JPH038409A - 排煙脱硫石膏化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は工場や火力発電所等の燃焼排ガス中より大気汚
染原因となる亜硫酸ガスを効率よく除去し、かつ、生成
した亜硫酸カルシウムを酸化して石膏化する装置に関す
る。

〔従来の技術〕

従来この種の排煙脱硫装置として多くの装置が知られて
いるが、本発明者は先に１実公昭５３−１９１７１号公
報、特公昭５６−１４３３２号公報に於て提案したよう
に、内部に吸収液を貯留した回転円筒の回転に伴ない、
円筒内壁に設けたりフタ−により吸収剤スラリーを汲み
あげ、処理されるべき、排ガスの通過する円筒内に充填
した充填物層上に均一に散布するようにし、かつ、円筒
内長手方向に一定の間隔毎に複数以上の仕切り板を設け
、吸収剤スラリーが短絡的に流れることを防止し、吸収
剤スラリーを過剰給養することなく、化学当量の吸収剤
スラリーの給養で高い脱硫効率を実現するとともに処理
ガス中に成る程度以上の酸素が存在すれば石膏化も同時
に行ない得ることを実証した。

一方、上記本発明者の装置以外の排煙脱硫装置にあって
は、吸収剤スラリーの過剰使用を防止できるものは現在
まで知られておらず、従来のものは排煙脱硫装置から排
出するスラリー中の過剰の石灰分を硫酸を加えることに
より中和して空気酸化に適するｐＨ（ｐＨ＝４）に調整
した後、空気酸化を行ない石膏化する方式である。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、従来の技術のものは、被処理ガスの通過する
回転円筒の大きさを大きくすると、回転円筒の内部に充
填している充填物がこわれるなどの不具合があり、大容
量の排煙脱硫装置とするには、難点があり、又、処理ガ
ス中の酸素含有量の多い場合には、排煙脱硫とともに石
膏化も十分に行われるが、処理ガス中の酸素含有量の少
ない場合には、石膏化が十分に行なわれないという難点
があった。本発明はこれらの不具合点を解消し、大容量
のガスを処理し得る安価な排煙脱硫石膏化装置を提供す
ることを目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために本発明の排煙脱硫石膏化装置
においては、上部空間をガス流路とし、下部に吸収剤ス
ラリー貯留部を構成したケーシング内部を被処理ガスが
横向き又は上向きに流過できるよう形成し、該ガス流路
に臨んで吸収剤スラリー給養散布手段を配設した排煙脱
硫装置に於て、前記吸収剤スラリー貯留部を仕切壁によ
り複数の吸収剤スラリー貯留部に区画するとともに、該
スラリー貯留部と前記吸収剤スラリーの給養散布手段と
を接続せしめて複数以上の吸収剤スラリー貯留部−吸収
剤スラリー給養散布系の対を構成し、これら複数以上の
吸収剤スラリー貯留部の相互位置を吸収剤スラリーの給
養側から吸収剤スラリーの出口側に至る吸収剤スラリー
の流れを形成するよう直列に配置し、吸収剤スラリー出
口側に最も近い対を、被処理ガス入口側に最も近い部分
に吸収剤スラリーを給養散布できるよう配置したことを
特徴としている。

さらに上記排煙脱硫装置には、生成した亜硫酸カルシウ
ムを石膏化するため、その吸収剤スラリー出口側貯留部
に空気吹き込み手段を設けている。

〔作用〕

上述の本発明の請求項１の排煙脱硫装置は、複数以上の
吸収剤スラリー貯留部−吸収剤スラリー給養散布系の対
を、吸収剤スラリーの装置内での流れについて云えば、
吸収剤スラリー給養側から吸収剤出口側まで直列に配置
されており、しかも、最も吸収剤出口側の対が最もガス
入口部分に吸収剤スラリーを給養散布するように配置さ
れているので、新たに供給する吸収剤スラ’）−（ＰＨ
：１０　程度）は逐次くりかえし濡液され、気液接触を
行ない脱硫作用を行ない、吸収剤である石灰石を消費し
ＰＨを下げながらいくつかの吸収剤貯留部を経由して吸
収剤出口部貯留部（ＰＨ：４）に至ることになる。新規
供給の吸収剤スラリー量は吸収剤スラリー出口側貯留部
のＰＨを４となるよう制御する。

このようにして、石灰石が消費しつくされ、ＰＨ４とな
ったスラリーに本発明の請求項２の石膏化装置のように
空気を吹きこむことにより石膏化が行なわれる。

〔実施例〕

以下図面によシ本発明の１実施例について説明すると、
第１図（ａ）（ｂ）は本発明装置の第１の実施例の側断
面図及び平面図を示す。また第２図は本発明の第２の実
施例装置の側断面図であり、第３図は本発明における吸
収剤スラリーの給養散布領域を示す説明図、第４図は同
じく本発明における吸収剤スラリー貯留部の配置および
吸収剤スラリーの流れを示す説明図である。

まず第１図（ａ）、　（ｂ）に於て１は角型ケーシング
で上部にガス流路、下部に吸収剤貯留部Ａ、Ｂ。

Ｃ，Ｄがある。吸収剤貯留部Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄにはそれぞ
れ図示していない攪拌装置が設けられる。２は被処理ガ
ス入口、３は処理済みガス出口である。４は吸収剤貯留
部Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄを仕切る仕切壁（板）であシ、その高
さは貯留部り側はど高く、貯留部Ａ側に行く程低くなる
よう構成され、ＣＤ間）ＢＣ間）ＡＢ間という関係にあ
る。５は新規に供給する吸収剤スラリの給養パイプで、
こ＼よシ吸収剤スラリーを供給する。６は吸収剤スラリ
ー出口側に臨んで配設する石膏排出パイプである。７は
吸収剤スラリー給養散布系ＡＩ　、　Ｂ／　、　ｃ／　
、　ＤＩと吸収剤スラリー貯留部Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄとをそ
れぞれ連絡するポンプ群である。８はミスト上８レータ
−でガス出口側近くに配置され９は吸収剤スラリーの出
口側に最も近い吸収剤スラリー貯留部Ａへの９気吹込パ
イプーノズル系である。

Ａ−Ａ’　、　Ｂ−Ｂ’　、　Ｃ−Ｃ’　、　Ｄ−Ｄ’
はそれぞれポンプ７Ａ、７Ｂ、７Ｃ，７Ｄにより連絡さ
れて対となっている。

散布系Ａ’　、　Ｂ’　、’Ｃ’　、　Ｄ’は便宜上、
スプレノズル−ポンプ系にして示しであるが、別の給液
散布機構を採用してもよい。又、ガス流路において、気
液接触をよくするための構造物の設置、充填物の設置も
適宜なし得るものとする。

処理されるべきガスはガス人口２よシヶーシング１内に
導入され、横向きに流れながら散布系Ａ’　、　Ｂ’　
、　Ｃ’　、　Ｄ’　Ｋよる、層液を受は亜硫酸ガスを
除去されて、ミストセパレーターｓをａてガス出口３よ
り排出する。新規供給の吸収剤スラリーは給養パイプ５
より貯留部りに給養され、ポンプ７Ｄを介して散布系Ｄ
′により層液されガスとの気液接触を行った後貯留部り
へ落下し、一部は仕切り板４をオーバーフローして貯留
部Ｃに入る。貯留部Ｃから抽出された吸収剤スラリーは
散布系Ｃ′により濡液され、気液接触を行った後貯留部
Ｃへ落下する（ガスに飛ばされて貯留部りに落ちる分も
あるが一応考え方の上では無視する。）同様一部は仕切
υ板４をオーバーフローして、貯留部Ｂに入る。以下、
同様にして、Ｂ’　、　Ｂ、　Ａ、　Ａ’　、　Ａを経
て石膏排出バイブロから石膏となり排出される。

その経路をわかシ易くまとめると、 （１）液の流れ 但し、二重の矢印は大量に循還することを示す。そして
その間で脱硫作用が行なわれる。

６より排水された石膏スラリーは脱水工程へ送られる。

Ｄ→Ｃ−）Ｂ−＋Ａのオーバーフロー量は、スラリー給
養パイプ５で給養される。

（２）ガスの流れ ３←ゴーＣ′←Ｂ′←Ａ′←２ 次ぎに本発明の第２の実施例につき第２図及び第３図、
第４図により説明するとケーシング１の形状は被処理ガ
ス人口２よシ供給したガスが上向きに方向変換を行ない
入口より直交方向出口３に向けて流れるよう直立円筒型
に構成されている。

ケーシング１のガス流路下部に設けた区画された吸収剤
貯留部のうちＢ、Ｃは第４図示のように配置されており
吸収液は同図矢印方向に流れる。また吸収剤スラリー散
布系Ａ’　、　Ｂ’　、　Ｃ’Ｄ′のうちＢ’　、　Ｃ
’は第３図示のような給養散布領域を構成している。

その他の部分は第１図の場合と全く同様であるので詳細
な説明は省略する。

吸収剤スラリー液の流れ及びガスの流れ経路を示すと次
のとおりである。

（１）液の流れ ５→Ｄ−’Ｃ−’Ｂ−Ａ→６ （２）ガスの流れ さらに本発明装置の具体的な試設計例について以下に述
べる。

設計例１ 対象ガス 処理量 型式 装置の大きさ ガス流路部 スラリー貯留部 合計 石炭火力発電所排ガス １３０万Ｎｎ／、／　ｈ 角型　横流れ　スプレ一方式 巾　×　高さ　×　長さ（奥行） １５ｆｆ１　　１５ｍ　　　１８２７！１５ｍ　　　３
ｍ　　１８ｍ １５ｍ　　　１１３ｍ　　　１８ｍ 入　　口　　　　　　　　　８０２　　　　１１０００
ｐｐ出　　　口　　　　　　　　　Ｓ０□　　　　　　
　５０ｐｐｍ脱硫率　　　　　　　　　９５チ 石膏転換率　　　　　　　１００係 設計例２ 対象ガス　　　　石炭火力発電所排ガス処理量　　　　
１３０万Ｎｒｒ／／ｈ 型　式　　　　　　円筒竪型　上向き流れ　スプレ一方
式装置の大きさ　直径×高さ 入　　口　　　　　　　　　ＳＯ２１１０００ｐｐ出　
　口　　　　　　　　　ＳＯ２５０ｐｐｍ脱硫率　　　
　　　９０チ 石膏転換率　　　１００チ 以上本発明を１，２の実施例について説明したが、本発
明はこれに限定されるものでなく、本発明の精神を逸脱
しない範囲で種々設計変更し得るものであり、特に、本
装置の長さもしくは、高さはガス流路部に気液接触効果
を高める構造物、充填物や、給液気機構を用意すること
により、著しく、縮減可能である。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明の排煙脱硫石膏化装置によれば
次に示す効果が得られる。

（１）請求項１の排煙脱硫装置においては工場や、火力
発電所等で発生する燃焼排ガス中より排ガスＳ０□　５
０ｐｐｍ程度まで高効率脱硫が達成でき大気汚染の防止
に役立つ。

（２）吸収剤を過剰使用することがなく、吸収剤費用が
安価となる。

（３）　　吸収剤を過剰使用することがなく、ＰＨ調整
に硫酸を使用することもないので、費用が安価である。

（４）吸収剤のＰＨが高く吸収力の大きい状態で気液接
触させることになるので装置の大きさを小さくすること
ができる。又液−ガス比を下げ動力費を低減することが
できる。

（５）　　装置の大きさを大きくするに当って障害とな
る要素がなく、巾を広げたり径を太きくすることにより
容易に大容量化できる。

（６）炭種により有害微量成分を含むガスを処理したと
しても、有害分はガス入口部分で除去されるので、全体
としての脱硫率に影響することはない。

（力　排水処理量が少ないので、水処理費用が小さい。

（８）装置の構造がシングルであり、運転管理に人手を
要さず、経済性が高い。

（９）請求項２の石膏化装置においては排煙脱硫により
生成した亜硫酸カルシウムを空気を吹き込むことにより
十分石膏化を可能とすると共に安価である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明装置の第１の実施例を示しくａ）は側断
面図、（ｂ）は平面図である。第２図は本発明の第２の
実施例装置の側断面図、第３図は同装置の吸収剤スラリ
ーの給養散布領域を示す説明図、第４図は同じく吸収剤
スラリー貯留部の配置及び吸収剤スラリーの流れの説明
図である。 １・・・ケーシング、２・・・被処理ガス入口、３・・
・処理済ガス出口、４・・・仕切壁（板）、５・・・ス
ラリー給養パイプ、６・・・石膏排出パイプ、７・・・
ポンプ群、８・・・ミストセパレーター　９・・・空気
吹込パイグーノズル系、Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄ・・・吸収剤貯
留部、Ａ’ｌＢ’、Ｃ’、Ｄ’・・・吸収剤スラリー給
養散布系。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）上部空間をガス流路とし、下部に吸収剤スラリー
   貯留部を構成したケーシング内部を被処理ガスが横向き
   又は上向きに流過できるよう形成し、該ガス流路に臨ん
   で吸収剤スラリー給養散布手段を配設した排煙脱硫装置
   に於て、前記吸収剤スラリー貯留部を仕切壁により複数
   の吸収剤スラリー貯留部に区画するとともに、該スラリ
   ー貯留部と前記吸収剤スラリーの給養散布手段とを接続
   せしめて複数以上の吸収剤スラリー貯留部−吸収剤スラ
   リー給養散布系の対を構成し、これら複数以上の吸収剤
   スラリー貯留部の相互位置を吸収剤スラリーの給養側か
   ら、吸収剤スラリーの出口側に至る吸収剤スラリーの流
   れを形成するよう直列に配置し、吸収剤スラリー出口側
   に最も近い対を被処理ガス入口側に最も近い部分に吸収
   剤スラリーを給養散布できるよう配置したことを特徴と
   する排煙脱硫装置。
2. （２）請求項１の排煙脱硫装置における吸収剤スラリー
   出口側貯留部に空気を吹き込む手段を設け、これにより
   排煙脱硫により生成した亜硫酸カルシウムを石膏化する
   ことを特徴とする排煙脱硫石膏化装置。