JPH0375378A - 無電解メッキ槽のメッキ液循環装置 - Google Patents
無電解メッキ槽のメッキ液循環装置Info
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- JPH0375378A JPH0375378A JP5393690A JP5393690A JPH0375378A JP H0375378 A JPH0375378 A JP H0375378A JP 5393690 A JP5393690 A JP 5393690A JP 5393690 A JP5393690 A JP 5393690A JP H0375378 A JPH0375378 A JP H0375378A
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- heat exchange
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、プリント基板のスルーホールに無電解メッキ
を施すに当り、メッキ槽のメッキ液を循環する装置に関
する。
を施すに当り、メッキ槽のメッキ液を循環する装置に関
する。
(従来の技術)
両面配線のプリント基板は、基板に穿つ孔の内面にメッ
キ層を付着させスルーホールを形成することにより、基
板の両面を導通する。
キ層を付着させスルーホールを形成することにより、基
板の両面を導通する。
スルーホールを形成する場合、伝統的な電気メッキ法に
おいては、孔の内面にあらかじめ無電解メッキにより薄
い導電層を施したのち、その上に電気メッキによりメッ
キ層を付着する。これに比較し無電解メッキ法では、無
電解メッキのみにより孔の内面に所定のメッキ層を仕上
げるので、メッキ層を均質に形成でき工程も短縮できる
利点がある。
おいては、孔の内面にあらかじめ無電解メッキにより薄
い導電層を施したのち、その上に電気メッキによりメッ
キ層を付着する。これに比較し無電解メッキ法では、無
電解メッキのみにより孔の内面に所定のメッキ層を仕上
げるので、メッキ層を均質に形成でき工程も短縮できる
利点がある。
(発明が解決しようとする課題)
無電解メッキの場合、メッキ層の厚さはメッキ液の温度
や濃度によって著しく相違するので、メッキ作業中、メ
ッキ液の温度や濃度を一定に保つ必要がある。
や濃度によって著しく相違するので、メッキ作業中、メ
ッキ液の温度や濃度を一定に保つ必要がある。
ところがメッキ液はメッキ作業中、次第に消耗し温度や
濃度が低下するから、従来では、伝統的な電気メッキ法
に比較してスルーホールのメッキ層を均一の厚さに付着
させることが困難であった。
濃度が低下するから、従来では、伝統的な電気メッキ法
に比較してスルーホールのメッキ層を均一の厚さに付着
させることが困難であった。
本発明はこれを改良するもので、無電解メッキ槽中のメ
ッキ液の温度および濃度を一定に保ち、スルーホールの
メッキ層を均一の厚さに形成することを目的とする。
ッキ液の温度および濃度を一定に保ち、スルーホールの
メッキ層を均一の厚さに形成することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、無電解メッキのメッキ槽に、熱交排出口と主
循環排出口を開口し、熱交排出口には熱交ラインをまた
主循環排出口には主循環ラインをそれぞれ接続する。
循環排出口を開口し、熱交排出口には熱交ラインをまた
主循環排出口には主循環ラインをそれぞれ接続する。
ここで熱交ラインには熱文系ポンプ及び熱交換器を備え
、主循環ラインには主循環ポンプ、フィルタ及び液補給
用のミキシングチャンバを備える。
、主循環ラインには主循環ポンプ、フィルタ及び液補給
用のミキシングチャンバを備える。
そしてこれら熱交ライン及び主循環ラインの出口側をメ
ッキ槽に接続する。
ッキ槽に接続する。
(作用)
メッキ槽のメッキ液は、熱交排出口及び主循環排出口よ
り出て、各ラインを経由したのちメッキ槽へ戻る。
り出て、各ラインを経由したのちメッキ槽へ戻る。
そしてこのように循環する過程でメッキ液は、熱交ライ
ンにおいて加熱され、また主循環ラインで液補給される
から、メッキ槽の温度及び濃度は低下せず一定に保たれ
、メッキ槽中のプリント基板にメッキ層の厚さが均一な
スルーホールが形成される。
ンにおいて加熱され、また主循環ラインで液補給される
から、メッキ槽の温度及び濃度は低下せず一定に保たれ
、メッキ槽中のプリント基板にメッキ層の厚さが均一な
スルーホールが形成される。
(実施例)
本発明の実施例を図面に示して説明すると、lは平面が
長方形の無電解銅メッキ槽で、その開放した上面より槽
内に基板収納かご2を吊り下げ。
長方形の無電解銅メッキ槽で、その開放した上面より槽
内に基板収納かご2を吊り下げ。
かご内の基板3をメッキ槽lの短辺方向に平行に多数設
置する。基板3にはあらかじめ触媒微粒子を接着塗布し
、その上面にレジストを配線パターンに従い印刷する。
置する。基板3にはあらかじめ触媒微粒子を接着塗布し
、その上面にレジストを配線パターンに従い印刷する。
そしてメッキ槽lの一方の長辺を構成する背面板4に向
けその底板5を緩く傾斜させ、背面板4に近い底板5の
最深部に主循環排出口6を複数個開口すると共に、背面
板4には主循環排出口6の上方にのぞむ位置に、主循環
排出口6と同数の熱交排出口7を開口する。
けその底板5を緩く傾斜させ、背面板4に近い底板5の
最深部に主循環排出口6を複数個開口すると共に、背面
板4には主循環排出口6の上方にのぞむ位置に、主循環
排出口6と同数の熱交排出口7を開口する。
次にこれら複数個の各主循環排出口6を合流して1台の
主循環ポンプ8の吸引側に配管し、その吐出側をフィル
タ9を経てミキシングチャンバ10の入口に配管する。
主循環ポンプ8の吸引側に配管し、その吐出側をフィル
タ9を経てミキシングチャンバ10の入口に配管する。
11は自動液補給器で、その排出管11aをミキシング
チャンバ10に連結し、ミキシングチャンバ10の出口
は合流管12を経て供給管13に配管する。なお、フィ
ルタ9はミキシングチャンバ10の出口側に配管しても
よい。
チャンバ10に連結し、ミキシングチャンバ10の出口
は合流管12を経て供給管13に配管する。なお、フィ
ルタ9はミキシングチャンバ10の出口側に配管しても
よい。
14は、メッキ槽1の他方の長辺を構成する正面板15
に対し平行に槽内に設置する多孔板で、この多孔板14
と正面板15の間に供給管13の開口端を取付ける。
に対し平行に槽内に設置する多孔板で、この多孔板14
と正面板15の間に供給管13の開口端を取付ける。
また複数個の熱交排出口7を合流して1台の熱文系ポン
プ16の吸引側に配管し、その吐出側を公知の熱交換器
17より上述の合流管12を経て供給管13に配管する
。熱交換器17はその流入側から流出側に至る多数本の
プラスチックチューブ17aを外筒17bに内装する構
造で、外筒17bに水蒸気または温水を注入することに
よりチューブ17a内の流体を加熱したり、あるいは冷
水を注入してチューブ17aの流体を冷却する。
プ16の吸引側に配管し、その吐出側を公知の熱交換器
17より上述の合流管12を経て供給管13に配管する
。熱交換器17はその流入側から流出側に至る多数本の
プラスチックチューブ17aを外筒17bに内装する構
造で、外筒17bに水蒸気または温水を注入することに
よりチューブ17a内の流体を加熱したり、あるいは冷
水を注入してチューブ17aの流体を冷却する。
ここで主循環排出口6よりポンプ8、フィルタ9、ミキ
シングチャンバ10および合流管12を経て供給管13
に至る経路が主循環ラインAであり、熱交排出口7より
ポンプ16.熱交換器17および合流管12を経て供給
管13に至る経路が熱交ラインBである。
シングチャンバ10および合流管12を経て供給管13
に至る経路が主循環ラインAであり、熱交排出口7より
ポンプ16.熱交換器17および合流管12を経て供給
管13に至る経路が熱交ラインBである。
18はメッキ槽1の底部にその短辺方向に沿い多数本等
間隔に並設する散気管で、図示しないエアポンプに接続
し、管壁に穿つ多数の小孔より無数の気泡を槽内に平均
に供給し、後述する無電解銅メッキ液の過剰な液分解を
抑制する。
間隔に並設する散気管で、図示しないエアポンプに接続
し、管壁に穿つ多数の小孔より無数の気泡を槽内に平均
に供給し、後述する無電解銅メッキ液の過剰な液分解を
抑制する。
19はメッキ槽lにメッキ液を新規注入する注入管で、
図示しない液タンクに接続する。
図示しない液タンクに接続する。
しかして注入管19よりメッキ槽lに、低温で不活性状
態の無電解鋼メッキ液を規定量注入する。無電解メッキ
液は、硫酸鋼と力性ソーダの混合液を主体にこれにホル
マリン、エチレンジアミンテトラアシドおよび添加液を
純水で溶かした溶液を混合したもので、所定温度を越え
る高温で活性化して液分解し、それ以下の低温で不活性
状態を保つ、なお、ニッケルメッキの場合には無電解銅
メッキ液の代りに無電解ニッケルメッキ液を使用する。
態の無電解鋼メッキ液を規定量注入する。無電解メッキ
液は、硫酸鋼と力性ソーダの混合液を主体にこれにホル
マリン、エチレンジアミンテトラアシドおよび添加液を
純水で溶かした溶液を混合したもので、所定温度を越え
る高温で活性化して液分解し、それ以下の低温で不活性
状態を保つ、なお、ニッケルメッキの場合には無電解銅
メッキ液の代りに無電解ニッケルメッキ液を使用する。
液注入後、ポンプ8および16を駆動し、槽内のメッキ
液を主循環排出口6および熱交排出口7より排出し、主
循環ラインAおよび熱交ラインBを経て供給管13より
ふたたびメッキ槽1へ戻す。
液を主循環排出口6および熱交排出口7より排出し、主
循環ラインAおよび熱交ラインBを経て供給管13より
ふたたびメッキ槽1へ戻す。
供給管13の液は、多孔板14によりその流速を緩和し
つつ多孔板14の全面より分散し、各基板3の表裏をそ
の板面に平行に均一の流速で流れて槽内を横断し、供給
管13と反対側の排出口6.7より排出し、これを繰り
返す。
つつ多孔板14の全面より分散し、各基板3の表裏をそ
の板面に平行に均一の流速で流れて槽内を横断し、供給
管13と反対側の排出口6.7より排出し、これを繰り
返す。
しかして熱交ラインBを流れるメッキ液は熱交換器17
の水蒸気または温水により加熱され、槽内のメー、キ液
が所定温度を越えると触媒作用により液分解を起し、基
板3のパラジウム露出部分に金属銅が析出して、これに
よりスルーホールや配線パターンを形成する。この状態
のメッキ液を活性状態といい、メッキ作業中は熱交換器
17により温度を高温に維持し活性状態を保つ。
の水蒸気または温水により加熱され、槽内のメー、キ液
が所定温度を越えると触媒作用により液分解を起し、基
板3のパラジウム露出部分に金属銅が析出して、これに
よりスルーホールや配線パターンを形成する。この状態
のメッキ液を活性状態といい、メッキ作業中は熱交換器
17により温度を高温に維持し活性状態を保つ。
一方、基板3から剥離した触媒を核に銅が析出しメッキ
槽1の底部に沈澱することがあるが、このような沈澱物
は、メッキ槽1の底面に開口する主循環排出口6より主
循環ラインAを経てフィルタ9に吸着し除去される。
槽1の底部に沈澱することがあるが、このような沈澱物
は、メッキ槽1の底面に開口する主循環排出口6より主
循環ラインAを経てフィルタ9に吸着し除去される。
メッキ層が所定の厚さ(たとえば30ミクロン)まで仕
上がるには長時間を要するが、その間にメッキ槽lより
飛散蒸発したりメッキにより消耗したメッキ液を、自動
液補給器11より定量づつミキシングチャンバ10を経
て主循環ラインAによりメッキ槽lに補給する。
上がるには長時間を要するが、その間にメッキ槽lより
飛散蒸発したりメッキにより消耗したメッキ液を、自動
液補給器11より定量づつミキシングチャンバ10を経
て主循環ラインAによりメッキ槽lに補給する。
主循環ラインAを流れるメッキ液は、合流管12におい
て加熱ラインBからの高温のメッキ液と混合し、続いて
共通の供給管13より多孔板14を経て槽内に分散する
際、多孔板4に当ってさらに両者一体的に混合する。
て加熱ラインBからの高温のメッキ液と混合し、続いて
共通の供給管13より多孔板14を経て槽内に分散する
際、多孔板4に当ってさらに両者一体的に混合する。
従って多孔板4を通過するメッキ液の温度と濃度は均一
で、しかもこの実施例においてメッキ液は基板3に平行
に流れ、対流や渦を生じて停滞することがなく槽内全体
を均一の流速で流れる。このため基板3の板面全体にお
けるメッキ液の濃度と温度は平均に分布するので、供給
管13に近いスルーホールも遠いスルーホールもメッキ
層の厚さが均一になる。
で、しかもこの実施例においてメッキ液は基板3に平行
に流れ、対流や渦を生じて停滞することがなく槽内全体
を均一の流速で流れる。このため基板3の板面全体にお
けるメッキ液の濃度と温度は平均に分布するので、供給
管13に近いスルーホールも遠いスルーホールもメッキ
層の厚さが均一になる。
メッキが終了したら基板収納かご2を引き上げ、洗浄工
程に移動する。移動後も引き続きポンプ8.16を駆動
しながら熱交換器17に冷却水を注入してメッキ液の温
度を降下し、不活性状態に戻したのち槽内のメッキ液を
液タンクに排出し、かわりに洗浄液を入れメッキ槽1を
清掃する。
程に移動する。移動後も引き続きポンプ8.16を駆動
しながら熱交換器17に冷却水を注入してメッキ液の温
度を降下し、不活性状態に戻したのち槽内のメッキ液を
液タンクに排出し、かわりに洗浄液を入れメッキ槽1を
清掃する。
(発明の効果)
これを要するに、本発明では、メッキ槽のメッキ液を加
熱用の熱交ラインと液補給用の主循環ラインに分けて流
し、メッキ液の温度と濃度を別個に補充する。
熱用の熱交ラインと液補給用の主循環ラインに分けて流
し、メッキ液の温度と濃度を別個に補充する。
このため熱交ラインを流れるメッキ液は温度が高いが濃
度は低い、逆に主循環ラインを流れるメッキ液は濃度が
高いが温度は低い。
度は低い、逆に主循環ラインを流れるメッキ液は濃度が
高いが温度は低い。
一般に無電解メッキのメッキ液は温度と濃度が共に一定
値を越えると、活性状態になり金属が析出するが、いづ
れか一方が低い場合には不活性である。
値を越えると、活性状態になり金属が析出するが、いづ
れか一方が低い場合には不活性である。
従って本発明の場合、熱交ラインと主循環ラインにおい
てメッキ液は不活性もしくはそれに近い状態にあり、こ
のためラインの配管やポンプに金属が析出せず安全にメ
ッキ液が循環でき、さらにはメッキ槽の温度と濃度を適
確に維持してメッキ槽中のプリント基板に均一の厚さの
スルーホールメッキを施すことができるという効果を奏
する。
てメッキ液は不活性もしくはそれに近い状態にあり、こ
のためラインの配管やポンプに金属が析出せず安全にメ
ッキ液が循環でき、さらにはメッキ槽の温度と濃度を適
確に維持してメッキ槽中のプリント基板に均一の厚さの
スルーホールメッキを施すことができるという効果を奏
する。
第1図は本発明を実施したプリント基板のスルーホール
メッキ装置全体の流れ線図、第2図はそのメッキ槽の平
面図、第3図は第2図の横断面図である。 lはメッキ槽、3はプリント基板、 Aは主循環ライン、Bは熱交ティン、 6は主循環排出口、7は熱交排出口、 8は主循環ポンプ、13は供給管、 14は多孔板、16は熱文系ポンプ。
メッキ装置全体の流れ線図、第2図はそのメッキ槽の平
面図、第3図は第2図の横断面図である。 lはメッキ槽、3はプリント基板、 Aは主循環ライン、Bは熱交ティン、 6は主循環排出口、7は熱交排出口、 8は主循環ポンプ、13は供給管、 14は多孔板、16は熱文系ポンプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 無電解メッキのメッキ槽に、熱交ラインに接続する熱
交排出口と、主循環ラインに接続する主循環排出口を設
け、 熱交ラインには熱交系ポンプ及び熱交換器を備え、 また主循環ラインには主循環ポンプ、フィルタ及びミキ
シングチャンバを備え、ミキシングチャンバには液補給
器を連結し、 しかして熱交ライン及び主循環ラインの出口側を前記メ
ッキ槽に接続して成る無電解メッキ槽のメッキ液循環装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5393690A JPH0375378A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 無電解メッキ槽のメッキ液循環装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5393690A JPH0375378A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 無電解メッキ槽のメッキ液循環装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3792983A Division JPS59161895A (ja) | 1983-03-07 | 1983-03-07 | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0375378A true JPH0375378A (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=12956628
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5393690A Pending JPH0375378A (ja) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 無電解メッキ槽のメッキ液循環装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0375378A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06280033A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-10-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 無電解メッキ法 |
JP2015113523A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59161895A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-12 | 株式会社 プランテツクス | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
-
1990
- 1990-03-06 JP JP5393690A patent/JPH0375378A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59161895A (ja) * | 1983-03-07 | 1984-09-12 | 株式会社 プランテツクス | プリント基板のスルーホールメッキ装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06280033A (ja) * | 1992-12-24 | 1994-10-04 | Matsushita Electric Works Ltd | 無電解メッキ法 |
JP2015113523A (ja) * | 2013-12-16 | 2015-06-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
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