JP2830151B2 - 光学活性なアルカノール類の製造法 - Google Patents
光学活性なアルカノール類の製造法Info
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- JP2830151B2 JP2830151B2 JP1227864A JP22786489A JP2830151B2 JP 2830151 B2 JP2830151 B2 JP 2830151B2 JP 1227864 A JP1227864 A JP 1227864A JP 22786489 A JP22786489 A JP 22786489A JP 2830151 B2 JP2830151 B2 JP 2830151B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は医薬、農薬、有機電子材料等の中間体として
有用な光学活性なアルカノール類の製造法に関する。
有用な光学活性なアルカノール類の製造法に関する。
＜従来の技術＞ 特開昭63−190842号公報には、下記一般式（Ｉ−ａ） 〔式中、R1は炭素数１〜18の直鎖または分岐のアルキル
基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキ
シ基またはアルコキシカルボニル基、R2は炭素数２〜15
の直鎖または分岐のアルキル基をあらわし、 （Ｙはシアノ基、ハロゲン原子、メチル基またはメトキ
シ基を示す）をあらわし、＊は不斉炭素原子であること
を示す〕 で示される２−置換アルキルエーテル類の製造法として
以下の反応式が記載されている。
基、アルコキシ基、アルカノイル基、アルカノイルオキ
シ基またはアルコキシカルボニル基、R2は炭素数２〜15
の直鎖または分岐のアルキル基をあらわし、 （Ｙはシアノ基、ハロゲン原子、メチル基またはメトキ
シ基を示す）をあらわし、＊は不斉炭素原子であること
を示す〕 で示される２−置換アルキルエーテル類の製造法として
以下の反応式が記載されている。
しかしながら、該製造法は、出発原料として光学活性
２級アルコールの水酸基をメトキシメチル基、２−テト
ラヒドロピラニル基、ベンジル基等の保護基で保護した
化合物とアルコールまたはフェノール類とを反応させて
いる為、生成した化合物（２）を脱保護基する工程が余
分に必要となるなどの問題点があり、必ずしも工業的有
利なものではなかった。
２級アルコールの水酸基をメトキシメチル基、２−テト
ラヒドロピラニル基、ベンジル基等の保護基で保護した
化合物とアルコールまたはフェノール類とを反応させて
いる為、生成した化合物（２）を脱保護基する工程が余
分に必要となるなどの問題点があり、必ずしも工業的有
利なものではなかった。
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明は光学活性なエポキシドとフェノール性化合物
とから光学活性なアルカノール類を１工程で製造する法
を提供する。
とから光学活性なアルカノール類を１工程で製造する法
を提供する。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、一般式（II） ＡＱnOH （II） （式中、Ｑは を、ｎは０または１をそれぞれ表わす。Ａはｎが０であ
るとき を、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わし、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わす。X1,X2は 各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基またはア
ルキルカルボニル基を、Ｒ′はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキ
シ基またはアルキニルオキシ基をそれぞれ表わす。） で示されるフェノール性化合物と、一般式 （式中、Ｒは炭素数１〜16のアルキル基またはハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくは低級
アルキニル基で置換されていてもよいフェニル基を、＊
印は不斉炭素原子をそれぞれ表わす。） で示される光学活性なエポキシドとを、 前記フェノール性化合物に対して0.1〜10モル％の塩基
の存在下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ａ、Ｑ、Ｒ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味で
ある。） で示される光学活性なアルカノール類の製造法である。
るとき を、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わし、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わす。X1,X2は 各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基またはア
ルキルカルボニル基を、Ｒ′はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキ
シ基またはアルキニルオキシ基をそれぞれ表わす。） で示されるフェノール性化合物と、一般式 （式中、Ｒは炭素数１〜16のアルキル基またはハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくは低級
アルキニル基で置換されていてもよいフェニル基を、＊
印は不斉炭素原子をそれぞれ表わす。） で示される光学活性なエポキシドとを、 前記フェノール性化合物に対して0.1〜10モル％の塩基
の存在下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ａ、Ｑ、Ｒ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味で
ある。） で示される光学活性なアルカノール類の製造法である。
フェノール性化合物としては、フェノール、クロロフ
ェノール、ブロモフェノール、クレゾール、ベンジルオ
キシフェノール、ヒドロキシアセトフェノン、４−ヒド
ロキシビフェニル、クロロ−４−ヒドロキシビフェニ
ル、ブロモ−４−ヒドロキシビフェニル、ベンジルオキ
シ−４−ヒドロキシビフェニル、アセチル−４−ヒドロ
キシビフェニル、４′−アルキル−４−ヒドロキシビフ
ェニル、４′−アルコキシ−４−ヒドロキシビフェニ
ル、５−アルキル−２−（４−ヒドロキシフェニル）ピ
リミジン、５−アルコキシ−２−（４−ヒドロキシフェ
ニル）ピリミジン、２−（４−アルキルフェニル）−５
−ヒドロキシピリミジン、２−（４−アルコキシフェニ
ル）−５−ヒドロキシピリミジン、シアノフェノール、
４−ヒドロキシ−４′−シアノビフェニル、２−アルキ
ル−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、２−ア
ルコキシ−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、
６−アルキル−３−（４−ヒドロキシフェニル）ピリダ
ジン、６−アルコキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）ピリダジン、５−アルキル−２−（４−ヒドロキシ
フェニル）ピリジン、５−アルコキシ−２−（４−ヒド
ロキシフェニル）ピリジン等があげられる。
ェノール、ブロモフェノール、クレゾール、ベンジルオ
キシフェノール、ヒドロキシアセトフェノン、４−ヒド
ロキシビフェニル、クロロ−４−ヒドロキシビフェニ
ル、ブロモ−４−ヒドロキシビフェニル、ベンジルオキ
シ−４−ヒドロキシビフェニル、アセチル−４−ヒドロ
キシビフェニル、４′−アルキル−４−ヒドロキシビフ
ェニル、４′−アルコキシ−４−ヒドロキシビフェニ
ル、５−アルキル−２−（４−ヒドロキシフェニル）ピ
リミジン、５−アルコキシ−２−（４−ヒドロキシフェ
ニル）ピリミジン、２−（４−アルキルフェニル）−５
−ヒドロキシピリミジン、２−（４−アルコキシフェニ
ル）−５−ヒドロキシピリミジン、シアノフェノール、
４−ヒドロキシ−４′−シアノビフェニル、２−アルキ
ル−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、２−ア
ルコキシ−５−（４−ヒドロキシフェニル）ピラジン、
６−アルキル−３−（４−ヒドロキシフェニル）ピリダ
ジン、６−アルコキシ−３−（４−ヒドロキシフェニ
ル）ピリダジン、５−アルキル−２−（４−ヒドロキシ
フェニル）ピリジン、５−アルコキシ−２−（４−ヒド
ロキシフェニル）ピリジン等があげられる。
また、上記例示中、アルキルをアルケニル、アルキニ
ルに置き換えた化合物またはアルコキシをアルケニルオ
キシ、アルキニルオキシにそれぞれ置き換えた化合物も
例示される。
ルに置き換えた化合物またはアルコキシをアルケニルオ
キシ、アルキニルオキシにそれぞれ置き換えた化合物も
例示される。
これらのアルキル、アルケニル、アルキニル、アルキ
ルオキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシ基
は、炭素数20以下の直鎖または分岐状基である。
ルオキシ、アルケニルオキシまたはアルキニルオキシ基
は、炭素数20以下の直鎖または分岐状基である。
一般式（II）で示されるフェノール性化合物の使用量
は、通常一般式（III）で示される光学活性なエポキシ
ドが高価である為、該エポキシドに対して過剰にするの
が好ましく、より好ましくは1.1〜1.2倍モルである。
は、通常一般式（III）で示される光学活性なエポキシ
ドが高価である為、該エポキシドに対して過剰にするの
が好ましく、より好ましくは1.1〜1.2倍モルである。
一般式（III）で示される光学活性なエポキシドとし
ては1,2−エポキシプロパン、1,2−エポキシブタン、1,
2−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−
エポキシヘプタン、1,2−エポキシオクタン、1,2−エポ
キシノナン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシウン
デカン、1,2−エポキシドデカン、1,2−エポキシトリデ
カン、1,2−エポキシテトラデカン、1,2−エポキシペン
タデカン、1,2−エポキシヘキサデカン、スチレンオキ
シド等が挙げられる。
ては1,2−エポキシプロパン、1,2−エポキシブタン、1,
2−エポキシペンタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−
エポキシヘプタン、1,2−エポキシオクタン、1,2−エポ
キシノナン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシウン
デカン、1,2−エポキシドデカン、1,2−エポキシトリデ
カン、1,2−エポキシテトラデカン、1,2−エポキシペン
タデカン、1,2−エポキシヘキサデカン、スチレンオキ
シド等が挙げられる。
塩基としては、一般式（III）で示されるフェノール
性化合物と塩を形成する無機もしくは有機化合物または
該無機もしくは有機化合物と一般式（II）で示されるフ
ェノール性化合物との塩が挙げられる。
性化合物と塩を形成する無機もしくは有機化合物または
該無機もしくは有機化合物と一般式（II）で示されるフ
ェノール性化合物との塩が挙げられる。
一般式（II）で示されるフェノール性化合物と塩を形
成する無機もしくは有機化合物としては、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム等の水酸化アルカリ金属もしくは水酸化アルカリ土
類金属あるいは炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属もしくは
アルカリ土類金属の炭酸塩あるいは水素化ナトリウム、
水素化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の水素化物あるいはメチルリチウム、ブチルリチ
ウム等の有機金属などが挙げられる。
成する無機もしくは有機化合物としては、水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシ
ウム等の水酸化アルカリ金属もしくは水酸化アルカリ土
類金属あるいは炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属もしくは
アルカリ土類金属の炭酸塩あるいは水素化ナトリウム、
水素化カルシウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土
類金属の水素化物あるいはメチルリチウム、ブチルリチ
ウム等の有機金属などが挙げられる。
塩基の使用量は、一般式（II）で示されるフェノール
性化合物に対して通常0.1〜10モル％、好ましくは0.1〜
５モル％である。
性化合物に対して通常0.1〜10モル％、好ましくは0.1〜
５モル％である。
一般式（II）で示されるフェノール性化合物と一般式
（III）で示される光学活性なエポキシドとの反応は、
通常溶媒の存在下に行う。
（III）で示される光学活性なエポキシドとの反応は、
通常溶媒の存在下に行う。
溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、トルエン、ベンゼ
ン等の芳香族炭化水素、エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等のエーテル、クロルベンゼン、クロロホルム、
ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素もしくはジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の
非プロトン性極性溶媒などの反応に不活性な溶媒の単独
または混合物が挙げられる。溶媒の使用量は特に制限さ
れないが、一般式（III）で示される光学活性なエポキ
シドに対して10重量倍以下であることがより好ましい。
ン等の芳香族炭化水素、エチルエーテル、テトラヒドロ
フラン等のエーテル、クロルベンゼン、クロロホルム、
ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン等のハロゲン化
炭化水素もしくはジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の
非プロトン性極性溶媒などの反応に不活性な溶媒の単独
または混合物が挙げられる。溶媒の使用量は特に制限さ
れないが、一般式（III）で示される光学活性なエポキ
シドに対して10重量倍以下であることがより好ましい。
反応温度は通常０〜150℃、好ましくは50〜150℃であ
る。
る。
反応時間については、例えば一般式（III）で示され
る光学活性なエポキシドが反応系から消失した時点をも
って反応終点とすることができる。
る光学活性なエポキシドが反応系から消失した時点をも
って反応終点とすることができる。
反応混合物からの一般式（Ｉ）で示される光学活性な
アルカノール類の取出しは、通常の抽出、分液、濃縮、
蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の後処理操
作を加えることにより行われる。
アルカノール類の取出しは、通常の抽出、分液、濃縮、
蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の後処理操
作を加えることにより行われる。
＜発明の効果＞ 本発明によれば、医薬、農薬、有機電子材料等の中間
体として有用な一般式（Ｉ）で示される光学活性なアル
カノール類を工業的有利に製造することができる。
体として有用な一般式（Ｉ）で示される光学活性なアル
カノール類を工業的有利に製造することができる。
＜実施例＞ 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１ ４−ベンジルオキシフェノール24.0g（0.12モル）を
Ｎ−メチルピロリドン200mlにとかし、次いで60％水素
化ナトリウム0.24gを加えて、30分間室温で撹拌した。
（Ｒ）−1,2−エポキシオクタン12.8g（0.1モル）を加
えた後、60℃で６時間撹拌した。
Ｎ−メチルピロリドン200mlにとかし、次いで60％水素
化ナトリウム0.24gを加えて、30分間室温で撹拌した。
（Ｒ）−1,2−エポキシオクタン12.8g（0.1モル）を加
えた後、60℃で６時間撹拌した。
反応混合物を減圧下に濃縮したのち、水500mlを加
え、次にトルエン300mlで抽出した。得られた有機層を
水洗後、無水炭酸カリウムで乾燥した。
え、次にトルエン300mlで抽出した。得られた有機層を
水洗後、無水炭酸カリウムで乾燥した。
低沸点成分を減圧下に留去し、得られた残渣をトルエ
ン−酢酸エチル系でカラムクロマトグラフィーで分離
し、精製して（−）−１−（２−ヒドロキシオクチルオ
キシ）−４−ベンジルオキシベンゼンを31.5g（収率96
％）を得た。
ン−酢酸エチル系でカラムクロマトグラフィーで分離
し、精製して（−）−１−（２−ヒドロキシオクチルオ
キシ）−４−ベンジルオキシベンゼンを31.5g（収率96
％）を得た。
実施例２〜５ 表−１に示すフェノール性化合物、溶媒、塩基、光学
活性なエポキシドを用い、かつ反応条件を表−１に示す
ようにする以外は実施例１と同様に反応および後処理し
て表−１に示す結果を得た。
活性なエポキシドを用い、かつ反応条件を表−１に示す
ようにする以外は実施例１と同様に反応および後処理し
て表−１に示す結果を得た。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｍ 7:00 (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07C 43/20 - 43/23 C07C 41/03
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 ＡＱnOH （式中、Ｑは を、ｎは０または１をそれぞれ表わす。Ａはｎが０であ
るとき を、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わし、ｎが１でＱが であるとき をそれぞれ表わす。X1,X2は 各々独立に水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキルオキシ
基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基またはア
ルキルカルボニル基を、Ｒ′はアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アルキルオキシ基、アルケニルオキ
シ基またはアルキニルオキシ基をそれぞれ表わす。） で示されるフェノール性化合物と、一般式 （式中、Ｒは炭素数１〜16のアルキル基またはハロゲン
原子、低級アルキル基、低級アルケニル基もしくは低級
アルキニル基で置換されていてもよいフェニル基を、＊
印は不斉炭素原子をそれぞれ表わす。） で示される光学活性なエポキシドとを、 前記フェノール性化合物に対して0.1〜10モル％の塩基
の存在下に反応させることを特徴とする一般式 （式中、Ａ、Ｑ、Ｒ、ｎおよび＊印は前記と同じ意味で
ある。） で示される光学活性なアルカノール類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1227864A JP2830151B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 光学活性なアルカノール類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1227864A JP2830151B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 光学活性なアルカノール類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0390044A JPH0390044A (ja) | 1991-04-16 |
| JP2830151B2 true JP2830151B2 (ja) | 1998-12-02 |
Family
ID=16867555
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1227864A Expired - Fee Related JP2830151B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 光学活性なアルカノール類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2830151B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3008477A1 (de) * | 1980-03-05 | 1981-09-17 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | 3,3-dimethyl-1-phenoxy-butan-2-ole, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung als zwischenprodukte |
| JP2538578B2 (ja) * | 1987-02-02 | 1996-09-25 | チッソ株式会社 | ２−置換アルキルエ−テル類および液晶組成物 |
-
1989
- 1989-09-01 JP JP1227864A patent/JP2830151B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0390044A (ja) | 1991-04-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |