JPH0379777B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はレーザ光によつて情報を記録再生する
ことのできる光情報記録媒体の製造方法に関すも
のである。

（従来の技術） レーザ光によつて情報を媒体に記録し、かつ再
生する光デイスクメモリは記録密度が高いことか
ら大容量記録装置として優れた特徴を有してい
る。このような光デイスクメモリの記録層として
は、ビスマス、テルル等の半金属を蒸着した記録
層（特公昭46−40479、特公昭57−45676、特公昭
59−41875、特公昭54−15483、特公昭59−35356）
や有機色素を溶剤に溶かして塗布した記録層（特
公昭60−23996）が使用されている。

（発明が解決しようとする問題点） 有機色素記録層の光情報記録媒体は半金属記録
層の光情報記録媒体よりも反射率が小さいという
問題点を有する。又、溶媒塗布により記録層を形
成するため、安価である合成樹脂基板を使用する
には基板が変形するという問題があつた。

本発明の目的は、反射率が大きくかつ合成樹脂
基板を用いた安価な光情報記録媒体の製造方法を
提供することにある。

（問題を解決するための手段） 本発明の光情報記録媒体の製造方法は基板片側
に記録層を設け該基板を通してのレーザ光の照射
によつて情報を記録しかつ読み取る光情報記録媒
体の製造方法であつて、前記基板の上に前記基板
の屈折率より大きい屈折率の第１のスペーサ層
と、前記第１のスペーサ層の屈折率より小さい屈
折率の無機物よりなる第２のスペーサ層とを設
け、その上に溶媒塗布法により記録層を形成する
ことを特徴とする。

（作用） 透明な基板上に記録層が形成されいている媒体
の基板入射の反射率は記録層と基板の光学定数
（複素屈折率）および記録層の厚さに依存する。
透明な基板としては、アクリル樹脂やポリカーボ
ネイト等の安価な合成樹脂が望ましい。これらの
合成樹脂の屈折率は可視光から近赤外光域でほぼ
1.5であり、この範囲の波長にはほとんど依存し
ない。したがつて媒体の反射率は記録層の光学定
数と厚さで決定される。記録層として有機色素膜
或いは色素を分散させた樹脂膜を用いる場合、こ
れらの膜の複素屈折率（ｎ−ik）は半導体レーザ
波長域（〜800nｍ）で高々2.7−i1.7である。この
膜を屈折率1.5の基板の上に形成した場合の波長
830nｍでの基板入射の媒体反射率は第５図に示
すように記録層の厚さに依存する。これより、最
大反射率は記録層の厚さ約75nｍのときに得ら
れ、その値は約28％であり、テルル等の半金属記
録層媒体の反射率よりも小さい。このような反射
率が小さいという問題は、第１図に示す本発明に
一つの媒体構成例により解決される。即ち、基板
１０と記録層２０の間に第１のスペーサ層３０と
第２のスペーサ層４０を設けることにより、媒体
の反射率を高めることができる。ただし、第１の
スペーサ層３０と第２のスペーサ層４０の材料及
びその厚さは下記する条件を満すように選択され
なければならない。まず、基板１０上に第１のス
ペーサ層３０のみが形成されている第２図に示す
ような構成を考える。基板１０を通して入射した
光１００は、基板１０と第１のスペーサ層３０と
の界面及び第１のスペーサ層３０と空気との界面
でその一部は反射されて反射光２００となる。反
射光２００の大きさ（反射率）は、第１のスペー
サ層３０の反射率と厚さに依存する。本発明で使
用される第１のスペーサ層３０の材料及び厚さ
は、この反射光２００を大きくするように選ばれ
る。即ち、第１のスペーサ層３０の屈折率は基板
１０の屈折率よりも大きいことが必要である。
又、その厚さはλ／8n（λは光の波長、ｎはスペ
ーサ材料の屈折率）より厚くすることが実質的効
果を得るために望ましい。次に、基板１０の上に
第１のスペーサ層３０を上記のように設け、その
上に第２のスペーサ層４０が形成されている第３
図に示すような構成を考える。基板１０を通して
入射した光１００は、基板１０と第１のスペーサ
層３０との界面、第１のスペーサ層３０と第２の
スペーサ層４０との界面、及び第２のスペーサ層
４０と空気との界面でその一部は反射されて反射
光３００となる。反射光３００の大きさ（反射
率）は、第２のスペーサ層４０の屈折率と厚さに
依存する。本発明で使用される第２のスペーサ層
４０の材料及び厚さは、この反射光３００を小さ
くするように選ばれる。即ち、第２のスペーサ層
４０の屈折率は第１のスペーサ層３０の屈折率よ
りも小さいことが必要である。又、その厚さは
λ／8n（λは光の波長、ｎはスペーサ材料の屈折
率）より厚くすることが実質的効果を得るために
望ましい。又、第２のスペーサ層の材料は溶媒に
不溶な無機物であることが必要である。

以上のべたような条件で合成樹脂基板の上に第
１のスペーサ層と第２のスペーサ層を設け、その
上に溶媒塗布法によつて有機色素記録層を形成す
ることにより、反射率が大きくかつ安価な光情報
記録媒体が得られる。

第４図はアクリル樹脂基板の上に屈折率2.0の
第１のスペーサ層を105nｍ厚で形成し、その上
に屈折率1.45の第２のスペーサ層を140nｍ厚で形
成し、その上に複素屈折率2.7−i1.7の記録層を設
けた場合の基板入射反射率の記録層厚さ依存を示
したものである。基板の上に第１のスペーサ層の
みを設けたときの波長830nｍにおける基板入射
反射率は21％であり、その上に第２のスペーサ層
を設けたときの反射率は１％である。第５図と比
較することにより、第１のスペーサ層と第２のス
ペーサ層の挿入により反射率が大きく改善されて
いることがわかる。又、第２のスペーサ層を無機
物とすることにより、記録層の有機色素を溶解す
る溶剤で合成樹脂基板を変形させるという問題が
なくなり、デイスク基板として安価な合成樹脂基
板を使用できるので安価な光情報記録媒体を作製
することができる。

本発明で使用される第１のスペーサ層として
は、基板の屈折率よりも大きな屈折率のものであ
ればよい。例えば、CeO₂、CoO、Co₃O₄、
Cr₂O₃、Dy₂O₃、GeO₂、HfO₂、In₂O₃、MgO、
MoO₃、Nb₂O₅、NiO、SiO、Sm₂O₃、SnO₂、
Ta₂O₅、TiO₂、WO₃、Y₂O₃、ZnO、ZrO₂等の各
種酸化物、Si₃N₄、ZrN等の各種窒化物、ZrC等
の各種炭化物、GeS、ZnS等の各種硫化物、コバ
ルトフタロシアニン、銅フタロシアニン、マグネ
シウムフタロシアニン、ニツケルフタロシアニ
ン、亜鉛フタロシアニン、ｔ−ブチル置換バナジ
ルフタロシアニン等の各種有機色素、二無水３，
４，９，10−ペリレンテトラカルボン酸、クリス
タルヴアイオレツトラクトン、グアニン等の各種
有機色素、各種磁性ガーネツト及びSi、Ge、Ｂ
或いはこれらの化合物が使用できる。第２のスペ
ーサ層としては、第１のスペーサ層の屈折率より
も小さな屈折率の無機物であればよい。例えば、
AlF₃、BaF₂、CaF₂、CeF₃、MgF₂等の各種フツ
化物、Al₂O₃、CeO₂、CoO、Co₃O₄、Cr₂O₃、
Dy₂O₃、Er₂O₃、Eu₂O₃、Gd₂O₃、GeO₂、HfO₂、
In₂O₃、MgO、MoO₃、Nb₂O₅、NiO、SiO、
SiO₂、Sm₂O₃、SnO₂、Ta₂O₅、WO₃、Y₂O₃、
ZnO、ZrO₂等の各種酸化物、ZrN等の各種窒化
物、ZrC等の各種炭化物、GeS、ZnS等の各種硫
化物を使用することができる。

記録層としては、種々の有機色素を使用できる
が、その中では、ベンゼンジチオール系金属錯
体、シアニン色素、メロシアニン色素、クロコニ
ツクメチン色素、ピリリウム色素、ポリメチン色
素等が望ましい。さらにその中ではベンゼンジチ
オール系ニツケル錯体か或いは芳香族環が縮合し
てもよいインドール環を両端に有するシアニン色
素が望ましい。これらの色素に、一重項酸素クエ
ンチヤーを混合してもよい。

溶媒としては１，２−ジクロルエタン、シクロ
ヘキサノン等を使用できる。

（実施例） 以下本発明の実施例について説明する。

内径15mm、外径120mm、厚さ1.2mmの案内溝付き
アクリル樹脂デイスク基板に、第１のスペーサ層
としてSnO₂を80nｍ厚蒸着し、その上に第２のス
ペーサ層としてSiO₂を100nｍ厚蒸着した。基板
の上に第１のスペーサ層のみを設けたときの波長
830nｍにおける基板入射反射率は19％であり、
その上に第２のスペーサ層を設けたときの反射率
は８％であつた。次に、１−メチル―２−［７−
（１−メチル―３，３−ジメチル−５−メトキシ
−２−インドリニリデン）−１，３，５−ヘプタ
トリエニル］−３，３−ジメチル−５−メトキシ
−インドリウムパークロレートをシクロヘキサノ
ンに溶解して回転塗布により40nｍ厚の記録層を
形成した。このときの基板入射反射率は35％であ
つた。波長830nｍのAlGaAs半導体レーザを用い
て、媒体線速度2.5ｍ／sec，記録周波数1.25MHz
（デユーテイ50％）の条件で記録し、0.4mWのレ
ーザパワーで再生したところ、エンベロープが良
好で、信号対雑音比の良好な記録再生が可能であ
つた。

前述の色素のかわりに１−メチル−２−［７−
（１−メチル−３，３−ジメチル−５−クロル−
２−インドリニリデン）−１，３，５−ヘプタト
リエニル］−３，３−ジメチル−５−クロル−イ
ンドリウムパークロレートやベンゼンジチオール
ニツケル錯体を用いても良好な記録再生が可能で
あつた。

（発明の効果） 上記実施例から明らかなように、本発明により
反射率が大きくかつ合成樹脂基板を用いた安価な
光情報記録媒体を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明するための光情報記録媒
体の概略図、第２図、第３図は本発明の光情報記
録媒体の原理を説明するための概略図、第４図は
光情報記録媒体の反射率の記録層厚さによる変化
を示す図、第５図は比較のための反射率の記録層
厚さによる変化を示す図である。 図において、１０は基板、２０は記録層、３０
は第１のスペーサ層、４０は第２のスペーサ層、
１００は入射光、２００，３００は反射光を示
す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基板の片側に記録層を設け、該基板を通して
   のレーザ光の照射によつて情報を記録しかつ読み
   取る光情報記録媒体の製造方法において、前記基
   板の上に、該基板の屈折率より大きい屈折率の第
   １のスペーサ層と、該第１のスペーサ層の屈折率
   より小さい屈折率の無機物よりなる第２のスペー
   サ層とを設け、その上に溶媒塗布法により記録層
   を形成することを特徴とする光情報記録媒体の製
   造方法。