JPH037272A - 光学活性なテトラヒドロ―2―フロイックアシドの製造法 - Google Patents
光学活性なテトラヒドロ―2―フロイックアシドの製造法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
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- C07D307/24—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
シドの工業的製法に関し、さらに詳しくは、(±)−テ
トラヒドロ−2−フロイックアシドに一定の光学活性な
アミン分割剤を反応させ、光学活性なジアステレオマー
塩を生成せしめ、次いでこれを分解して光学活性なテト
ラヒドロ−2−フロイックアシドを製造する方法である
。
分野でその必要性が増しつつある。従来は光学活性化合
物を得ることが価格的に又操作的に不利なため、DL化
合物の使用を主としてきた。
か、またはサリドマイドにみられるように重篤な副作用
を示す場合があり、光学活性医薬品の製造は現在重要な
課題となりつつある。
2−フロインクアンドは、例えばピー・シー・ペランジ
ャー (P、C,Belanger)等の報告(Can
、J、Chem、、61 、1383 、 (1983
) )あるいは、特開昭61−207387に見られる
ように医薬品原料としての利用が期待される。
剤としてブルシン2水和物を用いた方法が知られている
が、この方法では分割剤のブルシン2水和物が極めて高
価でその毒性も高く、分割剤自身の回収率が低いこと等
、実用的な製法とは言いがたく改良の余地を残していた
。
々分割剤、使用溶剤、反応条件、分割剤の回収方法等の
検討を行い、反応溶剤として塩化メチレン、クロロホル
ム、モノクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類
、トルエン等の芳香族炭化水素類、テトラヒドロフラン
、ジオキサン等のエーテル類、アセトニトリル類のニト
リル類、またはアセトン等のケトン類等を使用し、(±
)−テトラヒドロ−2−フロイックアシドに後記の一般
式(1)で示される光学活性なアミン分割剤を反応させ
て、光学活性なジアステレオマー塩を生成せしめ、次い
でこれを分解することにより目的とした光学活性なテト
ラヒドロ−2−フロイックアシドを収率良く得ることに
成功し、また分割剤も高収率でかつ純度良く回収される
ことを見出した。この方法の採用により、反応濃度も高
めることができ大量合成が可能となり、所期の目的を達
成し本発明に至った。
に次の一般式 (式中、R1は低級アルキル基、几2 はアルキル基も
しくはアリール基を表わす。たゾし凡、とR2は互に同
一ではないものとする。)で示される光学活性なアミン
分割剤を反応させて、光学活性なジアステレオマー塩を
生成せしめ、次いでこれを分解することを特徴とする光
学活性なテトラヒドロ−2−フロイックアシドの製法で
ある。
イックアシドと一般式(I)で示される光学活性なアミ
ン分割剤を、溶剤中混合しジアステレオマー塩を生成さ
せる。(±)−テトラヒドロ−2−フロイックアシドと
光学活性なアミン分割剤の割合は2対1〜1対1.5で
あるが好ましくは1対1である。
表わされる低級アルキル基は01 〜C3のアルキル基
が好ましく、R2で表わされるアルキル基は06 以
上のアルキル基が好ましく、それはシクロヘキシルのよ
うなシクロアルキル基でもよい。
ニル基、ナフチル基が挙げられる。シクロアルキル基、
フェニル基、ナフチル基などの環状基は、所望によりそ
の環上にアルキル基等のような置換基を有していてもよ
い。
シルアミン、1−フェニルエチルアミン、1−(1−ナ
フチル)エチルアミン、1−パラトルイルエチルアミン
などが挙げられる。たゾしこれらの例示は本発明に用い
る光学活性アミンを限定するものではない。
類、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセト
ン等のケトン類、アセトニトリル等のニトリル類、好ま
しくは、塩化メチレン、クロロホルム、モノクロロベン
ゼンのよウナハロゲン化炭化水素類またはトルエン、ベ
ンゼン等の芳香族炭化水素類を挙げることができる。こ
れらの溶媒は、所望により、単独でまたは2種以上混合
して用いられる。反応温度は室温から使用される溶剤の
沸点の範囲で任意であるが、好ましくは50°C〜70
°Cに加温し、反応物を一旦均一の溶液とした後ジアス
テレオマー塩が析出する温度まで徐冷することが好まし
い。
オマー塩生成のときに使用したものと同一の溶剤を用い
て再結晶操作を行うことにより、目的とした高純度のジ
アステレオマー塩を得ルコとができる。
トリウム、水酸化カリウム等のようなアルカリ水溶液を
加えpH11〜pH14とし、有機層を分離する。水層
はさらに有機溶剤にて洗浄し不純物を除いた後、希塩酸
、希硫酸等のような鉱酸を加えてpH1〜pH2の酸性
液とし、これをさらに有機溶剤にて抽出することにより
、目的とした光学活性なテトラヒドロ−2−フロイック
アシドを得ることができる。得られた粗生成物は十分な
純度を保持しており、殆どの場合精製すること無く次の
反応に使用できるが、必要に応じさらに蒸留等の操作に
より精製することが可能である。
特に限定されないが、ジアステレオマー塩の生成に使用
した溶剤に統一することにより、溶剤の回収が可能とな
り溶剤の効率的再利用が計られる。
水を加えジアステレオマー塩を抽出した後、有機溶剤と
アルカリ水を加えてpH11〜DH14とし、水層を分
離した後、ジアステレオマー塩の分解の際に生じた有機
溶剤層を加え、水で洗浄し、乾燥後溶剤を留去し、得ら
れる残留物を蒸留にて精製することにより純粋な分割剤
が高収率で回収される。
が、これらは本発明方法の範囲を限定するものではない
。またジアステレオマー塩のエナンチオイクセス純度は
、以下に示す方法により求めた。
塩の結晶に、エーテルを加え、この混合物に激しく攪拌
しながら濃塩酸数滴を加えた。次いでこの混合物に過剰
のジアゾメタンを加え、約10分間攪拌した。混合物は
無水硫酸マグネシウムにて乾燥した後、不溶物をろ過し
、ろ液をHPLCにて分析した。分析に使用したカラム
は8UMIPAXOA2000 (4,6Wff1.D
、 X250朋、5 am)を用い移動相はヘキサン/
2塩化エチレン=7507150の脱気した混合溶媒を
使用した。流速は1.2 m61分で、検出はav(2
2onm)で行った。標準サンプルはこの条件下分析を
行うと、R体が7.64分に又8体は8.41分に溶出
した。
,12g)と(±)−テトラヒドロ−2−フロイックア
シド(11,61g )およびテトラヒドロフラン(1
00屑りの混合物を加熱還流し、完全に溶解した後、徐
冷し、室温にて2時間静置した。析出した結晶をろ取し
、1成品(10,74g)を得た。この1成品はテトラ
ヒドロフランより2回再結晶しく使用した溶媒量は各々
134N’)、ジアステレオマー塩を無色針状晶として
5.97g得た。この化合物のエナンチオイクセス純度
はHPLO分析にて98,0%e、e、であった。この
塩を分解すると(R) −(+)−テトラヒドロ−2−
フロイックアシドが得られる。以下の実施例2〜14に
ついても同様である。
類、量を変えて反応を行った 結果、1成品の収率、エ
ナンチオイクセス純度は以下の通りであった。
ン(59#)と(±)−テトラヒドロ−2−フロイック
アシド(40q)を、以下に示す溶剤にて実施例1と同
様の方法にて処理した。結果は下表に示す通りで、1成
品のエナンチオイクセス純度を測定した。
513 ジオキサン 55
58実施例15.16 (几) −(+) −1−(1−ナフチル)エチルアミ
ン(23sq)と(±)−テトラヒドロ−2−フロイッ
クアシ・ド(1130q)を、以下に示す溶剤にて実施
例1と同様の方法にて処理した。結果は下表に示す通り
で、2成品のエナンチオイクセス純度を測定した。
16 アセトン 46 85
生成したジアステレオマー塩を分離すると(8)−(−
)−テトラヒドロ−2−フロイックアシドが得られた。
ン(47q)と(±)−テトラヒドロ−2−フロイック
アシド(40q)を、以下に示す溶剤にて実施例1と同
様の方法にて処理した。結果は下表に示す通りで、1成
品のエナンチオイクセス純度を生成したジアステレオマ
ー塩を分解すると(R)−(+)−テトラヒドロ−2−
フロイックアシドが得られた。
,1g )に塩化メチレン550肩tと酢酸エチル11
00屑lを加えた後、(S) −(−) −1−フェニ
ルエチルアミン(1212g )を15分で滴下した。
かけて徐々に冷却し、析出してきた結晶を濾過し、濾液
はアミン回収に使用した。得られた結晶を乾燥すること
により1次品111.5gを得た。1成品のエナンチオ
イクセス純度の測定はHPLC分析にて行った。
、 ) 1次品111.5 gに塩化メチレン550 mlと酢
酸エチル11001/を加え昇温し15分間還流した後
、20℃2時間をかけて徐々に冷却し、析出してきた結
晶を濾過し、濾液はアミン回収に使用した。得られた結
晶を乾燥することにより′2次成品07gを得た。エナ
ンチオイクセス純度の測定はHPLC分析にて行った。
、 ) 2次品80.7 gについても同様の操作を行い3次品
75.9 gを得た。
、) 3成品75.9gに水20g、塩化メチレン16ON/
を加え、28%苛性ソーダ水溶液45.9 gでpHを
13とし、ジアステレオマー塩の分解を行った。その後
分液し得られた水層を塩化メチレン50ttttで洗浄
し、塩化メチレン層はあわせてアミン回収に使用した。
40.9 gでpH1としたのち分液した。水層は更に
塩化メチレン160m1で4回抽出した。得られた塩化
メチレン層を合わせて濃縮後、減圧蒸留(108°C/
10朋Hf)することにより、光学活性な(R) −(
+)−テトラヒドロ−2−フロイックアシド34.8
gを得た。
、、 ) 1成品濾液、2成品濾液、3成品濾液を混合し、水10
0耐で2回抽出後、得られた水層を合わせ、塩化メチレ
ン200 mlを加え、28%苛性ソーダ99.8 g
でT)[73とした後分液し、水層を更に塩化メチレン
200 rtttで抽出した。鏝られた塩化メチレン層
を合わせた後、ジアステレオマー塩を分解の際得られた
塩化メチレン層を加え、濃縮し、減圧蒸留(65°C/
10 朋Hg)することにより(S) −(−) −
1−フェニルエチルアミン112.7gを得た。(回収
率93%) 比旋光度を測定したところ〔α)、=−38,4°C(
neat )と実験使用品((2,10” 38.5
°C(neat)と同様の値であった。又、回収品を用
いて繰り返し実験を行ったところ、同様の結果が得られ
繰り返し使用可能であった。
,1に9)にモノクロロベンゼン1200!!ヲ加えた
後、(S)−C−)−1−フェニルエチルアミン(12
1,2#)を2時間で滴下した。その後昇温し溶解した
65°Cで30分間熟成した後、20°C迄6時間をか
けて徐々に冷却し、析出してきた結晶を遠心分離機で振
り切った。得られた1次湿潤結晶の重量は144.4に
9であった。この結晶の1部を乾燥し収率を求め、エナ
ンチオイクセス純度の測定はHPLC分析にて行った。
、 ) 1次湿潤結晶144.4 kgにモノクロロベンゼン1
2006を加え昇温し溶解した後、74°Cで30分間
熟成した後、20°C迄6時間をかけて徐々に冷却し、
析出してきた結晶を遠心分離機で振り切った。得られた
2次湿潤結晶の重量は116.4 kqであった。この
結晶の1部を乾燥し収率を求め、エナンチオイクセス純
度の測定はHPLO分析にて行った。
、) 2次湿潤結晶116.4/c、7についても1次湿潤結
晶と同様の操作を行い、3次湿潤結晶g 14 kgを
得た。得られた結晶を乾燥することにより3次乾燥結晶
75.5 kgを得た。
、) 3次乾燥結晶73.5 kQを用いて実施例18と同様
の方法でジアステレオマー塩の分解をおこない、光学活
性な(R) −(+)−テトラヒドロ−2−フロイック
アシド35.7 kgを得た。
、 ) アミンの回収についても実施例18と同様の操作を行う
ことにより比旋光度〔α〕。=−38,4°C(nea
t) の(S) −(−) −1−フェニルエチルア
ミン11°6.4 tcgを得た。(回収率 96%)
(発明の効果) 本発明によれば、既知の方法において用いられるプルシ
ンに比べて遥かに入手容易かつ低毒性のアミンを分割剤
として用いることにより高収率で高純度の光学活性テト
ラヒドロ−2−フロイックアシドを製造することができ
、アミンの回収率も極めて高い。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (±)−テトラヒドロ−2−フロイックアシドに次の一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼、 (式中、R_1は低級アルキル基、R_2はアルキル基
もしくはアリール基を表わす。たゞしR_1とR_2は
互に同一ではないものとする。)で示される光学活性な
アミン分割剤を反応させて、光学活性なジアステレオマ
ー塩を生成せしめ、次いでこれを分解することを特徴と
する光学活性なテトラヒドロ−2−フロイックアシドの
製法。
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
JP1028511A JP2854592B2 (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 光学活性なテトラヒドロ―2―フロイックアシドの製造法 |
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DE69030774T DE69030774T2 (de) | 1989-02-07 | 1990-02-07 | Optisch aktive Diastereoisomersalze von Tetrahydro-2-furancarbonsäure |
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JPH05213921A (ja) * | 1991-07-04 | 1993-08-24 | Consortium Elektrochem Ind Gmbh | 光学活性カルボン酸の製造方法、液晶化合物の製造方法、高純度の光学活性アミノ酸の製造方法、並びに光学活性カルボン酸アミド並びに光学活性カルボン酸 |
JP2014172856A (ja) * | 2013-03-08 | 2014-09-22 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 光学活性テトラヒドロフラン−2−カルボン酸の製造方法 |
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-
1990
- 1990-02-06 US US07/475,801 patent/US4985575A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-07 DE DE69030774T patent/DE69030774T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-07 EP EP90301288A patent/EP0382506B1/en not_active Expired - Lifetime
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DE69030774D1 (de) | 1997-07-03 |
EP0382506A3 (en) | 1991-03-20 |
DE69030774T2 (de) | 1997-09-18 |
EP0382506A2 (en) | 1990-08-16 |
EP0382506B1 (en) | 1997-05-28 |
JP2854592B2 (ja) | 1999-02-03 |
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