衝撃性
の尺度として丸鋸カツターによる切断、ボール盤
による穴あけ等を試みたところ、レンズ用プラス
チツク材料として充分な加工性を有していた。 なお、試験に用いたカツター、ボール盤の概要
は次のとおりである。 丸鋸カツター ボール盤型式 外 径 255mm 外 径 2mm 歯 数 100 回転数 500rpm 歯 巾 3mm 回転数 2800rpm すくい角 0゜ リード角 20゜ 外径にげ角 15゜ 実施例2〜9 比較例1〜6 実施例1と同様の方法で作成した組成物の物性
値を表1に示す。比較として市販のレンズ用プラ
スチツク材料についても併記する。これにより本
実施例で得られた樹脂の物性の優れていることが
明らかである。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式【式】で示されるトリブロモフ エニルメタクリレート単位40〜90重量%、 式【式】で示されるベンジルメタクリ レート単位5〜50重量%、一般式() 〔式中、Rは水素またはメチル基を表わし、nは
1〜23の整数である。〕 で示される少なくとも一種類のポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート単位2〜30重量%
および 式【式】〔但し、Xは1〜5の 整数である。〕 で示される少なくとも一種類の臭素化フエニルア
クリレート単位3〜40重量%からなる共重合体で
あつて、アツベ数が少なくとも34、屈折率が少な
くとも1.55であることを特徴とするレンズ用樹
脂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1096883A JPS59136310A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | レンズ用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1096883A JPS59136310A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | レンズ用樹脂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59136310A JPS59136310A (ja) | 1984-08-04 |
JPH039925B2 true JPH039925B2 (ja) | 1991-02-12 |
Family
ID=11764962
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1096883A Granted JPS59136310A (ja) | 1983-01-26 | 1983-01-26 | レンズ用樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59136310A (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5132384A (en) * | 1989-11-22 | 1992-07-21 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Optical material of low specific gravity and excellent impact resistance, optical molding product using the optical material and manufacturing method thereof |
US5290892A (en) * | 1990-11-07 | 1994-03-01 | Nestle S.A. | Flexible intraocular lenses made from high refractive index polymers |
JP2975121B2 (ja) * | 1990-12-17 | 1999-11-10 | 大日本印刷株式会社 | フレネルレンズ形成用組成物、該組成物を使用したフレネルレンズおよび透過型スクリーン |
JP3045422B2 (ja) * | 1991-12-18 | 2000-05-29 | 株式会社日本触媒 | 吸水性樹脂の製造方法 |
US6833391B1 (en) * | 2003-05-27 | 2004-12-21 | General Electric Company | Curable (meth)acrylate compositions |
US7271283B2 (en) | 2003-08-29 | 2007-09-18 | General Electric Company | High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom |
US7045558B2 (en) | 2003-08-29 | 2006-05-16 | General Electric Company | Method of making a high refractive index optical management coating and the coating |
-
1983
- 1983-01-26 JP JP1096883A patent/JPS59136310A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59136310A (ja) | 1984-08-04 |
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