JPH0376214A - 試料等の汚染防止装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、荷電粒子線装置等における試料や被処理材料
の汚染防止装置に関する。

［従来技術］ シリコン等の半導体ウェハを基材として電子線照射によ
って微細な回路パターンを多数形成する半導体製造装置
においては、ゴミが試料（被処理材料）としてのウェハ
上の回路パターンに付着すると断線、ショート等の原因
となるため、半導体製品の歩留まりに大きな影響を与え
ている。このため半導体製造はクリーンルー・ム内で行
われ、クリーンルーム内ではゴミを取り除いた空気を常
時上から下へ流し、ゴミを床下へ送るようにして、ゴミ
が上に舞い上がらないようにしている。

第２図は従来使用している試料等の汚染防止装置の一例
を示し、図中１は図示しない荷電粒子線装置等の試料室
と試料交換室２の間に設けられたエアーロック弁、３は
試料交換室２内に設けられた搬送機構で、ウェハ４は搬
送機構３上に載置され図示しない試料室に移送される。

試料交換室２は排気口５と気体導入口６が開けられてい
る。排気口５は真空弁７を介し真空ポンプ８に接続され
ており、気体導入口６はリーク弁９を介しフィルタ１０
、減圧弁１１、高圧気体源１２に接続されている。

このような構成の装置において、ウェハ４の挿入を行う
には、まず試料交換室２を大気圧とし、試料室２の大気
側扉（図示せず）を開いて、ウェハ４を搬送機構３上に
載置する。次に排気口５に接続された真空弁７を開は真
空ポンプ８により吸引排気し試料交換室２内を高真空に
する。つぎにエアーロック弁１を開いて、搬送機構３を
操作して、既に高真空に排気しである図示しない試料室
に移送しエアーロック弁１を閉める。この状態で図示し
ない試料室内において電子線による、描画、計測を行う
。作業完了後、搬送機構３により試料交換室２に戻す。

試料交換室２には、気体導入口６が設けられており、真
空弁７を閉じ真空ポンプ８による排気を遮断した後、リ
ーク弁９を開き高圧気体源１２から減圧弁１１により適
性圧力に設定された気体を、フィルタ１０を通してゴミ
を取り除き、気体導入口６から導き試料交換室２を大気
圧にする。ところが交換室内２での搬送機構３等の機械
的な動き等によりゴミが発生し、試料交換室２の下部に
溜っていたゴミが、導入された気体により舞い上げられ
、試料交換室２内にｓｌ［されている搬送機構３上のウ
ェハ４上に描画されている回路パターンに付着する。そ
こで気体導入時に調圧弁を取り付けてゆっくりと気体を
導入することも考えられるが、試料交換室２が大気圧に
なるまで多くの時間を必要とする。

［発明が解決しようとする課題］ 第２図に示す従来装置においては、気体導入時にゴミが
舞い上がり、ウェハ上の回路パターンに付着するため、
従来例で述べたように断線、ショート等の原因となり、
半導体製品の歩留まりに大きな影響を与えている。

本発明は、このような問題を解決して、歩留まりを良く
し精度の高い半導体製品を製造することを目的とするも
のである。

［課題を解決するための手段］ このような目的を達成するため、本発明の試料等の汚染
防止装置は、荷電粒子線装置等の試料室にエアーロック
弁を介して連通した試料交換室に、フィルタを介して高
圧気体源に接続された気体導入口と、真空ポンプ等と連
通する排気口と、搬送機構が取付けられた装置において
、前記搬送機構の上部にファンと、ファンを駆動させる
手段と、前記ファンの上部に前記気体導入口を設けたこ
とにより、気体をファンを通して搬送機構上の試料に吹
き付けるようにしたことを特徴としている。

［作用］ 気体導入口から試料交換室に導入された気体をファンに
より撹拌しなからウェハ上に吹き付けるようにしたため
、これにより試料交換室の下部に溜まっているゴミを舞
い上げることがなくなった。

［実施例］ 以下本発明の実施例を添附図面に基づいて詳述する。第
１図は、本発明の一実施例装置の要部を示す断面図であ
る。尚、第１図中で第２図で用いた数字と同じ数字の付
されたものは同じ構成要素を示している。

第１図の装置が第２図の装置と異なっているところは、
搬送機構３と対向した位置に気体導入口６を設け、搬送
機構３と気体導入口６との間にモーター等の駆動手段１
４によって回転するファン１３を設け、導入した気体を
ファン１３を通して搬送機構３上のウェハ４の表面に吹
き付けるようにしたことである。

第１図の装置において１、図示しない試料室内にウェハ
４に対する描画作業が完了すると、搬送機構３によりウ
ェハ４を試料交換室２に戻す。次に真空弁７を閉じ真空
ポンプ８による排気を遮断した後、リーク弁９を開き高
圧気体源１２から減圧弁１１により適性圧力に設定し、
フィルタ１ｏを通してゴミを取り除いた気体を、気体導
入口６から試料交換室２に導入する。この導入した気体
を駆動手段１４によって回転しているファン１３により
撹拌しなからウェハ４上で均一に拡散させる。

その結果比較的高速で気体を導入しても試料交換室の下
部に溜まっているゴミを舞い上げることが抑止され、ウ
ェハ４表面は清浄に保たれる。

［発明の効果］ 以上詳述したように、本発明による試料等の汚染防止装
置を用いることにより、比較的短時間に気体を導入して
も試料交換室下部に溜まっているゴミが舞い上がって、
ウェハ上の回路パターンに付着することが抑制され、半
導体製品の歩留まりが非常に良くなった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の実施例装置を示す断面図、第２図は
従来装置の要部を示す断面図である。 １：エアーロック弁　　　２：試料交換室３：搬送機構
　　　　　　４：ウエハ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 荷電粒子線装置等の試料室にエアーロック弁を介して連
   通した試料交換室に、フィルタを介して高圧気体源に接
   続された気体導入口と、真空ポンプ等と連通する排気口
   と、試料の搬送機構が取付けられた装置において、前記
   搬送機構の上部にファンと、ファンを駆動させる手段と
   、前記ファンの上部に前記気体導入口を設けたことによ
   り、気体をファンを通して搬送機構上の試料に吹き付け
   るようにしたことを特徴とする試料等の汚染防止装置。