JPH0390044A

JPH0390044A - 光学活性なアルカノール類の製造法

Info

Publication number: JPH0390044A
Application number: JP22786489A
Authority: JP
Inventors: Takayuki Azumai; 隆行東井; Masayoshi Minamii; 正好南井
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1989-09-01
Filing date: 1989-09-01
Publication date: 1991-04-16
Anticipated expiration: 2013-12-02
Also published as: JP2830151B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は医薬、農薬、有機電子材料等の中間体として有
用な光学活性なアルカノール類の製造法に関する。

〈従来の技術〉特開昭６８−１９０８４２号公報には、下記一般式（Ｉ
−ａ）〔式中、Ｒは炭素数１〜１８の直鎖または分岐のアルキ
ル基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオ
キシ基またはアルコキシカルボニル基、ＲＲは炭素数２
〜１５の直鎖または分岐のアルキル基をあられし、−（
）−１基、ハロゲン原子、メチル基またはメトキシ基を
示す）をあられし、＊は不斉炭素原子であることを示す
〕で示される２−置換アルキルエーテル類の製造法として
以下の反応式が記載されている。

５（Ｉ−ａ）しかしながら、該製造法は、出発原料として光学活性２
級アルコールの水酸基をメトキシメチル基、２−テトラ
ヒドロピラニル基、ベンジル基等の保護基で保護した化
合物とアルコールまたはフェノール類とを反応させてい
る為、生成した化合物（２）を脱保護基する工程が余分
に必要となるなどの問題点があり、必ずしも工業的有利
なものではなかった。

〈発明が解決しようとする課題〉本発明は光学活性なエポキシドとフェノール性化合物と
から光学活性なアルカノール類を１工程で製造する方法
を提供する。

く課題を解決するための手段〉本発明は、一般式（ＩＩ）Ａ＋Ｑ＋ＯＨ（ｎ）Ｙ。

は１をそれぞれ表わす。

Ａは、ｎが０である々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ
基またはアルキルカルボニル基ヲ、Ｒ′はアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ基、アル
ケニルオキシ基、またはアルキニルオキシ基をそれぞれ
表わす。

で示されるフェノール性化合物と、一般式（■）＊（式中、Ｒは炭素数１〜１６のアルキル基またはハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくは低
級アルキニル基で置換されていてもよいフェニル基を、
＊印は不斉炭素原子をそれぞれ表わす。）で示される光学活性なエポキシドとを、塩基の存在下に
反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）（式中、Ａ。

１１ｎおよび＊印は前記と同じ意味である。）で示される光学活性なアルカノール類の製造法である。

フェノール性化合物としては、フェノール、クロロフェ
ノール、ブロモフェノール、クレゾール、ベンジルオキ
シフェノール、ヒドロキシアセトフェノン、４−ヒドロ
キシビフェニル、クロロ−４−ヒドロキシビフェニル、
ブロモー４−ヒドロキシビフェニル、ベンジルオキシ−
４−ヒドロキシビフェニル、アセチル−４−ヒドロキシ
ビフェニル、４′−アルキル−４−ヒドロキシビフェニ
ル、４’−アルコキシ−４−ヒドロキシビフェニル、５
−アルキル−２−（４−ヒドロキシフェニル）ピリミジ
ン、５−アルコキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）
ピリミジン、２−（４−アルキルフェニル）−５−ヒド
ロキシピリミジン、２−（４−アルコキシフェニル）−
６−ヒドロキシピリミジン、シアノフェノール、４−ヒ
ドロキシ−４７−ジアツビフエニル、２−アルキル−６
−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、２−アルコキ
シ−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、６−ア
ルキル−８−（４−ヒドロキシフェニル）ピリダジン、
６−アルコキシ−８−（４−ヒドロキシフェニル）ピリ
ダジン、５−アルキル−２−（４−ヒドロキシフェニル
）ピリジン、５−アルコキシ−２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）ピリジン等があげられる。

また、上記例示中、アルキルをアルケニル、アルキニル
に置き換えた化合物またはアルコキシをアルケニルオキ
シ、アルキニルオキシにそれぞれ置き換えた化合物も例
示される。

これらのアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキル
オキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシ基は
、炭素数２０以下の直鎖または分岐状基である。

一般式（ＩＩ）で示されるフェノール性化合物の使用量
は、通常一般式（ＩＩＩ）で示される光学活性なエポキ
シドが高価である為、該エポキシドに対して過剰にする
のが好ましく、より好ましくは１．１〜１．２倍モルで
ある。

一般式（ＩＩＩ）で示される光学活性なエポキシドとし
ては１．２−エポキシプロパン、１．２−エポキシブタ
ン、１．２−エポキシペンタン、１．２−エポキシヘキ
サン、１，２−エポキシへブタン、１．２−エポキシオ
クタン、１，２−エポキシノナン、ｌ、２−エポキシデ
カン、１．２−エポキシウンデカン、１．２−エポキシ
ドデカン、１．２−エポキシトリデカン、１゜２−エポ
キシテトラデカン、１．２−エポキシペンタデカン、１
．２−エポキシヘキサデカン、スチレンオキシド等が挙
げられる。

塩基としては、一般式（社）で示されるフェノ−ノール
性化合物との塩が挙げられる。

一般式（２）で示されるフェノール性化合物と塩を形成
する無機もしくは有機化合物としては、水酸化リチウム
、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム等の水酸化アルカリ金属もしくは水酸化アルカリ土類
金属あるいは炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属もしくはア
ルカリ土類金属の炭酸塩あるいは水素化ナトリウム、水
素化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属の水素化物あるいはメチルリチウム、ブチルリチウ
ム等の有機金属などが挙げられる。

塩基の使用量は、一般式（２）で示されるフェノール性
化合物に対して通常０．１〜１０モル％、好ましくは０
．１〜６モル％である。

一般式（ＩＤで示されるフェノール性化合物と一般式（
［［Ｉ）で示される光学活性なエポキシドとの反応は、
通常溶媒の存在下に行う。

溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、トルエン、ベンゼン
等の芳香族炭化水素、エチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル、クロルベンゼン、クロロホルム、ジ
クロルメタン、１．２−ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素もしくはジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の
非プロトン性極性溶媒などの反応に不活性な溶媒の単独
または混合物が挙げられる。溶媒の使用量は特に制限さ
れないが、一般式（Ｉｎ）で示される光学活性なエポキ
シドに対して１０重量倍以下であることがより好ましい
。

反応温度は通常Ｏ〜１６０°０、好ましくは５０〜１５
０℃である。

反応時間については、例えば一般式（Ｉｎ）で示される
光学活性なエポキシドが反応系から消失した時点をもっ
て反応終点とすることができる。

反応混合物からの一般式（Ｉ）で示される光学活性なア
ルカノール類の取出しは、通常の抽出、分液、濃縮、蒸
留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の後処理操作
を加えることにより行われる。

〈発明の効果〉本発明によれば、医薬、農薬、有機電子材料等の中間体
として有用な一般式（Ｉ）で示される光学活性なアルカ
ノール類を工業的有利に製造することができる。

〈実施例〉以下、実施例により本発明を説明する。

実施例１４−ヒドロキシビフェニル２０．４　Ｆ　（０，１２モ
ル）をジメチルホルムアミド２００−にとかし、次いで
水酸化ナトリウム０．２４１を加えて、８０分間室温で
撹拌した。（Ｒ）　−１、２−エポキシオクタン１２．
８９　（０，１モル）を加えた後、６０°Ｃで６時間撹
拌した。

反応混合物を減圧下に濃縮したのち、水５０〇−を加え
、次にトルエン８００ｄで抽出した。

得られた有機層を水洗後、無水炭酸カリウムで乾燥した
。

低沸点成分を減圧下に留去し、得られた残渣をトルエン
−酢酸エチル系でカラムクロマトグラフィーで分離、精
製して（−’）−４−（２−ヒドロキシオクチルオキシ
）ビフェニル２８．８ｆ（収率９８％）を得た。

０〔α）Ｄ−１１，１°　（ｃ＝　１　　、ＣＨＣｌ纂　
）実施例２〜１１表−１に示すフェノール性化合物、溶媒、塩基、光学活
性なエポキシドを用い、かつ反応条件を表−１に示すよ
うにする以外は実施例１と同様に反応および後処理して
表−１に示す結果を得た。

（以下余白）

Claims

【特許請求の範囲】一般式Ａ■Ｑ■＿ｎＯＨ（式中、Ｑは▲数式、化学式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼を、ｎは０または１をそれぞれ表わす。Ａはｎが０であるとき▲数式
、化学式、表等があります▼または▲数式、化学式、表
等があります▼ を、ｎが１であるとき▲数式、化学式、表等があります
▼ または▲数式、化学式、表等があります▼をそれぞれ表わす
。Ｘ＿１、Ｘ＿２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子
、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アルキルオキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニル
オキシ基またはアルキルカルボニル基を、Ｒ′はアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ基
、アルケニルオキシ基またはアルキニルオキシ基をそれ
ぞれ表わす。）で示されるフェノール性化合物と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは炭素数１〜１６のアルキル基またはハロゲ
ン原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくは低
級アルキニル基で置換されていてもよいフェニル基を、
＊印は不斉炭素原子をそれぞれ表わす。）で示される光学活性なエポキシドとを、塩基の存在下に
反応させることを特徴とする一般式▲数式、化学式、表
等があります▼ （式中、Ａ、Ｑ、Ｒ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味で
ある。）で示される光学活性なアルカノール類の製造法。