JPH0371497A - Reading method for semiconductor memory - Google Patents

Reading method for semiconductor memory

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JPH0371497A
JPH0371497A JP1208820A JP20882089A JPH0371497A JP H0371497 A JPH0371497 A JP H0371497A JP 1208820 A JP1208820 A JP 1208820A JP 20882089 A JP20882089 A JP 20882089A JP H0371497 A JPH0371497 A JP H0371497A
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JP
Japan
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data
gate line
read
semiconductor memory
memory
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JP1208820A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Kato
直樹 加藤
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Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To improve the data reading speed by applying a read voltage to a drain line, and precharging a gate line and then reading held data out of a semiconductor memory element when the data held in the semiconductor memory element is read. CONSTITUTION:Memory elements M1 - M8 are provided at respective intersections of gate lines G1 and G2 and drain lines D1 - D4 which are arranged in matrix, and the drain lines D1 - D4 are applied with the read voltage V+ through MOS transistors(TR) 11 - 14. Then the gate lines G1 and G2 are precharged with gate line select signals GA1 and GA2 and after data of memory elements M1 - M4, and M5 - M8 are determined, the data are read out. Consequently, data read signals CA1 - CA4 need not be give time width for charging-up operation and the data read speed is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高速読出しが可能な半導体メモリの読出し方
法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for reading a semiconductor memory capable of high-speed reading.

[従来の技術] 従来、半導体メモリに対するデータの読出しは、次に示
す方法により行なわれている。以下、半導体メモリとし
て例えばマスクROMにおける場合を例に取って説明す
る。
[Prior Art] Conventionally, reading data from a semiconductor memory is performed by the following method. Hereinafter, the case of a mask ROM as a semiconductor memory will be explained as an example.

第5図は、8つのメモリ素子M1〜M8を備えたマスク
ROMにおけるデータ読出し時の概略構成を示している
。メモリ素子Ml−M8は、MOS)ランジスタを用い
て構成されており、マトリックス状に配置されたゲート
ラインGl。
FIG. 5 shows a schematic configuration for reading data in a mask ROM having eight memory elements M1 to M8. The memory element Ml-M8 is configured using MOS transistors, and has gate lines Gl arranged in a matrix.

G2とドレインラインDi−D4の各交点部分に設けら
れる。そして、上記メモリ素子Ml〜M8は、データ″
12を記憶する素子のゲート電極が対応するゲートライ
ンGl、G2に選択的に接続される。この場合、データ
“0”を記憶するメモリ素子例えばM2.M7のゲート
電極は、ゲートラインGl、G2には接続されない。ま
た、メモリ素子Ml〜M8は、ドレイン電極が対応する
ドレインラインD1〜D4に接続されると共にソース電
極が接地される。
It is provided at each intersection between G2 and the drain line Di-D4. The memory elements Ml to M8 store data "
The gate electrodes of the elements storing 12 are selectively connected to the corresponding gate lines Gl and G2. In this case, a memory element storing data "0", for example M2. The gate electrode of M7 is not connected to gate lines Gl and G2. Furthermore, the memory elements M1 to M8 have their drain electrodes connected to the corresponding drain lines D1 to D4, and their source electrodes grounded.

そして、上記ドレインラインD1〜D4は、MOS)ラ
ンジスタからなるコラムスイッチ1〜4のドレイン電極
に接続される。このコラムスイッチ1〜4は、ゲート電
極に与えられるデータ読出し信号、つまり、コラム選択
信号により順次オン動作し、ドレインラインD1〜D4
を順次選択してバッファ回路10に接続する。上記バッ
ファ回路10は、MOS)ランジスタTl−73を主体
として構成され、上記メモリ素子M1〜M8からドレイ
ンラインDI−D4及びコラムスイッチ1〜4を介して
読出されるデータを増幅して出力端子OUTより出力す
る。
The drain lines D1 to D4 are connected to drain electrodes of column switches 1 to 4 made up of MOS transistors. The column switches 1 to 4 are sequentially turned on by a data read signal applied to the gate electrode, that is, a column selection signal, and the drain lines D1 to D4
are sequentially selected and connected to the buffer circuit 10. The buffer circuit 10 is mainly composed of a MOS transistor Tl-73, and amplifies data read out from the memory elements M1 to M8 via the drain line DI-D4 and column switches 1 to 4 and outputs the data to an output terminal OUT. Output from

上記のように構成された半導体メモリは、第6図に示す
タイミングチャートにより駆動される。
The semiconductor memory configured as described above is driven according to the timing chart shown in FIG.

第6図においてGAI 、CA2はゲートライン選択信
号、CAL−CA4は、コラム選択信号である。先ず、
ゲートライン選択信号GAIがゲートラインGlに与え
られ、ゲートラインG2上のメモリ素子Ml−M4が選
択される。そして、上記ゲートライン選択信号GAIが
ハイレベルとなっている間に、コラム選択信号CAl−
CA4が与えられてコラムスイッチ1〜4が順次オンし
、メモリ素子Ml−M4の保持データがドレインライン
Dl−D4及びバッファ回路10を介して順次読出され
る。
In FIG. 6, GAI and CA2 are gate line selection signals, and CAL-CA4 is a column selection signal. First of all,
A gate line selection signal GAI is applied to the gate line Gl, and memory elements Ml-M4 on the gate line G2 are selected. Then, while the gate line selection signal GAI is at a high level, the column selection signal CAl-
When CA4 is applied, column switches 1 to 4 are sequentially turned on, and data held in memory elements M1-M4 is sequentially read out via drain lines D1-D4 and buffer circuit 10.

次にゲートライン選択信号CA2がゲートラインG2に
与えられると、上記の場合と同様にコラム選択信号CA
L−CA4に同期してメモリ素子M5〜M8の保持デー
タがドレインラインDI〜D4及びバッファ回路10を
介して順次読出される。
Next, when the gate line selection signal CA2 is applied to the gate line G2, the column selection signal CA2 is applied to the gate line G2 as in the above case.
Data held in memory elements M5 to M8 is sequentially read out via drain lines DI to D4 and buffer circuit 10 in synchronization with L-CA4.

[発明が解決しようとする課題] 上記のようにして半導体メモリの記憶データが読出され
るが、上記従来のデータ読出し方法では、データの読出
しに際して、ゲートラインGl。
[Problems to be Solved by the Invention] Data stored in the semiconductor memory is read as described above, but in the conventional data reading method, when reading data, the gate line Gl.

G2がチャージアップするt時間以上釜コラムスイッチ
1〜4をオンさせる必要があり、このためコラム選択信
号CAL−CA4の時間幅が広くなり、データの読出し
に時間がかかるという問題があった。
It is necessary to keep the hook column switches 1 to 4 on for a time period t or longer for G2 to charge up, which causes the problem that the time width of the column selection signals CAL-CA4 becomes wide and it takes time to read data.

本発明は上記実情に鑑みて威されたもので、半導体メモ
リのデータ読出し速度を向上し得る半導体メモリの読出
し方法を提供することを目的とする。
The present invention was developed in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory reading method that can improve the data reading speed of a semiconductor memory.

[課題を解決するための手段及び作用]本発明は、半導
体メモリ素子がマトリックス状に配置されてゲート電極
及びドレイン電極がそれぞれゲートライン、ドレインラ
インに接続されてなる半導体メモリにおいて、ドレイン
ラインに読出し電圧を印加しておき、上記半導体メモリ
素子の保持データの読出しに際してゲートラインをプリ
チャージし、その後、メモリ素子の保持データを読出す
ようにしたものである。
[Means and effects for solving the problem] The present invention provides a semiconductor memory in which semiconductor memory elements are arranged in a matrix and a gate electrode and a drain electrode are connected to a gate line and a drain line, respectively. A voltage is applied to precharge the gate line when reading the data held in the semiconductor memory element, and then the data held in the memory element is read out.

上記のようにデータの読出し前にゲートラインをプリチ
ャージすることにより、データ読出し信号にチャージア
ップのための時間幅を持たせる必要が無く、時間幅の短
い読出し信号で記憶データを確実に読出す事ができ、デ
ータ読出し速度を向上することができる。
By precharging the gate line before reading data as described above, there is no need to provide a time width for charging up the data read signal, and the stored data can be reliably read out using a read signal with a short time width. It is possible to improve the data read speed.

また、本発明は、メモリ領域を2つの領域に分け、各メ
モリ領域のメモリ素子を一定の時間差を持たせてプリチ
ャージし、その後、各メモリ素子の保持データを順次読
出すようにしたものである。
Further, in the present invention, the memory area is divided into two areas, the memory elements in each memory area are precharged with a certain time difference, and then the data held in each memory element is sequentially read out. be.

上記のように2つのメモリ領域を一定の時間差を持たせ
てプリチャージすることにより、互いに他のメモリ領域
からデータの読出しが行なわれている間にプリチャージ
を完了でき、プリチャージ時間の無駄を無くしてデータ
の読出しを連続的に行なうことが可能になり、データの
読出し速度を更に向上することができる。
By precharging two memory areas with a certain time difference as described above, precharging can be completed while data is being read from the other memory area, thereby reducing wasted precharging time. Without this, it becomes possible to read data continuously, and the data reading speed can be further improved.

[第1実施例コ 以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。[First embodiment Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、半導体メモリとしてマスクROMに実施した
場合の例を示すもので、説明を簡単にするため8個のメ
モリ素子M1〜M8を2行4列に配列した場合について
示しである。メモリ素子Ml−M8は、MOSトランジ
スタを用いて構成されており、マトリックス状に配置さ
れたゲートラインGl、G2とドレインラインDl〜D
4の各交点部分に設けられる。そして、上記メモリ素子
Ml−M8は、データ“1”を記憶する素子のゲート電
極が対応するゲートラインGl、G2に選択的に接続さ
れる。この場合、データ“0”を記憶するメモリ素子例
えばM2.M7のゲート電極は、ゲートラインGl、G
2には接続されない。
FIG. 1 shows an example in which a mask ROM is implemented as a semiconductor memory, and to simplify the explanation, the case is shown in which eight memory elements M1 to M8 are arranged in two rows and four columns. The memory element Ml-M8 is configured using MOS transistors, and has gate lines Gl and G2 and drain lines Dl to D arranged in a matrix.
4 at each intersection. In the memory elements M1-M8, the gate electrodes of the elements storing data "1" are selectively connected to the corresponding gate lines G1 and G2. In this case, a memory element storing data "0", for example M2. The gate electrode of M7 is connected to the gate lines Gl, G
2 is not connected.

また、メモリ素子Ml−M8は、ドレイン電極が対応す
るドレインラインDi−D4に接続されるε共にソース
電極が接地される。
Furthermore, in the memory element Ml-M8, the drain electrode is connected to the corresponding drain line Di-D4, and the source electrode is grounded.

上記ドレインラインDi−D4には、MOSトランジス
タ11〜14を介して読出し電圧V+が供給される。こ
のMOS)ランジスタ11〜14は、ドレイン電極がゲ
ート電極と共にV十電源に接続され、ソース電極がドレ
インラインDl〜D4に接続される。
A read voltage V+ is supplied to the drain line Di-D4 via MOS transistors 11-14. The drain electrodes of the MOS transistors 11-14 are connected together with the gate electrodes to the V+ power supply, and the source electrodes are connected to the drain lines D1-D4.

そして、上記ドレインラインDI−D4は、MOSトラ
ンジスタからなるコラムスイッチ1〜4のドレイン電極
に接続される。このコラムスイッチ1〜4は、ゲート電
極に与えられるコラム選択信号により順次オン動作し、
ドレインラインD1〜D4を順次選択してバッファ回路
10に接続する。上記バッファ回路10は、MOSトラ
ンジスタTl−73を主体として構成され、上記メモリ
素子Ml−M8から読出されるデータを増幅して出力端
子OUTより出力する。
The drain line DI-D4 is connected to the drain electrodes of column switches 1 to 4 made up of MOS transistors. The column switches 1 to 4 are sequentially turned on by a column selection signal applied to the gate electrode.
Drain lines D1 to D4 are sequentially selected and connected to the buffer circuit 10. The buffer circuit 10 is mainly composed of a MOS transistor Tl-73, and amplifies the data read from the memory element Ml-M8 and outputs the amplified data from the output terminal OUT.

次に上記半導体メモリに対するデータ読出し動作につい
て第2図のタイミングチャートを参照して説明する。同
図においてGAI、CA2はゲートライン選択信号、C
AL−CA4はコラム選択信号である。ゲートライン選
択信号GAIGA2によりゲートラインG1.G2が選
択されている時にコラム選択信号CAR−CA4が与え
られるが、ゲートライン選択信号Gl、G2はコラム選
択信号CAR−CA4よりゲートラインGl、G2をチ
ャージアップする時間tだけ早いタイミングで立ち上が
り、コラム選択信号CAI〜CA4が出力されている間
、ハイレベル状態に保持される。
Next, the data read operation for the semiconductor memory will be explained with reference to the timing chart of FIG. In the same figure, GAI and CA2 are gate line selection signals, and C
AL-CA4 is a column selection signal. Gate line selection signal GAIGA2 selects gate line G1. When G2 is selected, the column selection signal CAR-CA4 is applied, but the gate line selection signals Gl and G2 rise earlier than the column selection signal CAR-CA4 by the time t required to charge up the gate lines Gl and G2. While column selection signals CAI to CA4 are being output, they are held at a high level state.

従って、データの読出しに際しては、先ず、ゲートライ
ン選択信号GAIがゲートラインC1に与えられ、ゲー
トラインC1がプリチャージされる。上記メモリ素子M
l−M4には、MOSトランジスタ11〜14を介して
読出し電圧が与えられているので、を時間後にゲートラ
インG1のプリチャージが完了すると、ゲートラインC
1上の4ビツトのデータ、つまり、メモリ素子Ml〜M
4のデータが確定する。この状態で第2図に示すコラム
選択信号CAL〜CA4が順次与えられてコラムスイッ
チ1〜4が順次オンし、メモリ素子Ml−M4の保持デ
ータがドレインラインDI〜D4及びバッファ回路10
を介して順次読出される。
Therefore, when reading data, first, the gate line selection signal GAI is applied to the gate line C1, and the gate line C1 is precharged. The above memory element M
Since the read voltage is applied to l-M4 through the MOS transistors 11 to 14, when the precharging of the gate line G1 is completed after the time, the gate line C
4-bit data on memory elements M1 to M
The data of 4 is confirmed. In this state, column selection signals CAL to CA4 shown in FIG.
are sequentially read out via the

次にゲートライン選択信号CA2がゲートラインG2に
与えられると、上記の場合ε同様にゲートラインG2の
プリチャージが行なわれた後にコラム選択信号CAl−
CA4に同期してメモリ素子M5〜MBの保持データが
ドレインラインDi〜D4及びバッファ回路10を介し
て順次読出される。
Next, when the gate line selection signal CA2 is applied to the gate line G2, the column selection signal CAl-
Data held in memory elements M5 to MB is sequentially read out via drain lines Di to D4 and buffer circuit 10 in synchronization with CA4.

上記のようにゲートライン選択信号GAI 。Gate line selection signal GAI as described above.

CA2によりゲートラインGl、G2をプリチャージし
、メモリ素子M1〜M4 、M5〜M8のデータが確定
した後にデータの読出しを行なうことにより、第2図に
示すようにコラム選択信号CAL〜CA4のパルス幅を
従来の数分の1に短くして、データの読出しを行なうこ
とが可能になる。第2図のタイミングチャートでは、4
ビツトのデータを出力する時間をプリチャージの時間t
と等しくした例を示しており、この場合には、従来方法
の2倍の速度でデータの読出しを行なう事ができる。ま
た、データ読出し速度は、コラムスイッチ1〜4のスイ
ッチング速度の限界まで速める事が可能である。
By precharging the gate lines Gl and G2 by CA2 and reading the data after the data in the memory elements M1 to M4 and M5 to M8 is determined, the pulses of the column selection signals CAL to CA4 are changed as shown in FIG. It becomes possible to read data while reducing the width to a fraction of the conventional width. In the timing chart in Figure 2, 4
The time to output bit data is the precharge time t
In this case, data can be read at twice the speed of the conventional method. Further, the data read speed can be increased to the limit of the switching speed of the column switches 1 to 4.

[第2実施例〕 次に第3図及び第4図により本発明の第2実施例につい
て説明する。上記第1の実施例は、ゲートラインGl上
のメモリ素子Ml−M4のデータを全て読出した後に、
次のゲートラインG2にゲートライン選択信号GA2を
供給してプリチャージを動作を行なうようにしたもので
、このプリチャージ期間はデータの読出しは行なわれな
いが、第2実施例はメモリ領域を2系統に分ける事によ
リブリチャージ動作を効率的に行ない、データの読出し
が連続的にできるようにしたものである。
[Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 and 4. In the first embodiment, after reading all the data of the memory elements Ml-M4 on the gate line Gl,
The precharge operation is performed by supplying the gate line selection signal GA2 to the next gate line G2. Data is not read during this precharge period, but in the second embodiment, the memory area is By dividing the memory into systems, the recharging operation can be performed efficiently and data can be read out continuously.

すなわち、第3図に示すようにメモリ領域を第1メモリ
領域MAと第2メモリ領域MBに分け、第1メモリ領域
MAに上記第1図に示したメモリ回路を構成すると共に
、第2メモリ領域MBにはゲートラインCut、G12
上に設けられるメモリ素子M11−M18、このメモリ
素子Mll〜M1gのドレインラインD5〜D8に読出
し電圧V+を供給するMOS)ランジスタ11〜14、
及びドレインラインD5〜D8を選択するコラムスイッ
チ5〜8により、第1メモリ領域MAと同様のメモリ回
路を構成する。上記ゲートラインGll、 G12は、
ゲートライン選択信号GAI1. GA12により選択
され、コラムスイッチ5〜8は、コラム選択信号CA5
〜CA8によりオン/オフ制御される。
That is, as shown in FIG. 3, the memory area is divided into a first memory area MA and a second memory area MB, the first memory area MA is configured with the memory circuit shown in FIG. MB has gate line cut, G12
memory elements M11 to M18 provided above, MOS transistors 11 to 14 that supply read voltage V+ to drain lines D5 to D8 of the memory elements Mll to M1g;
Column switches 5 to 8 that select drain lines D5 to D8 constitute a memory circuit similar to that of the first memory area MA. The gate lines Gll and G12 are
Gate line selection signal GAI1. Column switches 5 to 8 are selected by column selection signal CA5.
~ Controlled on/off by CA8.

そして、第1メモリ領域MAのコラムスイッチ1〜4及
び第2メモリ領域MBのコラムスイッチ5〜8を介して
読出される8ビツトのデータは、バッファ回路10に入
力される。すなわち、このバッファ回路10は、第1メ
モリ領域MAと第2メモリ領域MBのメモリ回路に共用
される。
The 8-bit data read out via the column switches 1 to 4 in the first memory area MA and the column switches 5 to 8 in the second memory area MB is input to the buffer circuit 10. That is, this buffer circuit 10 is shared by the memory circuits of the first memory area MA and the second memory area MB.

上記の構成において、第1メモリ領域MA及び第2メモ
リ領域MBは、それぞれ上記第1実施例と同様のタイミ
ングで読出し制御が行なわれるが、第4図のタイミング
チャートに示すように第1メモリ賄域MAに対して第2
メモリ領域MBにはプリチャージ時間tだけ遅れてゲー
トライン選択信号GA5〜GA8及びコラム選択信号C
A5〜C1Bが与えられる。
In the above configuration, the first memory area MA and the second memory area MB are read-out controlled at the same timing as in the first embodiment, but as shown in the timing chart of FIG. 2nd for area MA
Gate line selection signals GA5 to GA8 and column selection signal C are supplied to the memory area MB with a delay of precharge time t.
A5 to C1B are given.

従って、まず、第1メモリ領域MAに対し、ゲートライ
ン選択信号GAIが与えられてゲートラインG2のプリ
チャージ動作が開始される。そして、プリチャージ時間
tを経過すると、コラム選択信号CAL−CA4が順次
与えられてコラムスイッチ1〜4がオンし、ゲートライ
ンGl上のメモリ素子Ml−M4の保持データがドレイ
ンラインD1〜D4及びバッファ回路10を介して順次
読出される。
Therefore, first, the gate line selection signal GAI is applied to the first memory area MA to start the precharging operation of the gate line G2. Then, after the precharge time t has elapsed, the column selection signals CAL-CA4 are sequentially applied to turn on the column switches 1-4, and the data held in the memory elements M1-M4 on the gate line GI are transferred to the drain lines D1-D4 and the column switches 1-4. The data are sequentially read out via the buffer circuit 10.

また、上記ゲートライン選択信号Glが与えられた後、
プリチャージ時間tを経過すると、第2メモリ領域MB
に対し、ゲートライン選択信号GAIIが与えられてゲ
ートラインGllのプリチャージ動作が開始される。す
なわち、上記メモリ素子Ml−M4に対するデータ読出
しが行なわれている間にゲートラインGllのプリチャ
ージが行なわれる。従って、第1メモリ領域MAにおけ
るメモリ素子M1〜M4のデータ読出しを終了すると、
第2メモリ領域MBにおけるゲートラインGllのプリ
チャージが完了し、メモリ領域MB側のデータ読出しが
可能となる。この状態でコラム選択信号CA5〜CA&
が与えられてコラムスイッチ5〜8が順次オンし、ゲー
トラインGll上のメモリ素子Mll−M14の保持デ
ータがドレインラインD5〜DB及びバッファ回路10
を介して順次読出される。
Further, after the gate line selection signal Gl is applied,
After the precharge time t has elapsed, the second memory area MB
On the other hand, a gate line selection signal GAII is applied to start a precharging operation of the gate line Gll. That is, while data is being read from the memory elements M1-M4, the gate line Gll is precharged. Therefore, when data reading from memory elements M1 to M4 in the first memory area MA is completed,
Precharging of the gate line Gll in the second memory region MB is completed, and data reading from the memory region MB side becomes possible. In this state, column selection signals CA5 to CA&
is applied, the column switches 5 to 8 are sequentially turned on, and the data held in the memory element Mll-M14 on the gate line Gll is transferred to the drain lines D5 to DB and the buffer circuit 10.
are sequentially read out via the

また、上記コラム選択信号CA5〜CA8により第2メ
モリ領域MBからメモリ素子Mll〜14の保持データ
が読出されている間に、第1メモリ領域MA側にゲート
ライン選択信号G2が与えられてゲートラインG2に対
するプリチャージが行なわれる。
Further, while the data held in the memory elements Mll-14 is being read out from the second memory area MB by the column selection signals CA5-CA8, the gate line selection signal G2 is applied to the first memory area MA side, and the gate line selection signal G2 is applied to the first memory area MA side. Precharging for G2 is performed.

以下同様にして第1メモリ領域MA及び第2メモリ領域
MBから記憶データが交互に読出される。
Thereafter, stored data is read out alternately from the first memory area MA and the second memory area MB in the same manner.

上記のようにこの第2実施例によれば、第1メモリ領域
MA及び第2メモリ領域MBを設け、互いに他の領域の
データが読出されている間にゲートラインGへのプリチ
ャージを行なうように1.ているので、プリチャージ動
作を効率的に行なうことができ、データの読出しを連続
して行なう事ができる。
As described above, according to the second embodiment, the first memory area MA and the second memory area MB are provided, and the gate line G is precharged while data from the other area is being read. 1. Therefore, the precharge operation can be performed efficiently and data can be read out continuously.

[発明の効果] 以上詳記したように本発明によれば、半導体メモリ素子
がマトリックス状に配置され、ゲート電極及びドレイン
電極がそれぞれゲートライン、ドレインラインに接続さ
れてなる半導体メモリにおいて、ドレインラインに読出
し電圧を印加しておき、上記半導体メモリ素子の保持デ
ータの読出しに際してゲートラインをプリチャージし、
その後、RBJし信号によりメモリ素子の保持データを
読出すようにしたので、読出し信号の印加時にメモリ素
子をチャージする必要は無く、時間幅の短いLi出1−
信号で記憶データを確実に読出ず市ができ、データ読出
し速度を向上することができる。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, in a semiconductor memory in which semiconductor memory elements are arranged in a matrix and a gate electrode and a drain electrode are connected to a gate line and a drain line, respectively, the drain line A read voltage is applied to the semiconductor memory element, and the gate line is precharged when reading data held in the semiconductor memory element.
After that, the data held in the memory element was read out using the RBJ signal, so there was no need to charge the memory element when the read signal was applied, and the Li output 1-
It is possible to reliably read out stored data without using a signal, thereby improving the data read speed.

また、本発明は、メモリ領域を2つの領域に分け、各メ
モリ領域は互いに他のメモリ領域でデータ読出しが行な
われている間にメモリ素子をプリチャージするようにし
たので、ブリチャージル間の無駄を無くしてデータの読
出しを連続的に行なうことが可能になり、データの読出
し速度を更に向上することができる。
Furthermore, in the present invention, the memory area is divided into two areas, and each memory area precharges the memory elements while data is being read in the other memory area, thereby reducing waste during precharging. Without this, it becomes possible to read data continuously, and the data reading speed can be further improved.

尚、上記実施例では、マスクROMに実施j7た場合に
ついて説明したが、マスクROM以外の半導体メモリに
おいても上記各実施例と同様にして実施し得るものであ
る。
In the above embodiments, a case has been described in which the present invention is implemented in a mask ROM, but it can also be implemented in a semiconductor memory other than a mask ROM in the same manner as in each of the above embodiments.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1実施例による゛r導体メモリのデ
ータ読出し時の回路構成を示すブロック図、第2図は同
実施例の動作を説明するためのタイミングチャート、第
3図は本発明の第2実施例におけるデータ読出し時の回
路構成を示すブロック図、第4図は同実施例の動作を説
明するためのタイミングチャート、第5図は従来の半導
体メモリのデータ読出し時の回路構成を示すブロック図
、第6図は第5図の動作を説明するためのタイミングチ
ャートである。 Ml −MB 、Mll−Mlg・・・メモリ素子、G
l。 G1.  Gll、 G12・・・ゲートライン、DI
−D8・・・ドレインライン、1〜8・・・コラムスイ
ッチ、10・・・バッファ回路、11〜14.21〜2
4・・・MOS)ランジスタ、MA・・・第1メモリ領
域、MB・・・第2メモリ領域。
FIG. 1 is a block diagram showing a circuit configuration when reading data from a conductive memory according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a timing chart for explaining the operation of the same embodiment, and FIG. A block diagram showing the circuit configuration when reading data in the second embodiment of the invention, FIG. 4 is a timing chart for explaining the operation of the second embodiment, and FIG. 5 shows the circuit configuration when reading data from a conventional semiconductor memory. FIG. 6 is a timing chart for explaining the operation of FIG. 5. Ml-MB, Mll-Mlg...memory element, G
l. G1. Gll, G12...Gate line, DI
-D8...Drain line, 1-8...Column switch, 10...Buffer circuit, 11-14.21-2
4...MOS) transistor, MA...first memory area, MB...second memory area.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)半導体メモリ素子がマトリックス状に配置されて
ゲート電極及びドレイン電極がそれぞれゲートライン、
ドレインラインに接続されてなる半導体メモリにおいて
、上記ドレインラインに読出し電圧を供給する電圧供給
手段と、上記半導体メモリ素子の保持データの読出しに
際して上記ゲートラインをプリチャージするプリチャー
ジ手段と、この手段により上記ゲートラインをプリチャ
ージした後、上記メモリ素子の保持データを読出すデー
タ読出し手段とを具備したことを特徴とする半導体メモ
リの読出し方法。
(1) Semiconductor memory elements are arranged in a matrix, and gate electrodes and drain electrodes are connected to gate lines, respectively.
In a semiconductor memory connected to a drain line, a voltage supply means for supplying a read voltage to the drain line, a precharging means for precharging the gate line when reading data held in the semiconductor memory element, and a precharging means for precharging the gate line when reading data held in the semiconductor memory element; A method for reading a semiconductor memory, comprising: data reading means for reading data held in the memory element after precharging the gate line.
(2)半導体メモリ素子がマトリックス状に配置されて
ゲート電極及びドレイン電極がそれぞれゲートライン、
ドレインラインに接続されてなる第1及び第2のメモリ
手段と、上記ドレインラインに読出し電圧を供給する電
圧供給手段と、上記メモリ手段の保持データの読出しに
際して上記第1及び第2のメモリ手段のゲートラインを
一定の時間差を持たせてプリチャージするプリチャージ
手段と、上記第1及び第2のメモリ手段におけるメモリ
素子の保持データを上記プリチャージ後に順次読出すデ
ータ読出し手段とを具備したことを特徴とする半導体メ
モリの読出し方法。
(2) Semiconductor memory elements are arranged in a matrix, and gate electrodes and drain electrodes are connected to gate lines, respectively.
first and second memory means connected to a drain line; voltage supply means for supplying a read voltage to the drain line; and voltage supply means for supplying a read voltage to the drain line; The present invention further comprises a precharging means for precharging the gate lines with a certain time difference, and a data reading means for sequentially reading data held in the memory elements in the first and second memory means after the precharging. Features: A reading method for semiconductor memory.
JP1208820A 1989-08-11 1989-08-11 Reading method for semiconductor memory Pending JPH0371497A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0512895A (en) * 1991-07-02 1993-01-22 Sharp Corp Semiconductor storage
JPH09204788A (en) * 1995-11-15 1997-08-05 Samsung Electron Co Ltd Page read-out method and data read-out circuit for nonvolatile semiconductor memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0512895A (en) * 1991-07-02 1993-01-22 Sharp Corp Semiconductor storage
JPH09204788A (en) * 1995-11-15 1997-08-05 Samsung Electron Co Ltd Page read-out method and data read-out circuit for nonvolatile semiconductor memory

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