JPH0368378B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プリント配線板、平版印刷板等の製
造に用いられる画像形成法に関するものである。

従来かかる画像形成法としてはポリエチレンテ
レフタレートフイルム、ポリオレフインフイルム
などの光透過性支持体上に感光層を形成させ、さ
らに必要に応じてその上にポリエチレンフイルム
などの保護フイルムを積層した積層物を用いるい
わゆるドライフイルムレジスト法が知られてお
り、この積層物から保護フイルムを剥離除去した
後銅板などの基板に感光層が接触するように重合
密着し、露光し、支持体を剥離除去し、ついで溶
剤、アルカリ水溶液等の現像液で現像する方法が
実施されている。

しかしながら光透過性支持体として用いられて
いるポリエチレンテレフタレートフイルム等のフ
イルムは、露光後の剥離作業中に帯電してフイル
ムが手にまつわりつきやすく、ほこりを吸着しや
すいという問題があり、また剥離作業は自動化が
極めて困難で人手を要するという経済的問題もあ
る。

一方支持体層として水溶性ポリビニルアルコー
ル系樹脂を積層したものも公知（特開昭56−
140341等）であり、これは現像に当つて支持体層
を剥離することなく、水またはアルカリ水溶液で
溶解除去することが可能であり、さらには現像を
同時に行なうこともできるので水不溶性樹脂フイ
ルムを支持体層とするよりも作業の自動化が容易
となる利点があるものの、溶解後の水中には必然
的にポリビニルアルコール系樹脂が含まれその廃
棄処理に問題のあることが判明した。

該溶解水は初期にはポリビニルアルコール系樹
脂の濃度が低いので循環使用が可能であるが、そ
の濃度が３〜５％程度以上の高濃度になるとポリ
ビニルアルコール系樹脂に対する溶解速度が著し
く低下し、また液循環時に発泡しやすいなど作業
能率に悪影響を与えかねないし、かといつてかか
る希薄溶液からポリビニルアルコール系樹脂を濃
縮除去することは経済的負担が大きすぎる。

本発明者らは、かかる従来法の問題点を解決す
べく検討を重ねた結果、水又は塩水溶液に対して
溶解することなく膨潤する親水性高分子（但しポ
リビニルアルコール系樹脂は除く）層(A)と感光層
(B)とを積層した積層物を(B)層が基板に接触するよ
うに重合密着し、(A)層を通して露光した後(A)層を
水又は塩水溶液と接触せしめてこれを分散除去せ
しめ、ついで(B)層を現像する方法によつて解決で
きることを見出し、本発明を完成するに至つた。

すなわち、本発明は保護層として水又は塩水溶
液に溶解することなく膨潤する親水性高分子（但
しポリビニルアルコール系樹脂は除く、以下同
様）を用いることを特長とし、これを水又は塩水
溶液と接触せしめることによつて、該保護層は溶
解することはないが膨潤して部分的に伸縮し、短
時間に(B)層と分離し、小片状となつて分散除去さ
れるのである。

かかる親水性高分子フイルム片の分散物を含む
液は粗い金網などで過することによつて親水性
高分子と水とを容易に分離することができるので
実用上極めて有利である。しかもかかる方法によ
つても親水性高分子層の除去速度は従来の溶解除
去法に比較して遜色はなく、かつその後の現像工
程にも何ら悪い影響を与えるものでははい。さら
にフイルム剥離法に比較しても工程の自動化が容
易になるという大きな利点を有する。

本発明において用いられる親水性高分子は常温
ないし40℃程度の温度範囲の水に対しては溶解す
ることなく膨潤するのみのものであるか、上記水
には溶解しても塩水溶液、例えば硫酸アンモニウ
ム、硫酸ナトリウム、硫酸カリウム、硫酸マグネ
シウム、硫酸亜鉛、硫酸銅、硫酸鉄、硫酸アルミ
ニウム、硫酸アルミニウムカリウム、硝酸アンモ
ニウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウム、硝酸ア
ルミニウム、塩化ナトリウム、塩化カルシウム、
塩化カリウム、塩化マグネシウム、ホウ砂等の水
溶液には溶解せず膨潤するのみのものに限定され
る。こゝで溶解しないとは50℃の温水又は塩水溶
液（１％水溶液以下）１に大きさ10cm×10cm、
厚さ10〜50μの親水性高分子フイルムを浸漬して
10分間攪拌し、膨潤したフイルムを取出し乾燥
し、浸漬前後の親水性高分子の重量差から求めた
溶解率が５％以下、好ましくは３％以下であるこ
とを云う。

かかる親水性高分子としてはまず、メチルセル
ロース、エチルセルロース、ヒドロキシメチルセ
ルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロ
ース等のセルロース誘導体、デンプン、デンプン
誘導体、ポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）ア
クリル酸、ポリ（メタ）アクリルアミド、カゼイ
ン、酢酸ビニルと不飽和カルボン酸共重合体等の
水酸基、カルボキシル基、アミド基等の親水性基
を含有する水溶性高分子を熱処理、アルデヒドそ
の他の薬品処理等の任意の不溶化処理を処こした
ものが挙げられる。

その他、（メタ）アクリル酸、（無水）マレイン
酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、（メタ）
アクリルアミド、ビニルピロリドン等の親水性モ
ノマーと疎水性モノマー例えば（メタ）アクリル
酸エステル、スチレン、α−オレフイン、アルキ
ルビニルエーテル、ビニルエステル、ブタジエン
等との共重合体、グラフト共重合体等が示され
る。かかる重合体において親水性モノマーの含有
量は通常30重量％以下でなければならない。又、
エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド等の
アルキレンオキサイドの重合体、重合体、グラフ
ト重合体やヒドロキシアルキル化セロフアン類等
も使用され得る。

これらの高分子は単独又は併用して用いられ
る。又、本発明の趣旨をそこなわない範囲でポリ
ビニルアルコール、デンプン、セルロース等の水
溶性高分子を少量併用しても良い。

さらに可塑剤、界面活性剤、滑剤などを配合す
ることもできる。

感光層としては特に限定はなく、公知のアルカ
リ水溶液現像タイプ、溶剤現像タイプのいずれも
使用できる。

本発明においては保護層としての親水性高分子
層(A)と感光層(B)との積層物であればよいが、さら
に支持体層(C)を(B)層の表面に積層した三層構成物
とし、(C)層を剥離して使用する場合も含まれる。
(C)層としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リエステル、などが用いられる。

感光性積層物の厚さは通常(A)層が５〜100μ、
好ましくは10〜50μ、(B)層が５〜100μ、好ましく
は10〜70μの範囲から選択される。親水性高分子
のフイルムをつくるには、その溶解性に応じて溶
剤として水、水−アルコール混合液、ジメチルス
ルフオキシド、ジメチルホルムアミドなどの有機
溶剤を適宜選択して流延製膜する方法や溶融押出
成形法などが採用される。

(A)層と(B)層とよりなる感光性積層物は、銅、ア
ルミニウム、ポリアミドなどの基板と(B)層とが接
触するように重ね、加圧接着する。通常は加熱ロ
ールを用いて接着する。ついで回路パターンのフ
オトマスクを(A)層の上から重ねて、例えば紫外線
などの活性光を露光する。

露光後、親水性高分子層は水又は塩水溶液と接
触せしめる。本発明の親水性高分子層は水又は塩
水溶液に対して溶解することはないが、本質的に
親水性であるから膨潤し、部分的に伸縮して小片
状に分散除去される。水の温度は０〜50℃、好ま
しくは10〜40℃の範囲から選択される。

本発明においては必要に応じて水には少量のア
ルカリが添加できる。アルカリとしては水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸水素ナトリウム、第１リン酸ナトリウム、第２
リン酸ナトリウムなどがあげられる。その濃度は
一般に0.1〜10重量％、好ましくは0.5〜５重量％
の範囲から選択される。さらに界面活性剤やアル
コール類などの水の浸透性を助長する物質を添加
できる。かかる親水性高分子層の除去操作におい
ては振動を与えたり、超音波、高周波などを加え
る方法、水または塩水溶液をノズルから(A)層に噴
射する方法などがいずれも採用しうる。

(A)層が分散除去された後(B)層を現像する。現像
は(B)層の種類に応じてアルカリ水溶液またはトリ
クロロエタン、塩化メチレンなどの有機溶剤によ
り行われる。アルカリを用いた場合でかつ(B)層が
アルカリ現像タイプである場合には(A)層の分散除
去と(B)層の現像とは同時にあるいは引続いて行わ
れる。

現像後に必要に応じて基板の銅メツキ、エツチ
ング、ハンダメツキなどが行われる。

次に実施例をあげて本発明を具体的に説明す
る。

実施例 １ (A)層；メタクリル酸メチル／メタクリル酸ブチ
ル／アクリル酸エチル／アクリル酸２−ヒドロ
キシエチル／アクリル酸共重合体（重量％、
20／20／20／25／15、分子量12万）100部を400
部のアンモニア水に溶解し、流涎法にて厚さ
20μのフイルムを得た。

(B)層；アルカリ可溶型のアクリル共重合体感光性
樹脂。

厚さ25μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム(C)上にロールコーターを用いて(B)のメチルエチ
ルケトン溶液を塗布、乾燥し、乾燥後の(B)の厚さ
50μの積層物を得、ついで(B)層の上に上記(A)フイ
ルムを熱ロールで圧着し、(A)／(B)／(C)三層積層物
を得た。

上記三層積層物から(C)層を剥離しながら、銅貼
り積層板上に(B)層が接触するように熱圧着し、つ
いで(A)層の上からパターンマスクフイルムを載
せ、露光機により露光した。

その後(A)層を剥離することなく積層物の(A)層表
面に水（液温35℃）を口径1.5mmのノズルから吐
出圧力１Kg／cm²、ノズルからの距離12cmで１分間
噴射した。

(A)層は直ちに膨潤除去され、水中に浮遊し、こ
れは金網で過することにより容易に除去でき
た。水中には(A)の共重合体は溶解していなかつ
た。(A)層が分散除去された感光性積層物は濃度
1.3％の炭酸ソーダ水溶液で現像を行つた。解像
力か高く、スルホールのテンテイング強度も良好
な画像がえられた。

実施例 ２ (A)層；メチルセルロース（メトキシ基30％、ヒド
ロキシプロピル基６％）100部とコーンスター
チ10部との５％水溶液から流涎法で厚さ15μの
フイルムを製造した。

実施例１における(A)層にかえて上記(A)層を用い
た以外は同様にして感光性積層物を製造し、露光
機により露光した。

その後(A)層を剥離することなく積層物の(A)層表
面に濃度８％の食塩水（液温30℃）を口径1.2mm
のノズルから吐出圧力１Kg／cm²、ノズルからの距
離10cmで１分間噴射した。

(A)層は直ちに膨潤しついで小片状となり水中に
分散した。これは金網で過することにより容易
に除去できた。水中に(A)層の共重合体は溶解して
いなかつた。ついで水洗後、炭酸ソーダ水溶液で
現像を行なつたが何ら支障は認められなかつた。

実施例 ３ (A)層；カルボキシメチルセルロース（エーテル化
度0.6）100部とコーンスターチ６部との５％水
溶液から流涎法で厚さ20μのフイルムを製造し
た。

(B)層；トリクレン可溶型アクリル共重合体感光性
樹脂 (C)層；ポリエチレンテレフタレート（厚さ25μ）
とポリプロピレン（厚さ25μ）の積層物 (C)層のポリプロピレン面上にロールコーターに
より(B)層の感光性樹脂（ブチルエチルケトン溶
液）を塗布し（乾燥後の(B)層の厚さ25μ）、つい
でその上に(A)層を熱ロールで圧着し(A)／(B)／(C)三
層積層物をえた。

上記三層積層物から(C)層を剥離しながら、銅貼
り積層板上に(B)層が接触するように熱圧着し、つ
いで(A)層の上からパターンマスクフイルムを載
せ、露光機により露光した。

その後、(A)層を剥離することなく積層物の(A)層
表面に１％ホウ砂水溶液（液温25℃）をノズルか
ら１分噴射した。

(A)層は直ちに膨潤し、小片状に分散除去され
た。ついで(B)層面を水スプレーにより洗浄し、空
気スプレーにより乾燥し、ついで１，１，１−ト
リクロロエタンを用いて現像した。解像力の大な
る良好な画像がえられた。

実施例 ４ ポリエチレンオキサイド（分子量150万）の２
％水溶液から流涎製膜し厚さ18μのフイルムを得
た。

実施例１の(A)層にかえて該フイルムを用い、か
つスプレー液を３％硫酸ナトリウム水溶液（液温
30℃）に変更した以外は同様にして実験した。そ
の結果は良好であつた。

実施例 ５ ポリビニルピロリドン（分子量36万）の10％メ
タノール溶液から流涎法で得られた厚さ25μのフ
イルムを(A)層に用いて、実施例１と同様にして感
光性積層物を製造し、露光機により露光した。そ
の後、(A)層を剥離することなく積層物の(A)層表面
に濃度５％の硫酸ナトリウム水溶液（液温25℃）
を口径1.5mmのノズルから吐出圧力1.1Kg／cm²、ノ
ズルからの距離12cmで２分間噴射した。

(A)層は約30秒で膨潤除去され、液中に浮遊しこ
れは金網で過することにより容易に除去でき
た。

水洗後、1.3％の炭酸ナトリウム水溶液（液温
30℃）で(B)層である感光層を現像したところ、解
像力が高く何ら支障は認められなかつた。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 水又は塩水溶液に対して溶解することなく膨
   潤する親水性高分子（但しポリビニルアルコール
   系樹脂は除く）層(A)と感光層(B)とを積層した積層
   物を(B)層が基板に接触するように重合密着し、(A)
   層を通して露光した後、(A)層を水又は塩水溶液と
   接触せしめてこれを分散除去せしめ、ついで(B)層
   を現像することを特徴とする画像形成方法。