JPH0360872A - プラズマアーク溶接方法および装置 - Google Patents
プラズマアーク溶接方法および装置Info
- Publication number
- JPH0360872A JPH0360872A JP19672289A JP19672289A JPH0360872A JP H0360872 A JPH0360872 A JP H0360872A JP 19672289 A JP19672289 A JP 19672289A JP 19672289 A JP19672289 A JP 19672289A JP H0360872 A JPH0360872 A JP H0360872A
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- plasma arc
- arc welding
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は金属材料のプラズマアーク溶接方法および装置
に関する。
に関する。
［従来の技術］
第２図（ａ）、 （ｂ）はキーホール溶接時のプラズマ
アークとビード形成を示した断面図と平面図である。薄
板をプラズマ溶接にて単層仕上げするには、プラズマア
ーク３４が母材２０を貫通した状態でキーホール３０を
形成しながら溶接するキーホール溶接を行う。このとき
特開昭６１−２６１４６２号公報に示されるように、ル
ート幅２４の拡大または縮小に応じて開先断面積を補う
ようにフィラワイヤ添加量を増加または減少制御し、プ
ラズマ溶接を行っている。
アークとビード形成を示した断面図と平面図である。薄
板をプラズマ溶接にて単層仕上げするには、プラズマア
ーク３４が母材２０を貫通した状態でキーホール３０を
形成しながら溶接するキーホール溶接を行う。このとき
特開昭６１−２６１４６２号公報に示されるように、ル
ート幅２４の拡大または縮小に応じて開先断面積を補う
ようにフィラワイヤ添加量を増加または減少制御し、プ
ラズマ溶接を行っている。
［発明が解決しようとする課題］
上記のプラズマ溶接においては、第４図の如くルート幅
が比較的狭い場合、良好なキーホール溶接を行うことは
容易であり、表ビード２１および裏ビード２２は共に凸
形状を呈し問題はない。
が比較的狭い場合、良好なキーホール溶接を行うことは
容易であり、表ビード２１および裏ビード２２は共に凸
形状を呈し問題はない。
しかし、従来技術のようにルート幅の拡大とともにフィ
ラワイヤを増加させるたけでは、第５図のように表ビー
ド２１が凹形状になり、さらに、フィラワイヤを増加さ
せても裏ビード２２の凸形状が大きくなるだけで、表ビ
ードが凸形状にならず問題であった。またキーホール溶
接を安定して行うには開先の両回材を均一に溶融し、両
回材の溶融メタルを接触させブリッジさせなけらばなら
ないが、ルート幅２４が広い場合第３図のようにブリッ
ジすることができず、良好なビードが形成されないし、
その際のビート断面は第６図のように開先両端は垂れ下
がり接合できない。
ラワイヤを増加させるたけでは、第５図のように表ビー
ド２１が凹形状になり、さらに、フィラワイヤを増加さ
せても裏ビード２２の凸形状が大きくなるだけで、表ビ
ードが凸形状にならず問題であった。またキーホール溶
接を安定して行うには開先の両回材を均一に溶融し、両
回材の溶融メタルを接触させブリッジさせなけらばなら
ないが、ルート幅２４が広い場合第３図のようにブリッ
ジすることができず、良好なビードが形成されないし、
その際のビート断面は第６図のように開先両端は垂れ下
がり接合できない。
本発明はこのような従来技術の問題点を解決し、ルート
幅の変動に対応じて安定したキーホール溶接を行うこと
ができ、良好なビード形成が可能なプラズマアーク溶接
方法、及びこの方法を効果的に実施できる溶接装置を提
供することを目的とする。
幅の変動に対応じて安定したキーホール溶接を行うこと
ができ、良好なビード形成が可能なプラズマアーク溶接
方法、及びこの方法を効果的に実施できる溶接装置を提
供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］
本発明はキーホール溶接しながらルート幅の変化に応じ
てフィラワイヤを添加し、単層仕上げするプラズマアー
ク溶接において、ルート幅例えば「■当りの拡大または
縮小に応じて、センターガスＴＩＬ′ｇｋを設定に対し
て減少または増加させること、及びウイビング幅を増加
または減少させること、の少なくともいずれか一方の制
御を行うことを特徴とするプラズマアーク溶接方法と、
ルート幅の変化に応じてフィラワイヤを供給するプラズ
マアーク溶接装置において、センターガス回路に設けら
れたガス流量制御器とこれをルート幅に応じて制御する
センターガス流量調整器、さらにトーチを取り付けるウ
イビング機構とこれをルート幅に応じてウイビング幅を
制御するウイビング幅調整器、の少なくともいずれか一
方の手段から構成されることを特徴とするプラズマアー
ク溶接装置により３題を解決する。
てフィラワイヤを添加し、単層仕上げするプラズマアー
ク溶接において、ルート幅例えば「■当りの拡大または
縮小に応じて、センターガスＴＩＬ′ｇｋを設定に対し
て減少または増加させること、及びウイビング幅を増加
または減少させること、の少なくともいずれか一方の制
御を行うことを特徴とするプラズマアーク溶接方法と、
ルート幅の変化に応じてフィラワイヤを供給するプラズ
マアーク溶接装置において、センターガス回路に設けら
れたガス流量制御器とこれをルート幅に応じて制御する
センターガス流量調整器、さらにトーチを取り付けるウ
イビング機構とこれをルート幅に応じてウイビング幅を
制御するウイビング幅調整器、の少なくともいずれか一
方の手段から構成されることを特徴とするプラズマアー
ク溶接装置により３題を解決する。
［作用］
プラズマアーク溶接は第２図に示すように、センターガ
ス３５の流量やインサートチップ３３によりプラズマア
ーク３４を細くしぼり、エネルギ密度を高くして、−キ
ーホール溶接を容易にしている。したがって、センター
ガスの流量を増加させるとプラズマアーク力が強くな
り、母材を貫通しやすくなる。このため、ルート幅が狭
い開先で適正なセンターガス流量でも、ルート幅が広い
開先ではセンターガス流量が大きすぎ、フィラワイヤか
らの溶融メタルを裏ビード側にまわり込ませ、表ビード
が凹になりやすい。またプラズマアークは細くしぼられ
ているため、ルート幅が広い開先では、両側母材を均一
に溶融しにくくなる傾向があり、安定したビードが形成
されにくい。
ス３５の流量やインサートチップ３３によりプラズマア
ーク３４を細くしぼり、エネルギ密度を高くして、−キ
ーホール溶接を容易にしている。したがって、センター
ガスの流量を増加させるとプラズマアーク力が強くな
り、母材を貫通しやすくなる。このため、ルート幅が狭
い開先で適正なセンターガス流量でも、ルート幅が広い
開先ではセンターガス流量が大きすぎ、フィラワイヤか
らの溶融メタルを裏ビード側にまわり込ませ、表ビード
が凹になりやすい。またプラズマアークは細くしぼられ
ているため、ルート幅が広い開先では、両側母材を均一
に溶融しにくくなる傾向があり、安定したビードが形成
されにくい。
これに対し本発明はキーホールを形成するアーク力をル
ート幅に応じてセンターガス流量により制御する方法と
、開先の両母材を溶融するアークの見かけ上の大きさを
ルート幅に応じてウイビング幅により制御する方法の一
方あるいは両方を行うことにより、良好な溶接を可能に
するものである。
ート幅に応じてセンターガス流量により制御する方法と
、開先の両母材を溶融するアークの見かけ上の大きさを
ルート幅に応じてウイビング幅により制御する方法の一
方あるいは両方を行うことにより、良好な溶接を可能に
するものである。
［実施例］
以下、本発明を実施例をにもとすいてさらに詳細に説明
する。
する。
第１図は実施例に用いた本発明に係る制御装置の説明図
である。レール２を走行する台車１はプラズマトーチ４
が取り付けられたトーチウイビング機構３と、テレビカ
メラ１０が搭載されている。
である。レール２を走行する台車１はプラズマトーチ４
が取り付けられたトーチウイビング機構３と、テレビカ
メラ１０が搭載されている。
プラズマトーチ４のセンターガス回路９にはガス流量制
御器６が接続されている。ガス流量制御器６とトーチウ
イビング機構３、ワイヤ送給機７は、ワイヤ送給速度・
ガス流量・ウイビング幅調整器８に接続されている。ま
た、テレビカメラＩＯはモニタテレビ１１に接続され開
先画像１３が写し出され、画面上のカーソル１２をカー
ソル調整器１４を用いてルート幅にあわせることにより
、ルート幅に応じた電圧がワイヤ送給速度・ガス流量・
ウイビング幅調整器８へ出力され、ルート幅に応じたワ
イヤ送給速度・センターガス流量・ウイビング幅が各機
構に出力される。
御器６が接続されている。ガス流量制御器６とトーチウ
イビング機構３、ワイヤ送給機７は、ワイヤ送給速度・
ガス流量・ウイビング幅調整器８に接続されている。ま
た、テレビカメラＩＯはモニタテレビ１１に接続され開
先画像１３が写し出され、画面上のカーソル１２をカー
ソル調整器１４を用いてルート幅にあわせることにより
、ルート幅に応じた電圧がワイヤ送給速度・ガス流量・
ウイビング幅調整器８へ出力され、ルート幅に応じたワ
イヤ送給速度・センターガス流量・ウイビング幅が各機
構に出力される。
第 １ 表
溶接は上記第１表に示された条件にて第７図に試験板で
行った。試験板はＩ開先で板厚は３．２゜４．５および
６．０ｍｎ＋で、板長りは２０００ｍｍ、板幅Ｗは３０
０ＩｆｆＩｒａ、スタート側のルート幅Ｇ、はＯｖａ、
エンド側のルート幅Ｇ２は３ｍｍである。評価方法は表
ビード形状が凹を不良、凸を良好と評価した。
行った。試験板はＩ開先で板厚は３．２゜４．５および
６．０ｍｎ＋で、板長りは２０００ｍｍ、板幅Ｗは３０
０ＩｆｆＩｒａ、スタート側のルート幅Ｇ、はＯｖａ、
エンド側のルート幅Ｇ２は３ｍｍである。評価方法は表
ビード形状が凹を不良、凸を良好と評価した。
溶接試験条件および評価結果を第２表に示す。
実験魚１，５．９は板厚８．０．３．２．４．５ｍｍの
ルート幅Ｏにおける適正溶接条件である。本発明方法で
ある実験＆２．＆３．〜４はルート幅の拡大に応じセン
ターカスａｍをルート幅１■当り０．３皇／分減少させ
ているため評価は良好だった。また、実験＆６．４７．
ＡＩ）、８はルート幅の拡大に応じて２ ウイビング幅
をルート幅ｌａｍ当り０．５ａｕｅ増加させているため
評価は良好だった。さらに、実験＆１０． Ａｌｌ、
＆ｔ２はセンターガス流量およびウイビング幅をルート
幅１１当り０Ａｉｔ１分減少および０．３ｍｍ増加させ
ているため評価は良好だった。しかし５実験＆１３〜１
８はセンターガス流量およびウイビング幅が制御されて
いない従来方法であり、評価は不良だった。
ルート幅Ｏにおける適正溶接条件である。本発明方法で
ある実験＆２．＆３．〜４はルート幅の拡大に応じセン
ターカスａｍをルート幅１■当り０．３皇／分減少させ
ているため評価は良好だった。また、実験＆６．４７．
ＡＩ）、８はルート幅の拡大に応じて２ ウイビング幅
をルート幅ｌａｍ当り０．５ａｕｅ増加させているため
評価は良好だった。さらに、実験＆１０． Ａｌｌ、
＆ｔ２はセンターガス流量およびウイビング幅をルート
幅１１当り０Ａｉｔ１分減少および０．３ｍｍ増加させ
ているため評価は良好だった。しかし５実験＆１３〜１
８はセンターガス流量およびウイビング幅が制御されて
いない従来方法であり、評価は不良だった。
第
表
［発明の効果］
以上のように本発明方法および装置は不均一・なルート
幅に対し、安定したキーホール溶接により良好なビード
が形成されるため、今後プラズマアーク溶接の自動化に
大きな貢献ができる。
幅に対し、安定したキーホール溶接により良好なビード
が形成されるため、今後プラズマアーク溶接の自動化に
大きな貢献ができる。
第１図は本発明に関係する実施例に用いた溶接装置の説
明図、第２図は良好はキーホール溶接時のプラズマアー
クとビード形成を説明する断面図と平面図、第３図はル
ート幅が広く、不良なキーホール溶接時のビード形成を
説明する平面図、第４図はルート幅が狭く良好なキーホ
ール溶接が行われたビードの断面図、第５図はルート幅
が広く不良なキーホール溶接が行われたビードの断面図
、第６図はルート幅か広く不良なキーホール溶接が行わ
れたビードの断面図、第７図は実施例に用いた試験板形
状を示す平面図である。 １・・・台車、２・・・レール、３−・・トーチウイビ
ング機構、４・・・プラズマトーチ、５・・・コンジッ
トケーブル、５・・・ガス流量制御器、７・・・ワイヤ
送給機、８・・・ワイヤ送給速度・ガス流量・ウイビン
グ幅調整器、９・・・センターガス回路、ＩＯ・・・テ
レビカメラ、＋ １−・・モニタテレビ、】２・・・カ
ーソル、１３・・・開先画像、１４−・・カーソル調整
器、２０・・・母材、２１・・・表ビード、２２・・・
裏ビート、２３−・・開先、２４・・・ルート幅、３０
−・・キーホール、３１・・・ビード、３２・・・タン
グステン電極、３３・・・インサートチップ、３４・・
・プラズマアーク、３５・・・センターガス、３６−・
・シールドガス。
明図、第２図は良好はキーホール溶接時のプラズマアー
クとビード形成を説明する断面図と平面図、第３図はル
ート幅が広く、不良なキーホール溶接時のビード形成を
説明する平面図、第４図はルート幅が狭く良好なキーホ
ール溶接が行われたビードの断面図、第５図はルート幅
が広く不良なキーホール溶接が行われたビードの断面図
、第６図はルート幅か広く不良なキーホール溶接が行わ
れたビードの断面図、第７図は実施例に用いた試験板形
状を示す平面図である。 １・・・台車、２・・・レール、３−・・トーチウイビ
ング機構、４・・・プラズマトーチ、５・・・コンジッ
トケーブル、５・・・ガス流量制御器、７・・・ワイヤ
送給機、８・・・ワイヤ送給速度・ガス流量・ウイビン
グ幅調整器、９・・・センターガス回路、ＩＯ・・・テ
レビカメラ、＋ １−・・モニタテレビ、】２・・・カ
ーソル、１３・・・開先画像、１４−・・カーソル調整
器、２０・・・母材、２１・・・表ビード、２２・・・
裏ビート、２３−・・開先、２４・・・ルート幅、３０
−・・キーホール、３１・・・ビード、３２・・・タン
グステン電極、３３・・・インサートチップ、３４・・
・プラズマアーク、３５・・・センターガス、３６−・
・シールドガス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、キーホール溶接しながらルート幅の変化に応じてフ
ィラワイヤを添加し、単層仕上げするプラズマアーク溶
接において、ルート幅の拡大に応じてセンターガス流量
を設定に対して減少させる、あるいはルート幅の縮小に
応じてセンターガス流量を設定に対して増加させること
を特徴とするプラズマアーク溶接方法。 ２、キーホール溶接しながらルート幅の変化に応じてフ
ィラワイヤを添加し、単層仕上げするプラズマアーク溶
接において、ルート幅の拡大に応じてウイビング幅を増
加させる、あるいはルート幅縮小に応じウイビング幅を
減少させることを特徴とするプラズマアーク溶接方法。 ３、キーホール溶接しながらルート幅の変化に応じてフ
ィラワイヤを添加し、単層仕上げするプラズマアーク溶
接において、ルート幅の拡大に応じてセンターガス流量
を設定に対して減少させるとともにウイビング幅を増加
させる、あるいはルート幅の縮小に応じてセンターガス
流量を設定に対して増加させるとともにウイビング幅を
減少させることを特徴とするプラズマアーク溶接方法。 ４、トーチの前方にあって、ルート幅の変化を検出する
センサーと該センサーからの信号に応じた量でフィラワ
イヤを供給するワイヤ供給機とを備えたプラズマアーク
溶接装置において、センターガス回路に設けられたガス
流量制御器と、これをルート幅に応じて制御するセンタ
ーガス流量調整器とから構成されることを特徴とするプ
ラズマアーク溶接装置。 ５、トーチの前方にあって、ルート幅の変化を検出する
センサーと該センサーからの信号に応じた量でフィラワ
イヤを供給するワイヤ供給機とを備えたプラズマアーク
溶接装置において、トーチを取り付けるウイビング機構
と、ルート幅に応じてウイビング幅を制御するウイビン
グ幅調整器とから構成されることを特徴とするプラズマ
アーク溶接装置。 ６、トーチの前方にあって、ルート幅の変化を検出する
センサーと該センサーからの信号に応じた量でフィラワ
イヤを供給するワイヤ供給機とを備えたプラズマアーク
溶接装置において、センターガス回路に設けられたセン
ターガス流量制御器と、センターガス流量をルート幅に
応じて制御するセンターガス流量調整器と、さらにトー
チを取り付けるウイビング機構と、ルート幅に応じてウ
イビング幅を制御するウイビング幅調整器とから構成さ
れることを特徴とするプラズマアーク溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196722A JPH0651229B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | プラズマアーク溶接方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1196722A JPH0651229B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | プラズマアーク溶接方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0360872A true JPH0360872A (ja) | 1991-03-15 |
| JPH0651229B2 JPH0651229B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=16362509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1196722A Expired - Fee Related JPH0651229B2 (ja) | 1989-07-31 | 1989-07-31 | プラズマアーク溶接方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0651229B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8981103B2 (en) | 2004-05-20 | 2015-03-17 | Japan Tobacco Inc. | Stable crystal of 4-oxoquinoline compound |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154854A (ja) * | 1974-11-08 | 1976-05-14 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Purazumajidoyosetsuho |
| JPS6261777A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-18 | Hitachi Ltd | 配管用プラズマ溶接方法 |
| JPS6372480A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-04-02 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 溶接開先隙間に対する適応制御方法 |
-
1989
- 1989-07-31 JP JP1196722A patent/JPH0651229B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5154854A (ja) * | 1974-11-08 | 1976-05-14 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | Purazumajidoyosetsuho |
| JPS6261777A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-18 | Hitachi Ltd | 配管用プラズマ溶接方法 |
| JPS6372480A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-04-02 | Yaskawa Electric Mfg Co Ltd | 溶接開先隙間に対する適応制御方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8981103B2 (en) | 2004-05-20 | 2015-03-17 | Japan Tobacco Inc. | Stable crystal of 4-oxoquinoline compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0651229B2 (ja) | 1994-07-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |