JPS62175945A - 光情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はレーザ光によって情報を記録再生することので
きる光情報記録媒体の製造方法に関すものである。

（従来の技術） レーザ光によって情報を媒体に記録し、かつ再生する光
デイスクメモリは記録密度が高いことから大容量記録装
置として優れた特徴を有している。このような光デイス
クメモリの記録層としては、ビスマス、テルル等の半金
属を蒸着した記録層（特公昭４６−４０４７９、特公昭
５７−４５６７６、特公昭５９−４１８７５、特公昭５
４−１５４８３、特公昭５９−３５３５６）や有機色素
を溶剤に溶かして塗布した記録層（特公昭６〇−２３９
９６）が使用されている。

（発明が解決しようとする問題点） 有機色素記録層の光情報記録媒体は半金属記録層の光情
報記録媒体よりも反射率が小さいという問題点を有する
。又、溶媒塗布により記録層を形成するため、安価であ
る合成樹脂基板を使用するには基板が変形するという問
題があった。

本発明の目的は、反射率が大きくかつ合成樹脂基板を用
いた安価な光情報記録媒体の製造方法を提供することに
ある。

（問題を解決するための手段） 本発明の光情報記録媒体の製造方法は基板片側に記録層
を設は該基板を通してのレーザ光の照射によって情報を
記録しがつ読み取る光情報記録媒体の製造方法であって
、前記基板の上に前記基板の屈折率より大きい屈折率の
第１のスペーサ層と、前記第１のスペーサ層の屈折率よ
り小さい屈折率の無機物よりなる第２のスペーサ層とを
設け、その上に溶媒塗布法により記録層を形成すること
を特徴とする。

（作用） 透明な基板上に記録層が形成されいている媒体の基板入
射の反射率は記録層と基板の光学定数（複素屈折率）お
よび記録層の厚さに依存する。透明な基板としては、ア
クリル樹脂やポリカーボネイト等の安価な合成樹脂が望
ましい。これらの合成樹脂の屈折率は可視光から近赤外
光域でほぼ１．５であり、この範囲の波長にはほとんど
依存しない。したがって媒体の反射率は記録層の光学定
数と厚さで決定される。記録層として有機色素膜或いは
色素を分散させた樹脂膜を用いる場合、これらの膜の複
素屈折率（ｎ−ｉｋ）は半導体レーザ波長域（〜８００
ｎｍ）で高々２．７−　ｉｌ、７である。この膜を屈折
率１．５の基板の上に形成した場合の波長８３０ｎｍで
の基板入射の媒体反射率は第５図に示すように記録層の
厚さに依存する。これより、最大反射率は記録層の厚さ
約７５ｎｍのときに得られ、その値は約２８％であり、
テルル等の半金属記録層媒体の反射率よりも小さい。こ
のような反射率が小さいという問題は、第１図に示す本
発明の−らの媒体構成例により解決される。即ち、基板
１ｏと記録層２ｏの間に第１のスペーサ層３０と第２の
スペーサ層４ｏを設ケることにより、媒体の反射率を高
めることができる。ただし、第１のスペーサ層３ｏと第
２のスペーサ層４ｏの材料及びその厚さは下記する条件
を満すように選択されなければならない。まず、基板上
０上に第１のスペーサ層３０のみが形成されている第２
図に示すような構成を考える。基板１ｏを通して入射し
た光１００は、基板１ｏと第１のスペーサ層３ｏとの界
面及び第１のスペーサ層３ｏと空気との界面でその一部
は反射されて反射光２００となる。反射光２００の大き
さく反射率）は、第１のスペーサ層３０の反射率と厚さ
に依存する。本発明で使用さ些る第１のスペーサ層３０
の材料及び厚さは、この反射光２００を大きくするよう
に選ばれる。即ち、第１のスペーサ層３０の屈折率は基
板１０の屈折率よりも大きいことが必要である。

又、その厚さはＡ／８ｎ（λは光の波長、ｎはスペーサ
材料の屈折率）より厚くすることが実質的効果を得るた
めに望ましい。次に、基板１０の上に第１のスペーサ層
３０を上記のように設け、その上に第２のスペーサ層４
０が形成されている第３図に示すような構成を考える。

基板１０を通して入射した光１００は、基板１０と第１
のスペーサ層３０との界面、第１のスペーサ層３０と第
２のスペーサ層４０との界面、及び第２のスペーサ層４
０と空気との界面でその一部は反射されて反射光３００
となる。反射光３００の大きさく反射率）は、第２のス
ペーサ層４０の屈折率と厚さに依存する。本発明で使用
される第２のスペーサ層４０の材料及び厚さは、この反
射光３００を小さくするように選ばれる。即ち、第２の
スペーサ層４０の屈折率は第１のスペーサ層３０の屈折
率よりも小さいことが必要である。又、その厚さはＡ／
８ｎ（λは光の波長、ｎはスペーサ材料の屈折率）より
厚くすることが実質的効果を得るために望ましい。又、
第２のスペーサ層の材料は溶媒に不溶な無機物であるこ
とが必要である。

以上のべたような条件で合成樹脂基板の上に第１のスペ
ーサ層と第２のスペーサ層を設け、その上に溶媒塗布法
によって有機色素記録層を形成することにより、反射率
が大きくかつ安価な光情報記録媒体が得られる。

第４図はアクリル樹脂基板の上に屈折率２．０の第１の
スペーサ層を１１０５ｎ厚で形成し、その上に屈折率１
．４５の第２のスペーサ層を１４０ｎｍ厚で形成し、そ
の上に複素屈折率２．７−ｉｌ、７の記録層を設けた場
合の基板入射反射率の記録層厚さ依存を示したものであ
る。基板の上に第１のスペーサ層のみを設けたときの波
長８３０ｎｍにおける基板入射反射率は２１％であり、
その上に第２のスペーサ層を設けたときの反射率は１％
である。第５図と比較することにより、第１のスペーサ
層と第２のスペーサ層の挿入により反射率が大きく改善
されていることがわかる。又、第２のスペーサ層を無機
物とすることにより、記録層の有機色素を溶解する溶剤
で合成樹脂基板を変形させるという問題がなくなり、デ
ィスク基板として安価な合成樹脂基板を使用できるので
安価な光情報記録媒体を作製することができる。

本発明で使用される第１のスペーサ層としては、基板の
屈折率よりも大きな屈折率のものであればよい。例えば
、ＣｅＯ２，ＣｏＯ，Ｃｏ３Ｏ４，Ｃｒ２Ｏ３，Ｄｙ２
Ｏ３゜ＧｅＯ２，ＨｆＯ２，Ｉｎ２Ｏ３，ＭｇＯ，Ｍｏ
Ｏ３，Ｎｂ２Ｏ５，ＮｉＯ，ＳｉＯ。

Ｓｍ２Ｏ３，５ｎ０２．Ｔａ２０５．ＴｉＯ２，ＷＯ３
，Ｙ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＺｒＯ２等の各種酸化物、Ｓｉ３
Ｎ４．ＺｒＮ等の各種窒化物、ＺｒＣ等の各種炭化物、
ＧｅＳ、ＺｎＳ等の各種硫化物、コバルトフタロシアニ
ン、銅フタロシアニン、マグネシウムフタロシアニン、
ニッケルフタロシアニン、亜鉛フタロシアニン、ｔ−ブ
チル置換バナジルフタロシアニン等の各種有機色素、二
無水３，４，９．１０−ペリレンテトラカルボン酸、ク
リスタルヴアイオレットラクトン、グアニン等の各種有
機色素、各種磁性ガーネット及びＳｉ、Ｇｅ、Ｂ或いは
これらの化合物が使用できる。第２のスペーサ層として
は、第１のスペーサ層の屈折率よりも小さな屈折率の無
機物であればよい。例えば、ＡｌＦ３．ＢａＦ２．Ｃａ
Ｆ２．ＣｅＦ３．ＭｇＦ２等の各種フッ化物、Ａｌ２Ｏ
３，ＣｅＯ２，Ｃｏｏ　、Ｃｏ３Ｏ４，Ｃｒ２Ｏ３，Ｄ
ｙ２Ｏ３゜Ｅｒ２Ｏ３，Ｅｕ２Ｏ３，Ｇｄ２Ｏ３、Ｇｅ
Ｏ２，ＨｆＯ２，Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＭｏＯ３。

Ｎｂ２Ｏ５，ＮｉＯ，ＳｉＯ，ＳｉＯ２，Ｓｍ２Ｏ３，
ＳｎＯ２，Ｔａ２０５．ＷＯ３゜Ｙ２Ｏ３，ＺｎＯ，Ｚ
ｒＯ２等の各種酸化物、ＺｒＮ等の各種窒化物、ＺｒＣ
等の各種炭化物、ＧｅＳ、ＺｎＳ等の各種硫化物を使用
することができる。

記録層としては、種々の有機色素を使用できるが、その
中では、ベンゼンジチオール系金属錯体、シアニン色素
、メロシアニン色素、クロコニックメチン色素、ピリリ
ウム色素、ポリメチン色素等が望ましい。さらにその中
ではベンゼンジチオール系ニッケル錯体か或いは芳香族
環が縮合してもよいインドール環を両端に有するシアニ
ン色素が望ましい。これらの色素に、−重項酸素クエン
チャーを混合してもよい。

溶媒としては１，２−ジクロルエタン、シクロヘキサノ
ン等を使用できる。

（実施例） 以下本発明の実施例について説明する。

内径１５ｍｍ、外径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの案内
溝付きアクリル樹脂ディスク基板に、第１のスペーサ層
として５ｎ０２を８０ｎｍ厚蒸着し、その上に第２のス
ペーサ層として５ｉ０２を１１００ｎ厚蒸着した。基板
の上に第１のスペーサ層のみを設けたときの波長８３０
ｎｍにおける基板入射反射率は１９％であり、その上に
第２のスペーサ層を設けたときの反射率は８％であった
。次に、１−メチル−２−（７−（１−メチル−３゜３
−ジメチル−５−メトキシ−２−インドリニリデン）−
１，３，５−へブタトリエニル］−３，３−ジメチル−
５−メトキシ−インドリウムバークロレートをシクロヘ
キサノンに溶解して回転塗布により４０ｎｍ厚の記録層
を形成した。このときの基板入射反射率は３５％であっ
た。波長８３０ｎｍのＡｌＧａＡｓ半導体レーザを用い
て、媒体線速度２．５ｍ／ｓｅｅ、記録周波数１．２５
ＭＨｚ（デユーティ５０％）の条件で記録し、０．４ｍ
Ｗのレーザパワーで再生したところ、エンベロープが良
好で、信号対雑音比の良好な記録再生が可能であった。

前述の色素のかわりに１−メチル−２−［７−（１−メ
チル−３，３−ジメチル−５−クロル−２−インドリニ
’）　ｆ’　ン）−１，３，５−へブタトリエニルｌ−
３，３−ジメチル−５−クロル−インドリウムバークロ
レートやベンゼンジチオールニッケル錯体を用いても良
好な記録再生が可能であった。

（発明の効果） 上記実施例から明らかなように、本発明により反射率が
大きくかつ合成樹脂基板を用いた安価な光情報記録媒体
を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を説明するための光情報記録媒体の概略
図、第２図、第３図は本発明の光情報記録媒体の原理を
説明するための概略図、第４図は光情報記録媒体の反射
率の記録層厚さによる変化を示す図、第５図は比較のた
めの反射率の記録層厚さによる変化を示す図である。 図において、１０は基板、２０は記録層、３ｏは第１の
スペーサ層、４０は第２のスペーサ層、１００は入射光
、２００，３００は反射光を示す。 ２θθ 反組や（％） ｇＧ録漕Ｎさ　（ｎｍ） 亭　　５　　　図 月と旬十偶名（％）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　基板の片側に記録層を設け、該基板を通してのレーザ
   光の照射によって情報を記録しかつ読み取る光情報記録
   媒体の製造方法において、前記基板の上に、該基板の屈
   折率より大きい屈折率の第１のスペーサ層と、該第１の
   スペーサ層の屈折率より小さい屈折率の無機物よりなる
   第２のスペーサ層とを設け、その上に溶媒塗布法により
   記録層を形成することを特徴とする光情報記録媒体の製
   造方法。