JPH0359682A - 帯電装置 - Google Patents
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Landscapes
- Electrostatic Charge, Transfer And Separation In Electrography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は帯電装置、及びそれを用いた画像形成装置に関
する。
する。
より詳しくは、電圧を印加した帯電部材(直接帯電部材
)を被帯電体面に接触させることで被帯電体面を所定の
電位に帯電処理(除電処理も含む、以下同じ)する接触
帯電装置(もしくは直接帯電装置)、及びそれを用いた
画像形成装置に関する。
)を被帯電体面に接触させることで被帯電体面を所定の
電位に帯電処理(除電処理も含む、以下同じ)する接触
帯電装置(もしくは直接帯電装置)、及びそれを用いた
画像形成装置に関する。
(従来の技m)
例えば、電子写真装置(複写機・光プリンタなど)・静
電記録装置等の画像形成装置に於いて、感光体・誘電体
等の被帯電体としての像担持体面を帯電処理する手段機
器としては従来よりコロナ放電装置が広く利用されてい
る。
電記録装置等の画像形成装置に於いて、感光体・誘電体
等の被帯電体としての像担持体面を帯電処理する手段機
器としては従来よりコロナ放電装置が広く利用されてい
る。
コロナ放電装置社像担持体等の被帯電体面を所定の電位
に均一に帯電処理する手段として有効である。しかし、
高圧電源を必要とし、コロナ放電のため電子ましくない
オゾンが発生するなどの問題点を有している。
に均一に帯電処理する手段として有効である。しかし、
高圧電源を必要とし、コロナ放電のため電子ましくない
オゾンが発生するなどの問題点を有している。
このようなコロナ放電装置に対して、前記のように電圧
を印加した帯電部材を被帯電体面に接触させて被帯電体
面を帯電処理する接触帯電装置は、電源の仏座化が図れ
、オゾンの発生量が少ない等の長所を有していることか
ら、例えば画像形成装置に於いてコロナ放電装置にかえ
て感光体・誘電体等の像担持体、その他の被帯電体面の
帯電処理手段装置として注目され、その実用化研究が進
められている。
を印加した帯電部材を被帯電体面に接触させて被帯電体
面を帯電処理する接触帯電装置は、電源の仏座化が図れ
、オゾンの発生量が少ない等の長所を有していることか
ら、例えば画像形成装置に於いてコロナ放電装置にかえ
て感光体・誘電体等の像担持体、その他の被帯電体面の
帯電処理手段装置として注目され、その実用化研究が進
められている。
例えば、本出願人が先に提案(特願昭62−51492
号、同62−230334号など)したように、接触帯
電装置に於いて直流電圧を帯電部材に印加したときの帯
電開始電圧の2倍以上のピーク間電圧を有する振動電界
(交互電界)を帯電部材と被帯電体との間に形成するこ
と、更には表層に高抵抗層を設けた帯電部材を用いるこ
とにより、被帯電体の帯電均一性、感光体等の被帯電体
表面のピンホール・傷等によるリーク防止等を図ること
ができる。
号、同62−230334号など)したように、接触帯
電装置に於いて直流電圧を帯電部材に印加したときの帯
電開始電圧の2倍以上のピーク間電圧を有する振動電界
(交互電界)を帯電部材と被帯電体との間に形成するこ
と、更には表層に高抵抗層を設けた帯電部材を用いるこ
とにより、被帯電体の帯電均一性、感光体等の被帯電体
表面のピンホール・傷等によるリーク防止等を図ること
ができる。
第6図(a) (b)は接触帯電装置の一例の概略
構成の横断面図と、縦断面図である。
構成の横断面図と、縦断面図である。
1は被帯電体である。本例では回転ドラム型の電子写真
感光体とする。本例の該感光体1はアルミニウム等の導
電性基層1bと、その外面に形成した光導電層1aとを
基本層とする構成のものである。
感光体とする。本例の該感光体1はアルミニウム等の導
電性基層1bと、その外面に形成した光導電層1aとを
基本層とする構成のものである。
102は帯電部材である。本例はローラタイプである(
以下帯電ローラと記す)。該帯電ローラは中心の芯金1
020と、その外周に形成した導電層102bと、更に
その外周に形成した抵抗層1’ 02 aとからなる。
以下帯電ローラと記す)。該帯電ローラは中心の芯金1
020と、その外周に形成した導電層102bと、更に
その外周に形成した抵抗層1’ 02 aとからなる。
帯電ローラ102は芯金1020の両端部を不図示の軸
受部材に回転自由に軸受させてドラム型の感光体1に並
行に配置して不図示の押圧手段で感光体1面に対して所
定の押圧力をもって圧接され、感光体1の回転駆動に伴
い従動回転する。
受部材に回転自由に軸受させてドラム型の感光体1に並
行に配置して不図示の押圧手段で感光体1面に対して所
定の押圧力をもって圧接され、感光体1の回転駆動に伴
い従動回転する。
3は帯電ローラ102に対するバイアス印加電源である
。この電源3と帯電ローラ102の芯金1020とが電
気的に接続されていて電W3により帯電ローラ102に
対して所定のバイアスが印加される。
。この電源3と帯電ローラ102の芯金1020とが電
気的に接続されていて電W3により帯電ローラ102に
対して所定のバイアスが印加される。
而して被帯電体たる感光体1が回転駆動されると、該感
光体1に圧接され且つバイアス電圧が印加された帯電部
材としての帯電ローラ102により感光体の外周面が所
定の極性・電位に帯電処理される。
光体1に圧接され且つバイアス電圧が印加された帯電部
材としての帯電ローラ102により感光体の外周面が所
定の極性・電位に帯電処理される。
(発明が解決しようとする問題点)
従来、帯電部材102について、被帯電帯体1面に直接
に圧接する外層としての抵抗層102aは、ゴム又は樹
脂にカーボン等を分散したものを有機溶剤に溶解し、該
溶解液を導電層102b面にコーティングして乾燥して
溶剤を蒸発させることで形成している。
に圧接する外層としての抵抗層102aは、ゴム又は樹
脂にカーボン等を分散したものを有機溶剤に溶解し、該
溶解液を導電層102b面にコーティングして乾燥して
溶剤を蒸発させることで形成している。
(1)このコーティング抵抗層102aの形成時に乾燥
時間が短いと、該抵抗層102aの空気と接する表層部
が主として乾燥され、下層部には溶剤が残留した状態と
なる。
時間が短いと、該抵抗層102aの空気と接する表層部
が主として乾燥され、下層部には溶剤が残留した状態と
なる。
この残留溶剤は抵抗層102aの表層側に徐々に移行し
て抵抗層表面にしみ出て表面を再溶解化状態にする。
て抵抗層表面にしみ出て表面を再溶解化状態にする。
そのため、被帯電体1面に対して該帯電部材102が接
触した状態に長時間あると、帯電部材が被帯電体面に固
着化したり、帯電部材と長時間接触していた被帯電体面
部分が溶剤の移行で変質を生じたりする。
触した状態に長時間あると、帯電部材が被帯電体面に固
着化したり、帯電部材と長時間接触していた被帯電体面
部分が溶剤の移行で変質を生じたりする。
被帯電体1が例えば前記例の電子写真感光体であれば、
帯電部材102との長時間接触部分面に溶剤移行による
局部変質を生じ、その結果出力画像面において上記変質
部に対応する画像部分が感光体1についていえば、これ
は大別して、アモルファスシリコン・セレン等の無機系
感光体と、opcと称される有機系感光体がある。有機
系感光体には、無機材料粒子を樹脂等の有機材料に分散
させた感光層構成のもの、無機材料を樹脂等の有機材料
でコート処置した感光層構成のものなども含む。
帯電部材102との長時間接触部分面に溶剤移行による
局部変質を生じ、その結果出力画像面において上記変質
部に対応する画像部分が感光体1についていえば、これ
は大別して、アモルファスシリコン・セレン等の無機系
感光体と、opcと称される有機系感光体がある。有機
系感光体には、無機材料粒子を樹脂等の有機材料に分散
させた感光層構成のもの、無機材料を樹脂等の有機材料
でコート処置した感光層構成のものなども含む。
而して上述のような、長時間接触による帯電部材102
の被帯電体1に対する固着化、溶剤移行による被帯電体
の局部的変質、それによる悪影響は、被帯電体が感光体
であるときは、それが特に有機系感光体である場合に顕
著化する。これは有機系感光体は無機系感光体に比べて
化学的反応性が高いためである。
の被帯電体1に対する固着化、溶剤移行による被帯電体
の局部的変質、それによる悪影響は、被帯電体が感光体
であるときは、それが特に有機系感光体である場合に顕
著化する。これは有機系感光体は無機系感光体に比べて
化学的反応性が高いためである。
そこで、コーティング抵抗層102aの乾燥は例えば減
圧乾燥で1日間というように乾燥時間を長くして残留溶
剤弁を実質的になくしたものとすることになるが、この
場合は帯電部材の製作時間が長くなってしまう。
圧乾燥で1日間というように乾燥時間を長くして残留溶
剤弁を実質的になくしたものとすることになるが、この
場合は帯電部材の製作時間が長くなってしまう。
(2)抵抗層102aは、被帯電体1面に存在する可能
性があるピンホールICに接触したときに通電破壊を生
じるのを防ぐために、普通、数1100At程の厚さが
必要とされる。1回の塗工工程でこの厚さの均一抵抗層
102aを形成するのは困難であるため、通常は塗工・
乾燥という工程を数回繰り返すことで所望厚さの均一な
抵抗層102aを形成するもので、このことによっても
帯電部材の製作時間が長くかかつていた。
性があるピンホールICに接触したときに通電破壊を生
じるのを防ぐために、普通、数1100At程の厚さが
必要とされる。1回の塗工工程でこの厚さの均一抵抗層
102aを形成するのは困難であるため、通常は塗工・
乾燥という工程を数回繰り返すことで所望厚さの均一な
抵抗層102aを形成するもので、このことによっても
帯電部材の製作時間が長くかかつていた。
本発明は上記に鑑みてこの種の帯電装置について、前述
したような残留溶剤の表面しみ出しによる帯電部材の被
帯電体面に対する固着化や、被帯電体の変質等の問題を
生じない、帯電部材を容易に短時間に製造することが可
能である、等の利点を有するものを提供することを目的
とする。又該帯電装置を用いた画像形成装置を提供する
ことを目的とする。
したような残留溶剤の表面しみ出しによる帯電部材の被
帯電体面に対する固着化や、被帯電体の変質等の問題を
生じない、帯電部材を容易に短時間に製造することが可
能である、等の利点を有するものを提供することを目的
とする。又該帯電装置を用いた画像形成装置を提供する
ことを目的とする。
(問題点を解決するための手段〉
本発明は下記のような構成を特徴とする帯電装置乃至は
画像形成装置である。
画像形成装置である。
(1)電圧を印加した帯電部材を被帯電体面に接触させ
ることで被帯電体面を帯電処理する帯電装置であり、前
記帯電部材は、少なくとも、導電層と、その導電層面を
覆い、被帯電体面に接触する抵抗層を有し、前記抵抗層
は予め膜層体として成膜された抵抗材料の、導電層面に
対する被着層である、ことを特徴とする帯電装置。
ることで被帯電体面を帯電処理する帯電装置であり、前
記帯電部材は、少なくとも、導電層と、その導電層面を
覆い、被帯電体面に接触する抵抗層を有し、前記抵抗層
は予め膜層体として成膜された抵抗材料の、導電層面に
対する被着層である、ことを特徴とする帯電装置。
(2)予め膜層体として成膜された抵抗材料はシームレ
スチューブの形態であり、該シームレスチューブの外嵌
処理により帯電部材の抵抗層が構成されている、ことを
特徴とする上記(1)項に記載の帯電装置。
スチューブの形態であり、該シームレスチューブの外嵌
処理により帯電部材の抵抗層が構成されている、ことを
特徴とする上記(1)項に記載の帯電装置。
(3)シームレスチューブは体積抵抗値が106Ω−c
m以上、1012Ω”cm以下であり、該チューブの内
径にと、該チューブが外嵌される導電層の外径りの比L
/Kが 101%以上、150%以下 である、ことを特徴とする上記(2)項に記載の帯電装
置。
m以上、1012Ω”cm以下であり、該チューブの内
径にと、該チューブが外嵌される導電層の外径りの比L
/Kが 101%以上、150%以下 である、ことを特徴とする上記(2)項に記載の帯電装
置。
(4〉抵抗層として帯電部材に外嵌処理された抵抗材料
のシームレスチューブは、その端部が導電層の端部より
も外方へ延長されている、ことを特徴とする上記(2)
又は(3)項に記載の帯電装置。
のシームレスチューブは、その端部が導電層の端部より
も外方へ延長されている、ことを特徴とする上記(2)
又は(3)項に記載の帯電装置。
(5)シームレスチューブは熱収縮チューブである、こ
とを特徴とする上記(2)・(3)・(4)項のいずれ
かに記載の帯電装置。
とを特徴とする上記(2)・(3)・(4)項のいずれ
かに記載の帯電装置。
(6)熱収縮チューブはポリ塩化ビニルを含むことを特
徴とする上記(5)項に記載の帯電装置。
徴とする上記(5)項に記載の帯電装置。
(7)熱収縮チューブはポリエチレンを含むことを特徴
とする上記(5)項に記載の帯電装置。
とする上記(5)項に記載の帯電装置。
(8)熱収縮チューブは体積抵抗値が
io’Ω−cm以上、1012Ω−cm以下であり、チ
ューブの円周方向の延伸比がチューブの軸方向の延伸比
より大きく、収縮前のチューブの内径Hと、該チューブ
が外嵌される導電層の外径■の比H/Iが101%以上
、200%以下である、ことを特徴とする上記(5)・
(6)・(7)項のいずれかに記載の帯電装置。
ューブの円周方向の延伸比がチューブの軸方向の延伸比
より大きく、収縮前のチューブの内径Hと、該チューブ
が外嵌される導電層の外径■の比H/Iが101%以上
、200%以下である、ことを特徴とする上記(5)・
(6)・(7)項のいずれかに記載の帯電装置。
(9)上記(1)乃至(8)項のいずれかの帯電装置な
像担持体の帯電処理手段として用いた、ことを特徴とす
る画像形成装置。
像担持体の帯電処理手段として用いた、ことを特徴とす
る画像形成装置。
(10)像担持体が有機光導電体を感光層とするもので
ある、ことを特徴とする上記(9)項に記載の画像形成
装置。
ある、ことを特徴とする上記(9)項に記載の画像形成
装置。
(作 用)
即ち上記(1)項の帯電装置のように、帯電部材の抵抗
層について、抵抗材料を予め膜層体として、例えばシー
ト状体・シームレスチューブ体・熱収縮性シームレスチ
ューブ体等の形態で、成膜製造し、この膜層体を帯電部
材の導電層面に対して被着処理して帯電部材の抵抗層を
構成することで、溶剤を用いなくてすみ、乾燥工程が不
要となる、或いは抵抗材料成膜体の製造時に溶剤を使用
したとしても予め十分に乾燥処理して残留溶剤を実質的
に含まないストック膜層体を帯電部材の製造時に抵抗層
構成材料として使用できる。
層について、抵抗材料を予め膜層体として、例えばシー
ト状体・シームレスチューブ体・熱収縮性シームレスチ
ューブ体等の形態で、成膜製造し、この膜層体を帯電部
材の導電層面に対して被着処理して帯電部材の抵抗層を
構成することで、溶剤を用いなくてすみ、乾燥工程が不
要となる、或いは抵抗材料成膜体の製造時に溶剤を使用
したとしても予め十分に乾燥処理して残留溶剤を実質的
に含まないストック膜層体を帯電部材の製造時に抵抗層
構成材料として使用できる。
従って、帯電部材自体の製造は容易に短時間なものとす
ることが可能であり、しかも抵抗層中の残留溶剤の表面
しみ出しによる帯電部材の被帯電体面に対する固着化や
被帯電体の変質等の問題も回避することができるのであ
る。
ることが可能であり、しかも抵抗層中の残留溶剤の表面
しみ出しによる帯電部材の被帯電体面に対する固着化や
被帯電体の変質等の問題も回避することができるのであ
る。
被帯電体が画像形成装置の像担持体であり、その像担持
体が溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっ、ても、
帯電部材側からの溶剤しみ出しの問題は生じないので、
安価な有機系感光体と接触帯電装置を利用しての経済性
のよい画像形成装置を構成することが可能となる。
体が溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっ、ても、
帯電部材側からの溶剤しみ出しの問題は生じないので、
安価な有機系感光体と接触帯電装置を利用しての経済性
のよい画像形成装置を構成することが可能となる。
(2)項以下の各構成を特徴としている帯電装置乃至は
画像形成装置についての特有の作用効果は以下に示す実
施例において具体的に記述する。
画像形成装置についての特有の作用効果は以下に示す実
施例において具体的に記述する。
(実施例)
(A)帯電部材の各種形態例
帯電部材2は第1図例の画像形成装置に像担持体1の帯
電処理手段として装置したようなローラローラタイプの
帯電部材2は面移動駆動される被帯電体1に従動回転さ
せてもよいし、非回転のものとさせてもよいし、被帯電
体1の面移動方向に順方向又は逆方向に所定の周速度を
もって積極的に回転駆動させるようにしてもよい。
電処理手段として装置したようなローラローラタイプの
帯電部材2は面移動駆動される被帯電体1に従動回転さ
せてもよいし、非回転のものとさせてもよいし、被帯電
体1の面移動方向に順方向又は逆方向に所定の周速度を
もって積極的に回転駆動させるようにしてもよい。
第2図(a)はプレード状タイプとしたものの一例の横
断面図を示している。この場合被帯電体1面に当接され
るブレード状帯電部材2の向きは被帯電帯1面の面移動
方向に順方向又は逆方向のどちらでもよい。第2図(b
)はブロック状もしくはロッド状としたものの一例の横
断面図を示している。各タイプの帯電部材2において、
2Cは導電性の芯金部材、2bは導電層、2aは抵抗層
を示している。
断面図を示している。この場合被帯電体1面に当接され
るブレード状帯電部材2の向きは被帯電帯1面の面移動
方向に順方向又は逆方向のどちらでもよい。第2図(b
)はブロック状もしくはロッド状としたものの一例の横
断面図を示している。各タイプの帯電部材2において、
2Cは導電性の芯金部材、2bは導電層、2aは抵抗層
を示している。
ブロック状もしくはロッド状としたものは、回転可能と
したローラタイプのものにおいては芯金部材2Cに対し
てバイアス電圧を印加するために必要とする給電用摺動
接点3aなしに芯金部材2Cに対して電源3に通じるリ
ード線を直接に接続することができ、給電用慴動接点3
aから発生する可能性のある電気ノイズがなくなるとい
う利点とともに、省スペース化、さらには被帯電体面の
クリーニングプレードを兼用させる構成のものとするこ
とも可能で娶る。
したローラタイプのものにおいては芯金部材2Cに対し
てバイアス電圧を印加するために必要とする給電用摺動
接点3aなしに芯金部材2Cに対して電源3に通じるリ
ード線を直接に接続することができ、給電用慴動接点3
aから発生する可能性のある電気ノイズがなくなるとい
う利点とともに、省スペース化、さらには被帯電体面の
クリーニングプレードを兼用させる構成のものとするこ
とも可能で娶る。
(B)画像形成装置例
第1図は本発明に従う帯電装置を装置した画像形成装置
の一例の概略構成を示している。
の一例の概略構成を示している。
1は被帯電体としての像担持体であり、本例のものはア
ルミニウム等の導電性基体層1bと、その外周面に形成
した光導電層1aを基本構成層とするドラム型の電子写
真感光体である。支軸1dを中心に図面上時計方向に所
定の周速度をもって回転駆動される。
ルミニウム等の導電性基体層1bと、その外周面に形成
した光導電層1aを基本構成層とするドラム型の電子写
真感光体である。支軸1dを中心に図面上時計方向に所
定の周速度をもって回転駆動される。
2はこの感光体1面に接して感光体面を所定の極性・電
位に一様に一次帯電処理する帯電部材であり、本例はロ
ーラタイプのものである。以下帯電ローラと記す。帯電
ローラ2は中心芯金20と、その外周に形成した導電層
2bと、更にその外周に形成した抵抗層2aとから成り
、芯金20の両端部を不図示の軸受部材に回転自由に軸
受させてドラム型の感光体1に並行に配置して不図示の
押圧手段で感光体1面に対して所定の押圧力をもって圧
接され、感光体1の回転駆動に伴い従動回転する。
位に一様に一次帯電処理する帯電部材であり、本例はロ
ーラタイプのものである。以下帯電ローラと記す。帯電
ローラ2は中心芯金20と、その外周に形成した導電層
2bと、更にその外周に形成した抵抗層2aとから成り
、芯金20の両端部を不図示の軸受部材に回転自由に軸
受させてドラム型の感光体1に並行に配置して不図示の
押圧手段で感光体1面に対して所定の押圧力をもって圧
接され、感光体1の回転駆動に伴い従動回転する。
而して電源3で芯金20に所定の直m(DC)バイアス
、或は直流+交流(DC+AC)バイアスが印加される
ことで回転感光体1の周面が所定の極性・電位に接触帯
電される。
、或は直流+交流(DC+AC)バイアスが印加される
ことで回転感光体1の周面が所定の極性・電位に接触帯
電される。
帯電部材2で均一に帯電処理を受けた感光体1面は次い
で露光手段10により目的画像情報の露光(レーザービ
ーム走査露光、原稿画像のスリット露光など)を受ける
ことで、その周面に目的の画像情報に対応した静電潜像
が形成される。
で露光手段10により目的画像情報の露光(レーザービ
ーム走査露光、原稿画像のスリット露光など)を受ける
ことで、その周面に目的の画像情報に対応した静電潜像
が形成される。
その潜像は次いで現像手段11によりトナー画像として
順次に可視像化されていく。
順次に可視像化されていく。
このトナー画像は、次いで、転写手段12により不図示
の給紙手段部から感光体1の回転と同期とりされて適正
なタイミングをもって感光体1と転写手段12との間の
転写部へ搬送された転写材14の面に順次に転写されて
いく。本例の転写手段12は転写ローラであり、転写材
14の裏からトナーと逆極性の帯電を行なうことで感光
体1面側のトナー画像が転写材14の表面側に転写され
ていく。
の給紙手段部から感光体1の回転と同期とりされて適正
なタイミングをもって感光体1と転写手段12との間の
転写部へ搬送された転写材14の面に順次に転写されて
いく。本例の転写手段12は転写ローラであり、転写材
14の裏からトナーと逆極性の帯電を行なうことで感光
体1面側のトナー画像が転写材14の表面側に転写され
ていく。
トナー画像の転写を受けた転写材14は感光体1面から
分離されて不図示の像定着手段へ搬送されて像定着を受
け、画像形成物として出力される。或いは裏面にも像形
成するものでは転写部への再搬送手段へ搬送される。
分離されて不図示の像定着手段へ搬送されて像定着を受
け、画像形成物として出力される。或いは裏面にも像形
成するものでは転写部への再搬送手段へ搬送される。
像転写後の感光体1面はクリーニング手段13で転写残
りトナー等の付着汚染物の除去を受けて清浄面化されて
繰り返して作像に供される。
りトナー等の付着汚染物の除去を受けて清浄面化されて
繰り返して作像に供される。
尚、後記(E)項に有機系感光体1についてその構成材
料等を具体的に例示した。
料等を具体的に例示した。
(C)帯電ローラ2
帯電ローラ2の導電層2bとしては、カーボン・金属・
金属酸化物等をゴムや樹脂に分散して体積抵抗値108
Ω・cm未満としたもの、又は体積抵抗値106Ω・c
m以上のゴムや樹脂の表面を108Ω・cm未満の導電
性物質でコート、又はラミネートしたものがよい。或は
芯金20に導電層2bを兼ねさせることもできる。
金属酸化物等をゴムや樹脂に分散して体積抵抗値108
Ω・cm未満としたもの、又は体積抵抗値106Ω・c
m以上のゴムや樹脂の表面を108Ω・cm未満の導電
性物質でコート、又はラミネートしたものがよい。或は
芯金20に導電層2bを兼ねさせることもできる。
抵抗層2aの体積抵抗値は、特願昭62−230334
号に示されるように導電層2bのそれよりも大きいこと
が必要であり、106〜1012Ω・cmがよい。
号に示されるように導電層2bのそれよりも大きいこと
が必要であり、106〜1012Ω・cmがよい。
この様な抵抗層2aを設けることにより、帯電ローラ2
が感光体1のピンホール1cに接触した時、ピンホール
1cに電流が大量に流れることで電源3の出力電圧が低
下してピンホールを中心としてローラ2のニップ方向全
域に帯電不良を生じて画像上に、正規現像では白すじ、
反転現像では黒すじ、を生じる(以下、ピンホール接触
時帯電不良と呼ぶ)のを防止できる。
が感光体1のピンホール1cに接触した時、ピンホール
1cに電流が大量に流れることで電源3の出力電圧が低
下してピンホールを中心としてローラ2のニップ方向全
域に帯電不良を生じて画像上に、正規現像では白すじ、
反転現像では黒すじ、を生じる(以下、ピンホール接触
時帯電不良と呼ぶ)のを防止できる。
抵抗層2aの厚さは薄すぎると抵抗層2aがどンホール
1cと接触した時通電破壊を起こし、ピンホール接触時
帯電不良が発生する。又、厚すぎるとローラ抵抗が高く
なり、帯電不良を生じる。
1cと接触した時通電破壊を起こし、ピンホール接触時
帯電不良が発生する。又、厚すぎるとローラ抵抗が高く
なり、帯電不良を生じる。
抵抗層2aの厚さは20μm以上、1mm未満が望まし
い。
い。
抵抗層2aの表面は表面粗さが粗いと感光体1との密着
性が悪くなり帯電不良を起こす。そこで感光体1との密
着性を高めるため十点平均粗さRzを10μm未満とし
ている。
性が悪くなり帯電不良を起こす。そこで感光体1との密
着性を高めるため十点平均粗さRzを10μm未満とし
ている。
ローラ硬度は高いとローラ表面のほんのわずかな凹凸で
も感光体1と隙間をつくり帯電不良を起こす。一方ロー
ラ硬度が低ければその弾性によりローラ表面に多少の凹
凸があっても良好に密着する。そのためローラ硬度はA
SKER−Cで90’未満が望ましい。
も感光体1と隙間をつくり帯電不良を起こす。一方ロー
ラ硬度が低ければその弾性によりローラ表面に多少の凹
凸があっても良好に密着する。そのためローラ硬度はA
SKER−Cで90’未満が望ましい。
本発明は上記のような抵抗層2aについて、前述したよ
うに抵抗材料を予め膜層体として成膜製造し、この膜層
体を導電層2b面に対して被着させた形態にして抵抗層
2aを形成具備させたことに特徴を有するものである。
うに抵抗材料を予め膜層体として成膜製造し、この膜層
体を導電層2b面に対して被着させた形態にして抵抗層
2aを形成具備させたことに特徴を有するものである。
具体的には抵抗層2aを構成させる抵抗材料を予めシー
ムレスチューブ状の膜層体の形態で成膜製造し、このシ
ームレスチューブの外嵌処理により帯電部材2の抵抗層
2aを構成させる、そのシームレスチューブを熱収縮チ
ューブとして製造してこの熱収縮チューブを外嵌し熱収
縮処理することで帯電部材2の抵抗層2aを構成させる
、シート状もしくはフィルム状に成膜製造し、その裁断
片を導電層2bの外面(外面全体、或は必要面部分)に
被着処理して帯電部材2の抵抗層2aを構成させるなど
である。
ムレスチューブ状の膜層体の形態で成膜製造し、このシ
ームレスチューブの外嵌処理により帯電部材2の抵抗層
2aを構成させる、そのシームレスチューブを熱収縮チ
ューブとして製造してこの熱収縮チューブを外嵌し熱収
縮処理することで帯電部材2の抵抗層2aを構成させる
、シート状もしくはフィルム状に成膜製造し、その裁断
片を導電層2bの外面(外面全体、或は必要面部分)に
被着処理して帯電部材2の抵抗層2aを構成させるなど
である。
上記何れの場合も第1図例のローラタイプの帯電部材2
、第2図例(a) (b)のプレード状タイプや、
ブロック状タイプもしくはロット状タイプなど各種形態
の帯電部材2の抵抗層2aの構成手段として採択できる
。
、第2図例(a) (b)のプレード状タイプや、
ブロック状タイプもしくはロット状タイプなど各種形態
の帯電部材2の抵抗層2aの構成手段として採択できる
。
■シームレスチューブの場合
抵抗層2aを構成させる抵抗材料のシームレスチューブ
体は熔融押出し法など、従来の一般的なプラスチック成
形加工法を利用して製造できる。
体は熔融押出し法など、従来の一般的なプラスチック成
形加工法を利用して製造できる。
抵抗層2aを構成させる抵抗材料はカーボン・金属・金
属酸化物等を分散し導電性を付与した樹脂或はゴム、又
はそれ自体が導電性を持つ樹脂或はゴム等である。
属酸化物等を分散し導電性を付与した樹脂或はゴム、又
はそれ自体が導電性を持つ樹脂或はゴム等である。
樹脂又はゴムとしては、イソプレンゴム・ブタジェンゴ
ム・スチレン−ブタジェンゴム・アクリロニトリルゴム
・アクリロニトリル−ブタジェンゴム・クロロプレンゴ
ム・アクリレートブタジェンゴム・シリコーンゴム・フ
ッ素ゴム・ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン・ポリ
エチレン・ポリプロピレン・PFA−FEP−PET・
酢酸ビニル・各種熱可塑性エラストマー・ポリウレタン
(ポリエステル系、ポリエーテル系)・エピクロルヒド
リンゴム・EPDM・ポリフッ化ビニリデン・ポリアミ
ド・ポリイミド・エポキシ・ポリビニルアルコール・ポ
リスチレン・ポリカーボネートなどを用いることができ
る。
ム・スチレン−ブタジェンゴム・アクリロニトリルゴム
・アクリロニトリル−ブタジェンゴム・クロロプレンゴ
ム・アクリレートブタジェンゴム・シリコーンゴム・フ
ッ素ゴム・ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン・ポリ
エチレン・ポリプロピレン・PFA−FEP−PET・
酢酸ビニル・各種熱可塑性エラストマー・ポリウレタン
(ポリエステル系、ポリエーテル系)・エピクロルヒド
リンゴム・EPDM・ポリフッ化ビニリデン・ポリアミ
ド・ポリイミド・エポキシ・ポリビニルアルコール・ポ
リスチレン・ポリカーボネートなどを用いることができ
る。
又、抵抗層2aに用いる材料は、親水性のものより疎水
性のものがよい。例えば親水性を持つナイロンにカーボ
ンを分散したもので抵抗層2aを構成した場合、その体
積抵抗値即ち帯電部材抵抗(以下、ローラ抵抗と記す)
はン笠度変化で2桁以上も変わる。つまり湿度により像
担持体たる感光帯1上の帯電電位が変わり、画像濃度・
ライン幅が大きく変わる。これに対し抵抗層2aにクロ
ロブレンゴム・スチレンブタジェンゴム・ポリ塩化ビニ
ル等の疎水性材料を用いれば、湿度によるローラ抵抗の
変化を小さくでき、常に安定した画像を得ることができ
る。
性のものがよい。例えば親水性を持つナイロンにカーボ
ンを分散したもので抵抗層2aを構成した場合、その体
積抵抗値即ち帯電部材抵抗(以下、ローラ抵抗と記す)
はン笠度変化で2桁以上も変わる。つまり湿度により像
担持体たる感光帯1上の帯電電位が変わり、画像濃度・
ライン幅が大きく変わる。これに対し抵抗層2aにクロ
ロブレンゴム・スチレンブタジェンゴム・ポリ塩化ビニ
ル等の疎水性材料を用いれば、湿度によるローラ抵抗の
変化を小さくでき、常に安定した画像を得ることができ
る。
シームレスチューブを導電層2bにかぶせる際、シーム
レスチューブの内径と導電層2bの外径が等しいか、ま
たはシームレスチューブの内径の方がわずかに大きいと
、抵抗層2aと導電層2bの間に隙間ができたり抵抗層
2a表面にしわがよったりして帯電不良を起こす。
レスチューブの内径と導電層2bの外径が等しいか、ま
たはシームレスチューブの内径の方がわずかに大きいと
、抵抗層2aと導電層2bの間に隙間ができたり抵抗層
2a表面にしわがよったりして帯電不良を起こす。
この問題は抵抗層2aと導電層2bの間に導電性接着層
を設けることで解決できる。しかし導電性接着層を用い
なくともシームレスチューブの内径を導電層2bの外径
より小さくし、シームレスチューブが導電層2bを締め
つける様な形で抵抗層2aと導電層2b間の密着性を高
めてやっても解決できる。この時、導電性接着層を設け
ても良いことは言うまでもない。
を設けることで解決できる。しかし導電性接着層を用い
なくともシームレスチューブの内径を導電層2bの外径
より小さくし、シームレスチューブが導電層2bを締め
つける様な形で抵抗層2aと導電層2b間の密着性を高
めてやっても解決できる。この時、導電性接着層を設け
ても良いことは言うまでもない。
チューブをかぶせる際はシームレスチューブ内にエアー
を吹きこむ等の手段で内径を広げながら導電層2bにか
ぶせる。チューブが硬いと内径を広げるのが難しいので
、シームレスチューブの硬度はJ I S−Aで90°
未満が望ましい。
を吹きこむ等の手段で内径を広げながら導電層2bにか
ぶせる。チューブが硬いと内径を広げるのが難しいので
、シームレスチューブの硬度はJ I S−Aで90°
未満が望ましい。
また、シームレスチューブの内径にと導電層2bの外径
りの比L/には101〜1り0%が良い。100%以下
だと前述の隙間しわ等の問題があり、150%以上だと
シームレスチューブの伸び率が部分的にばらつき、抵抗
層2aの抵抗値がローラ上で異なり、画像上に濃度むら
を生じる。
りの比L/には101〜1り0%が良い。100%以下
だと前述の隙間しわ等の問題があり、150%以上だと
シームレスチューブの伸び率が部分的にばらつき、抵抗
層2aの抵抗値がローラ上で異なり、画像上に濃度むら
を生じる。
かくして抵抗層2aにシームレスチューブを用いると、
溶剤を用いなくてすみ、乾燥工程が不要となり更に溶剤
による帯電部材2と感光体1との固着、感光体1の変質
といった問題がなくなる。
溶剤を用いなくてすみ、乾燥工程が不要となり更に溶剤
による帯電部材2と感光体1との固着、感光体1の変質
といった問題がなくなる。
更に抵抗層2aにシームレスチューブを用いると次の利
点がある。即ち第3図例のように導電層2bに外嵌処理
した抵抗層2aとしてのシームレスチューブの端部につ
いて導電層2bの端部Aよりも外方へ延長2a、させた
形態のものにすることができる。即ち導電層2bの端部
Aを抵抗層2aの延長部2a、で覆うようになっている
。
点がある。即ち第3図例のように導電層2bに外嵌処理
した抵抗層2aとしてのシームレスチューブの端部につ
いて導電層2bの端部Aよりも外方へ延長2a、させた
形態のものにすることができる。即ち導電層2bの端部
Aを抵抗層2aの延長部2a、で覆うようになっている
。
こうすることで導電層2bの端部Aから感光体lまでの
縁面距離が大きくとれ、感光体1のピンホール1cが端
部Aに接近して放電を起こし、電源電圧が低下、帯電不
良が発生するのぼ防止できる。
縁面距離が大きくとれ、感光体1のピンホール1cが端
部Aに接近して放電を起こし、電源電圧が低下、帯電不
良が発生するのぼ防止できる。
上記の構成は、導電層2bに該導電層よりも長い、抵抗
層としてのシームレスチューブ2aをかぶせてやること
できわめて簡単に実現できる。
層としてのシームレスチューブ2aをかぶせてやること
できわめて簡単に実現できる。
従来の抵抗材料塗工によりこの様な機能を得るには、第
6図(b)のように導電層/θ2fAの端部Aまでてい
ねいに抵抗材料を塗工処理/θ2すせねばならず、大変
な手間が必要であった。
6図(b)のように導電層/θ2fAの端部Aまでてい
ねいに抵抗材料を塗工処理/θ2すせねばならず、大変
な手間が必要であった。
ところでシームレスチューブの内径を広げられる程の低
硬度のゴム・樹脂の中にはそれ自体の接着性を持つもの
、或いは可塑剤等の低分子量成分をもつものがおおい。
硬度のゴム・樹脂の中にはそれ自体の接着性を持つもの
、或いは可塑剤等の低分子量成分をもつものがおおい。
そういったものでシームレスチューブを作りこれを抵抗
層2aとして外嵌処理して帯電部材2とした場合は、感
光体と固着したり、低分子量成分が感光体1に付着し、
所謂ローラ跡が発生することもある。
層2aとして外嵌処理して帯電部材2とした場合は、感
光体と固着したり、低分子量成分が感光体1に付着し、
所謂ローラ跡が発生することもある。
このような問題を解決するために、第4図例の帯電部材
2(ローラタイプ)は、そのような抵抗層2aの外周に
、更に第2抵抗層4aを設けたものである。
2(ローラタイプ)は、そのような抵抗層2aの外周に
、更に第2抵抗層4aを設けたものである。
第2抵抗層4aの材質としてはポリ塩化ビニル・ポリ塩
化ビニリデン・ポリエチレン・ポリオレフィン・PFA
−FEP−PET・ポリフッ化ビニリデン・アクリル・
ナイロン等の接着性もなく可塑剤も少ない樹脂にカーボ
ン・金属・金属酸化物等を分散させて体積抵抗値を10
8〜1012Ω・cmとした樹脂、或はメトキシメチル
化ナイロン・ポリフッ化ビニリデン・ポリチオフェン・
ポロビロール・ポリアセチレン等のように樹脂自体が導
電性を持つものを用いる。膜厚は厚くするとローラ硬度
が上るので5〜50μm程度が望ましい。
化ビニリデン・ポリエチレン・ポリオレフィン・PFA
−FEP−PET・ポリフッ化ビニリデン・アクリル・
ナイロン等の接着性もなく可塑剤も少ない樹脂にカーボ
ン・金属・金属酸化物等を分散させて体積抵抗値を10
8〜1012Ω・cmとした樹脂、或はメトキシメチル
化ナイロン・ポリフッ化ビニリデン・ポリチオフェン・
ポロビロール・ポリアセチレン等のように樹脂自体が導
電性を持つものを用いる。膜厚は厚くするとローラ硬度
が上るので5〜50μm程度が望ましい。
この様に厚さの薄い第2抵抗層4aを設けることで抵抗
層2aに接着性があったり、可塑剤を含む低硬度ゴム又
は樹脂を用いても所謂ローラ跡は出ない。
層2aに接着性があったり、可塑剤を含む低硬度ゴム又
は樹脂を用いても所謂ローラ跡は出ない。
導電層2bに例えば発泡体の様な低硬度の物を使い、該
導電層2bを押し縮めながら抵抗層2aとしてのシーム
レスチューブを外嵌処理すればチューブの硬度は高くて
もよい。この場合本発明者の検討したところではローラ
硬度はASKER−C40’以下でなければならない。
導電層2bを押し縮めながら抵抗層2aとしてのシーム
レスチューブを外嵌処理すればチューブの硬度は高くて
もよい。この場合本発明者の検討したところではローラ
硬度はASKER−C40’以下でなければならない。
この場合、抵抗層に低硬度材料を用いてもよいのはいう
までもない。シームレスチューブ2aの内径にと、押し
縮める前の導電層2bの外径りの比L/には101〜1
50%が良い。100%以下だと前述の隙間・しわ等の
問題があり、150%以上だと導電層2bがかなり押し
縮められるのでローラ硬度全体が高くなってしまうから
である。
までもない。シームレスチューブ2aの内径にと、押し
縮める前の導電層2bの外径りの比L/には101〜1
50%が良い。100%以下だと前述の隙間・しわ等の
問題があり、150%以上だと導電層2bがかなり押し
縮められるのでローラ硬度全体が高くなってしまうから
である。
以上の様に導電層2bを低硬度とすることで、抵抗層2
aとしてのシームレスチューブを高硬度としてチューブ
成分の移行の少ない材料を用いることができる竺従って
先述第4図例のものにおけるような第2抵抗層4aも必
要がなくなる。
aとしてのシームレスチューブを高硬度としてチューブ
成分の移行の少ない材料を用いることができる竺従って
先述第4図例のものにおけるような第2抵抗層4aも必
要がなくなる。
■熱収縮性シームレスチューブの場合
抵抗層2aを構成させるシームレスチューブを熱収縮チ
ューブにすると、チューブ2aも導電層2bも高硬度の
ままチューブ2aを導電層2bにかぶせることが可能で
ある。
ューブにすると、チューブ2aも導電層2bも高硬度の
ままチューブ2aを導電層2bにかぶせることが可能で
ある。
この時、チューブ2aと導電層2bのどちらか片方或は
両方が低硬度であってもよいのはいうまでもない。
両方が低硬度であってもよいのはいうまでもない。
熱収縮チューブの材質はポリ塩化ビニル・ポリエチレン
・ポリオレフィン・PFA−FEP・塩素化ゴム・シリ
コンゴム等の樹脂、ゴムにカーボン・金属・金属酸化物
等を分散したもの、或は導電性樹脂と混練したものを用
いる。
・ポリオレフィン・PFA−FEP・塩素化ゴム・シリ
コンゴム等の樹脂、ゴムにカーボン・金属・金属酸化物
等を分散したもの、或は導電性樹脂と混練したものを用
いる。
特にポリ塩化ビニル・ポリエチレンを用いたチューブは
、均一に収縮させることができ、ローラ上での抵抗値の
ばらつきを小さくできる。
、均一に収縮させることができ、ローラ上での抵抗値の
ばらつきを小さくできる。
熱収縮チューブはこれらの材料を熔融押出した後、10
1〜200%程度延伸処理することで作成する。
1〜200%程度延伸処理することで作成する。
延伸比はチューブの円周方向の延伸比をチューブの軸方
向の延伸比より大きくしなければならない。なぜなら収
縮させた時にチューブ軸方向に収縮すると均一に収縮さ
せるのが難しくローラ上で抵抗値がばらつき、画像上に
濃度むらを生じる。
向の延伸比より大きくしなければならない。なぜなら収
縮させた時にチューブ軸方向に収縮すると均一に収縮さ
せるのが難しくローラ上で抵抗値がばらつき、画像上に
濃度むらを生じる。
又、熱収縮チューブの収縮前の内径Hと導電層2bの外
径Iとの比H/Iは101〜200%がよい。100%
以下だとチューブ2aを導電層2bにかぶせるのが難し
く、200%より大きいと均一に収縮しなくなりローラ
上で抵抗値がばらつく。
径Iとの比H/Iは101〜200%がよい。100%
以下だとチューブ2aを導電層2bにかぶせるのが難し
く、200%より大きいと均一に収縮しなくなりローラ
上で抵抗値がばらつく。
熱収縮チューブの収縮に際しては普通の空気よりは水蒸
気等の高熱容量気体、或は湯等の液体を用いるのがよい
。その方が均一な収縮を行うことができる。
気等の高熱容量気体、或は湯等の液体を用いるのがよい
。その方が均一な収縮を行うことができる。
導電層2bのローラ硬度は低すぎると収縮チューブをか
ぶせた際にローラの外径寸法・真円度2等の精度がなく
なり、帯電不良を生じるため、ASKER−Cで30部
以上が望ましい。
ぶせた際にローラの外径寸法・真円度2等の精度がなく
なり、帯電不良を生じるため、ASKER−Cで30部
以上が望ましい。
また、熱収縮チューブを第4図例のような第2抵抗層4
aとして用いてもよい。
aとして用いてもよい。
(D)実行例
■実施例1(シームレスチューブ使用)a)有機感光体
使用する被帯電部材として下記の要領にて有機感光体を
作成した。
作成した。
基体1bとして肉厚0.5mmで60φ×260111
mのアルミニウムシリンダを用意した。
mのアルミニウムシリンダを用意した。
共重合ナイロン(商品名:CM8000、東し■製)4
部およびタイプ8ナイロン(商品名ニラツカマイト50
03、大日本インキ■製)4部をメタノール50部・n
−ブタノール50部に溶解し、上記基体上に浸漬塗布し
て0.6μm厚のポリアミド下引き層を形成した。
部およびタイプ8ナイロン(商品名ニラツカマイト50
03、大日本インキ■製)4部をメタノール50部・n
−ブタノール50部に溶解し、上記基体上に浸漬塗布し
て0.6μm厚のポリアミド下引き層を形成した。
次にε−銅フタロシアニン(東洋インキ■製)20部、
ポリビニルブチラール(エスレックBL−S、積木化学
製)10部、メチルエチルケトン70部をサンドミルで
分散した。この分散液を先の下引き層の上に浸漬塗工し
て膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
ポリビニルブチラール(エスレックBL−S、積木化学
製)10部、メチルエチルケトン70部をサンドミルで
分散した。この分散液を先の下引き層の上に浸漬塗工し
て膜厚0.2μmの電荷発生層を形成した。
ポリカーボネートZ樹脂(三菱瓦斯化学■製)の、重量
平均分子量12万のもの10部を用意し、下記構造式の
ヒドラゾン化合物10部と共にモノクロルベンゼン80
部に溶解した。
平均分子量12万のもの10部を用意し、下記構造式の
ヒドラゾン化合物10部と共にモノクロルベンゼン80
部に溶解した。
これを上記電荷発生層上に塗布して18μm厚の電荷輸
送層を形成して有機感光体を作成した。
送層を形成して有機感光体を作成した。
b)帯電ローラ基層N o 、1
使用する帯電ローラ2の抵抗層2aを形成する前までの
ローラ体を帯電ローラ基層N o 、1としてそれを下
記の要領にて作成した。
ローラ体を帯電ローラ基層N o 、1としてそれを下
記の要領にて作成した。
導電層2bの材料としてクロロブレンゴム100重量部
に導電性カーボン10重量なLkL4肴支し、中心に芯
金20としての10φのステンレス軸を通して20φX
240mmになる様に底型して帯電ローラ基層No、I
を作成した。
に導電性カーボン10重量なLkL4肴支し、中心に芯
金20としての10φのステンレス軸を通して20φX
240mmになる様に底型して帯電ローラ基層No、I
を作成した。
この帯電ローラ基層N o 、1のローラ硬度はASK
ER−Cで50”であった。
ER−Cで50”であった。
またこの帯電ローラ基層N091の抵抗値を下記のよう
にして測定した。
にして測定した。
即ち、第5図に示すように被測定ローラ200(帯電ロ
ーラ基層N o 、1)上に幅10mmのアルミ箔20
1を巻き、芯金と該アルミ箔間に電源202により直流
IKVを印加し電流を計測し、芯金とアルミ箔間の抵抗
値を測る。以下この抵抗値をローラ抵抗と呼ぶ。
ーラ基層N o 、1)上に幅10mmのアルミ箔20
1を巻き、芯金と該アルミ箔間に電源202により直流
IKVを印加し電流を計測し、芯金とアルミ箔間の抵抗
値を測る。以下この抵抗値をローラ抵抗と呼ぶ。
帯電ローラ基層N001のローラ抵抗は温度15°C−
湿度10%時(以下り環境と呼ぶ)では3X10’Ω、
温度32.5’ C・湿度85%時(以下H環境と呼ぶ
)ではI X 10’Ωだった。
湿度10%時(以下り環境と呼ぶ)では3X10’Ω、
温度32.5’ C・湿度85%時(以下H環境と呼ぶ
)ではI X 10’Ωだった。
C)帯電ローラ2
帯電ローラ2の抵抗層2aを構成する抵抗材料として、
クロロプレンゴム700重量部と導電性カーボン 2
重量部をyl=−滌芳執し、押出成形により内径19.
5mm−肉厚0.5mff1”長さ245mmのシーム
レスチューブを作成した。このシームレスチューブを作
成したのと同じ抵抗材料で厚さ/2[IIrnのテスト
ピースを作り硬度を測定したところJIS−Aで60”
であった。
クロロプレンゴム700重量部と導電性カーボン 2
重量部をyl=−滌芳執し、押出成形により内径19.
5mm−肉厚0.5mff1”長さ245mmのシーム
レスチューブを作成した。このシームレスチューブを作
成したのと同じ抵抗材料で厚さ/2[IIrnのテスト
ピースを作り硬度を測定したところJIS−Aで60”
であった。
上記シームレスチューブの一端からエアーを吹き込みチ
ューブをふくらましながら該チューブに前記b)項で作
成した帯電ローラ基層N091を挿入して該帯電ローラ
基層No、1の外周にシームレスチューブを外嵌被着処
理することで、外周に抵抗層2aを形成した帯電ローラ
2を作成した。
ューブをふくらましながら該チューブに前記b)項で作
成した帯電ローラ基層N091を挿入して該帯電ローラ
基層No、1の外周にシームレスチューブを外嵌被着処
理することで、外周に抵抗層2aを形成した帯電ローラ
2を作成した。
この帯電ローラ2のローラ抵抗を前記帯電ローラ基層N
o、1と同様の要領でL環境とH環境で測定した。その
結果を表1に示す。
o、1と同様の要領でL環境とH環境で測定した。その
結果を表1に示す。
d)性能
レーザビームプリンターLBP−8(キャノン社製〉に
、感光体として前記a)項で作成した有機感光体を装着
し、−次帯電手段として上記C)項で作成した帯電ロー
ラ2を含む接触帯電装置を装着して画像形成を実行させ
る。
、感光体として前記a)項で作成した有機感光体を装着
し、−次帯電手段として上記C)項で作成した帯電ロー
ラ2を含む接触帯電装置を装着して画像形成を実行させ
る。
帯電ローラ2には直流電圧−750vと交流ピーク間電
圧1800Vの重畳電圧を印加して感光体の一次帯電処
理を行なわせ、感光体上の帯電電位なL環境とH環境で
測定した。その結果を表1に示す。
圧1800Vの重畳電圧を印加して感光体の一次帯電処
理を行なわせ、感光体上の帯電電位なL環境とH環境で
測定した。その結果を表1に示す。
加えて、画像濃度、及び感光体上にll0DIのピンホ
ールを開けた場合の画像をL−Hの両環境で検討した。
ールを開けた場合の画像をL−Hの両環境で検討した。
また該帯電ローラ2を32,5°C下で7日間、感光体
に密着放置させた後、ローラと感光体が固着するか、出
力画像上に所謂ローラ踏力S出るかを検討した。これ等
の結果を表1に示す。
に密着放置させた後、ローラと感光体が固着するか、出
力画像上に所謂ローラ踏力S出るかを検討した。これ等
の結果を表1に示す。
■実施例2(シームレスチューブ使用)帯電ローラ2の
抵抗層2aを構成する抵抗材料として、スチレン−ブタ
ジェンゴム100重量部と導電性カーボン 2重量部
を洪klJjIILし、押出成形により硬度J I 5
−A80″″ ・内径19.5mm”肉厚o、smm”
長さ245mmのシームレスチューブを作成した。
抵抗層2aを構成する抵抗材料として、スチレン−ブタ
ジェンゴム100重量部と導電性カーボン 2重量部
を洪klJjIILし、押出成形により硬度J I 5
−A80″″ ・内径19.5mm”肉厚o、smm”
長さ245mmのシームレスチューブを作成した。
そして実施例1の帯電ローラ基層NO61の外周に該シ
ームレスチューブを実、流側1と同要領で外嵌被着処理
して外周に抵抗層2aを形成した帯電ローラ2を作成し
た。
ームレスチューブを実、流側1と同要領で外嵌被着処理
して外周に抵抗層2aを形成した帯電ローラ2を作成し
た。
この帯電ローラ2について実施例1と同様に測定・評価
を行ない、その結果を表1に示した。
を行ない、その結果を表1に示した。
■実施例3(第2抵抗層付加)
アルコール可溶ナイロン10重量部に導電性カーボンQ
、2重量部、メタノール90重量部をボールミルで分散
し、この分散液を実施例12で作成した帯電ローラ2上
に浸漬塗工して100”C・60分間乾燥し、乾燥後の
膜厚20μmの第2抵抗層を設けた帯電ローラ2を作成
した。
、2重量部、メタノール90重量部をボールミルで分散
し、この分散液を実施例12で作成した帯電ローラ2上
に浸漬塗工して100”C・60分間乾燥し、乾燥後の
膜厚20μmの第2抵抗層を設けた帯電ローラ2を作成
した。
この帯電ローラ2について実施例1と同様に測定・評価
を行ない、その結果を表1に示した。
を行ない、その結果を表1に示した。
■比較例1(抵抗層なし)
実施例1において、該実施例1のb)項で作成した帯電
ローラ基層No、1をその外周に抵抗層の形成処理なせ
ずに、そのまま帯電ローラとして用いて実施例1と同様
の測定・・評価を行なった。その結果を表2に示す。
ローラ基層No、1をその外周に抵抗層の形成処理なせ
ずに、そのまま帯電ローラとして用いて実施例1と同様
の測定・・評価を行なった。その結果を表2に示す。
■比較例2(コーティング抵抗層)
抵抗層を構成する抵抗材料として、クロロブレンゴム1
0重量部に導電性カーボン0.2重量部、メチルエチル
ケトン90重量部を加えてボールミルで分散したものを
実施例1のb)項で作成した帯電ローラ基層N011上
に浸漬塗工して1♂o”c・70才間乾燥し、乾燥後の
膜厚を300μmとしたコートタイプの抵抗層を形成し
た帯電ローラを作成した。
0重量部に導電性カーボン0.2重量部、メチルエチル
ケトン90重量部を加えてボールミルで分散したものを
実施例1のb)項で作成した帯電ローラ基層N011上
に浸漬塗工して1♂o”c・70才間乾燥し、乾燥後の
膜厚を300μmとしたコートタイプの抵抗層を形成し
た帯電ローラを作成した。
この帯電ローラについて実施例1と同様に測定・評価を
行ない、その結果を表2に示した。
行ない、その結果を表2に示した。
■比較例3(コーティング抵抗層)
抵抗層を構成する抵抗材料として、スチレン−ブタジェ
ンゴム10重量部に導電性カーボン0.2重量部、メチ
ルエチルケトン90重量部を加えてボールミルで分散し
たものを実施例1のb)項で作成した帯電ローラ基層N
o 、1上に浸漬塗工して1jO°C・/1)41間
乾燥し、乾燥後の膜厚を300μmとしたコー、トタイ
ブの抵抗層を形成した帯電ローラを作成した。
ンゴム10重量部に導電性カーボン0.2重量部、メチ
ルエチルケトン90重量部を加えてボールミルで分散し
たものを実施例1のb)項で作成した帯電ローラ基層N
o 、1上に浸漬塗工して1jO°C・/1)41間
乾燥し、乾燥後の膜厚を300μmとしたコー、トタイ
ブの抵抗層を形成した帯電ローラを作成した。
この帯電ローラについて実施例1と同様に測定・評価を
行ない、その結果を表2に示した。
行ない、その結果を表2に示した。
■比較例4(第2抵抗層付加)
アルコール可溶ナイロン10重量部に導電性カーボン0
.2重量部、メタノール90重量部をボールミルで分散
し、この分散液を比較例3で作成した帯電ローラ上に浸
漬塗工して100″C・60分間乾燥し、乾燥後膜厚な
20μmとした第2抵抗層を設けた帯電ローラを作成し
た。
.2重量部、メタノール90重量部をボールミルで分散
し、この分散液を比較例3で作成した帯電ローラ上に浸
漬塗工して100″C・60分間乾燥し、乾燥後膜厚な
20μmとした第2抵抗層を設けた帯電ローラを作成し
た。
この帯電ローラについて実施例1と同様に測定・評価を
行ない、その結果を表2に示した。
行ない、その結果を表2に示した。
■比較例5(コーティング抵抗層、減圧乾燥)抵抗層を
構成する抵抗材料として、アルコール可溶ナイロンaf
i量部に、導電性カーボン0.1重量部・メタノール5
0重量部・ブタノール50重量部を加えてボールミルで
分散し、この分散液を実施例1のb)項で作成した帯電
ローラ基層N o 、1上に浸漬塗工して100°C・
24時間・減圧乾燥し、乾燥後膜厚を200μmとした
コートタイプの抵抗層を形成した帯電ローラを作成した
。
構成する抵抗材料として、アルコール可溶ナイロンaf
i量部に、導電性カーボン0.1重量部・メタノール5
0重量部・ブタノール50重量部を加えてボールミルで
分散し、この分散液を実施例1のb)項で作成した帯電
ローラ基層N o 、1上に浸漬塗工して100°C・
24時間・減圧乾燥し、乾燥後膜厚を200μmとした
コートタイプの抵抗層を形成した帯電ローラを作成した
。
この帯電ローラに9いて実施例1と同様に測定・評価を
行ない、その結果を表2に示した。
行ない、その結果を表2に示した。
実施例1〜3と比較例1を比べると、抵抗層を設ける事
によりピンホール接触時、帯電不良による黒すじが防止
されているのがわかる。
によりピンホール接触時、帯電不良による黒すじが防止
されているのがわかる。
次に比較例2と実施例1を比べると、比較例2では溶剤
型クロロプレンが70間乾燥しても残留溶剤によりロー
ラ跡が出るのに対し、実施例1ではクロロプレンチュー
ブに溶剤を用いないため、乾燥の必要もなく、かつロー
ラ跡もでない。
型クロロプレンが70間乾燥しても残留溶剤によりロー
ラ跡が出るのに対し、実施例1ではクロロプレンチュー
ブに溶剤を用いないため、乾燥の必要もなく、かつロー
ラ跡もでない。
比較例3と実施例2では、溶剤型スチレン−ブタジェン
ゴムチューブのいずれもがローラ跡を生じている。しか
しそのローラ上にナイロンを塗布した比較例4と実施例
3において、溶剤型ではローラ跡がない。これはローラ
跡の原因が比較例3・4ではスチレン−ブタジェンゴム
中の残留溶剤であり、その溶剤がナイロンを通過して感
光体に達するのに対し、実施例2ではローラ跡の原因が
ゴム中の非溶剤成分であり、それはナイロンを通過する
事ができないからである。
ゴムチューブのいずれもがローラ跡を生じている。しか
しそのローラ上にナイロンを塗布した比較例4と実施例
3において、溶剤型ではローラ跡がない。これはローラ
跡の原因が比較例3・4ではスチレン−ブタジェンゴム
中の残留溶剤であり、その溶剤がナイロンを通過して感
光体に達するのに対し、実施例2ではローラ跡の原因が
ゴム中の非溶剤成分であり、それはナイロンを通過する
事ができないからである。
また、比較例5のナイロンではし環境とH環境でローラ
抵抗が大きく変動し、画像濃度の変動、さらにはH環境
で抵抗層の抵抗値が下がり、ピンホール接触時帯電不良
による黒すじを生じている。これに対し、実施例1〜3
のいずれもローラ抵抗の変動は少なく、画像濃度も常に
正常であり、ピンホール接触時帯電不良もない。
抵抗が大きく変動し、画像濃度の変動、さらにはH環境
で抵抗層の抵抗値が下がり、ピンホール接触時帯電不良
による黒すじを生じている。これに対し、実施例1〜3
のいずれもローラ抵抗の変動は少なく、画像濃度も常に
正常であり、ピンホール接触時帯電不良もない。
加えて実施例1〜3のいずれもチューブにしわがよった
り、チューブと導電層の間が浮いたりして帯電不良を生
じる事はない。
り、チューブと導電層の間が浮いたりして帯電不良を生
じる事はない。
■実施例4(シームレスチューブ使用)a)帯電ローラ
基層N o 、2 使用する帯電ローラ2の抵抗層2aを形成する前までの
ローラ体を帯電ローラ基層N o 、2としてそれを下
記の要領で作成した。
基層N o 、2 使用する帯電ローラ2の抵抗層2aを形成する前までの
ローラ体を帯電ローラ基層N o 、2としてそれを下
記の要領で作成した。
導電層2bの材料としてポリウレタン樹脂ioo重量部
に対し導電性カーボン10重量部を含む発泡ポリウレタ
ンを用意し、芯金20として中心にlOφのステンレス
軸を通して2oφ×240 Ilmになる様に成型して
帯電ローラ基層N o 、2を作成した。
に対し導電性カーボン10重量部を含む発泡ポリウレタ
ンを用意し、芯金20として中心にlOφのステンレス
軸を通して2oφ×240 Ilmになる様に成型して
帯電ローラ基層N o 、2を作成した。
この帯電ローラ基層N o 、2のローラ硬度はASK
ER−Cで25@であった。
ER−Cで25@であった。
また実施例1のb)項と同様の要領(第5図)で該帯電
ローラ基層N o 、2のローラ抵抗を測定したところ
、L環境で2X 10’Ω、H環境で7×103Ωであ
った。
ローラ基層N o 、2のローラ抵抗を測定したところ
、L環境で2X 10’Ω、H環境で7×103Ωであ
った。
b)帯電ローラ2
帯電ローラ2の抵抗層2aを構成する抵抗材料として、
ポリエチレン10重量部と導電性カーボン0.2重量部
を熔融混練し、押出成形により内径19.0ma+・肉
厚0.3mm・長さ245++mのシームレスチューブ
を作成した。このチューブを作成したのと同じ抵抗材料
で厚さ5ωmのテストピースを作り、硬度を測定したと
ころ、J I S−Aで97°であった。
ポリエチレン10重量部と導電性カーボン0.2重量部
を熔融混練し、押出成形により内径19.0ma+・肉
厚0.3mm・長さ245++mのシームレスチューブ
を作成した。このチューブを作成したのと同じ抵抗材料
で厚さ5ωmのテストピースを作り、硬度を測定したと
ころ、J I S−Aで97°であった。
このシームレスチューブ内に前記a)の帯電ローラ基層
N o 、2を押し縮めながら挿入し、外周に該シーム
レスチューブを外嵌被着処理することで、外周に抵抗層
2aを形成した帯電ローラ2を作成した。
N o 、2を押し縮めながら挿入し、外周に該シーム
レスチューブを外嵌被着処理することで、外周に抵抗層
2aを形成した帯電ローラ2を作成した。
この帯電ローラ2について実施例1と同様に測定・評価
を行ない、その結果を表3に示した。
を行ない、その結果を表3に示した。
この実施例4では第2抵抗層がなくてもローラの固着、
ローラ跡も発生していない。
ローラ跡も発生していない。
またチューブ材に用いたカーボン分散ポリエチレンは抵
抗値の湿度変化もなく、安定した画像濃度を得られる。
抗値の湿度変化もなく、安定した画像濃度を得られる。
[相]実施例5(熱収縮チューブ使用)帯電ローラ2の
抵抗層2aを構成する抵抗材料としてポリ塩化ビニル1
0!!量部と導電性カーボン0.2重量部を熔融混練し
、押出成型により内径18.0IlaI・肉厚0.3m
m+のシームレスチューブにし、これが完全に冷却する
前にチューブ内にエアーを吹き込み延伸を行ない、内径
25.011111・長さ250III11の熱収縮チ
ューブを作成した。
抵抗層2aを構成する抵抗材料としてポリ塩化ビニル1
0!!量部と導電性カーボン0.2重量部を熔融混練し
、押出成型により内径18.0IlaI・肉厚0.3m
m+のシームレスチューブにし、これが完全に冷却する
前にチューブ内にエアーを吹き込み延伸を行ない、内径
25.011111・長さ250III11の熱収縮チ
ューブを作成した。
この熱収縮チューブを実施例1のb)項で作成した帯電
ローラ基層No、Iにかぶせ、120″Cの水蒸気中に
3分間放置し、チューブを内径19.8mm・長さ24
5■まで熱収縮させて帯電ローラ基層No、lの外周に
密着処理することで、外周に抵抗層2aを形成した帯電
ローラ2を作成した。
ローラ基層No、Iにかぶせ、120″Cの水蒸気中に
3分間放置し、チューブを内径19.8mm・長さ24
5■まで熱収縮させて帯電ローラ基層No、lの外周に
密着処理することで、外周に抵抗層2aを形成した帯電
ローラ2を作成した。
この帯電ローラについて実施例1と同様に測定・評価を
行ない、その結果を表3に示した。
行ない、その結果を表3に示した。
■実施例6(第2抵抗層付加〉
ポリ塩化ビニル10重量部と導電性カーボン0.2重量
部を熔融混練し、押出成がやにより内径18、On+I
+1−肉厚0.05mmのシームレスチューブにし、こ
れが完全に冷却する前にチューブ内にエアーを吹き込み
延伸を行ない、内径25.0mm・長さ250 mmの
熱収縮チューブを作成した。
部を熔融混練し、押出成がやにより内径18、On+I
+1−肉厚0.05mmのシームレスチューブにし、こ
れが完全に冷却する前にチューブ内にエアーを吹き込み
延伸を行ない、内径25.0mm・長さ250 mmの
熱収縮チューブを作成した。
この熱収縮チューブを実施例2で作成した帯電ローラに
かぶせ、120’Cの水蒸気中に3分間放置し、チュー
ブを内径19.8mm−長さ245ml11まで収縮・
密着させて第2抵抗層を設けた帯電ローラを作成した。
かぶせ、120’Cの水蒸気中に3分間放置し、チュー
ブを内径19.8mm−長さ245ml11まで収縮・
密着させて第2抵抗層を設けた帯電ローラを作成した。
この帯電ローラ2について実施例1と同様に測定・評価
を行ない、その結果を表3に示した。
を行ない、その結果を表3に示した。
@実施例7(熱収縮チューブ使用)
ポリエチレン 10重量部と導電性カーボン0.2重
置部を熔融混練し、押出成形により内径19.5aun
・肉厚0.3mmのシームレスチューブにし、これが完
全に冷却する前にチューブ内にエアーを吹き込み延伸を
行ない、内径25.0mm・長さ250IIImの熱収
縮チューブを作成した。
置部を熔融混練し、押出成形により内径19.5aun
・肉厚0.3mmのシームレスチューブにし、これが完
全に冷却する前にチューブ内にエアーを吹き込み延伸を
行ない、内径25.0mm・長さ250IIImの熱収
縮チューブを作成した。
この熱収縮チューブを実施例1のb)項の帯電ローラ基
層No、1にかぶせ、120”Cの水蒸気中に3分間放
置し、チューブを内径19.8+nm、長さ245mm
まで収縮・密着させて外周に抵抗層2aを形成した帯電
ローラ2を作成した。
層No、1にかぶせ、120”Cの水蒸気中に3分間放
置し、チューブを内径19.8+nm、長さ245mm
まで収縮・密着させて外周に抵抗層2aを形成した帯電
ローラ2を作成した。
この帯電ローラ2について実施例1と同様に測定・評価
を行ない、その結果を表3に示した。
を行ない、その結果を表3に示した。
実施例4〜7のいずれもローラの固着、ローラ跡の発生
がない。
がない。
さらに、チューブと導電層あるいはチューブとチューブ
にうきがなくてチューブにしわがよる事もなく、正常な
帯電が可能である。
にうきがなくてチューブにしわがよる事もなく、正常な
帯電が可能である。
(E)有機感光体
本発明の帯電装置に依れば、前記(作用)の項で説明し
たように、被帯電体が画像形成装置の像担持体であり、
それが溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっても帯
電部材側からの溶剤しみ出しの問題はないから、安価な
有機系感光体と接触帯電装置を利用して経済的に有利な
画像形成装置を構成することが可能である。
たように、被帯電体が画像形成装置の像担持体であり、
それが溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっても帯
電部材側からの溶剤しみ出しの問題はないから、安価な
有機系感光体と接触帯電装置を利用して経済的に有利な
画像形成装置を構成することが可能である。
以下有機系感光体の構成例を記す。
■感光層は、導電層を有する基体の上に設けられる。導
電層を有する基体としては、基体自体が導電性をもつも
の、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛
ステンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン
、ニッケル、インジウム、金や白金などを用いることが
できる。そのほかにアルミニウム、アルミニウム合金、
酸化インジウム−酸化錫合金などを真空蒸着によって被
膜形成された層を有するプラスチック(例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂
、ポリフッ化エチレンなど)、導電性粒子(例えばカー
ボンブラック、酸化錫粒子など)を適当なバインダーと
ともにプラスチックや紙に含浸した基体、導電性バイン
ダーを有するプラスチックなどを用いることができる。
電層を有する基体としては、基体自体が導電性をもつも
の、例えばアルミニウム、アルミニウム合金、銅、亜鉛
ステンレス、バナジウム、モリブデン、クロム、チタン
、ニッケル、インジウム、金や白金などを用いることが
できる。そのほかにアルミニウム、アルミニウム合金、
酸化インジウム−酸化錫合金などを真空蒸着によって被
膜形成された層を有するプラスチック(例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂
、ポリフッ化エチレンなど)、導電性粒子(例えばカー
ボンブラック、酸化錫粒子など)を適当なバインダーと
ともにプラスチックや紙に含浸した基体、導電性バイン
ダーを有するプラスチックなどを用いることができる。
■導電層と感光層の中間に、バリヤー機能と接着機能を
もつ下引層を設けることもできる。下引層はカゼイン、
ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸コポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイ
ロン66、ナイロン610、共重合ナイロンなど)、ポ
リウレタン、ゼラチン、酸化アルミニウムなどによって
形成できる。下引層の膜厚は、5μm以下好ましくは0
.5〜3μmが適当である。バリヤー層はその機能を発
揮するためには、107Ωcm以上であることが望まし
い。
もつ下引層を設けることもできる。下引層はカゼイン、
ポリビニルアルコール、ニトロセルロース、エチレン−
アクリル酸コポリマー、ポリアミド(ナイロン6、ナイ
ロン66、ナイロン610、共重合ナイロンなど)、ポ
リウレタン、ゼラチン、酸化アルミニウムなどによって
形成できる。下引層の膜厚は、5μm以下好ましくは0
.5〜3μmが適当である。バリヤー層はその機能を発
揮するためには、107Ωcm以上であることが望まし
い。
■感光層はたとえば、フタロシアニン顔料、アゾ顔料な
どの光導電体を必要に応じて結着剤と共に塗料化して塗
布形成される。また、有機光導電体を用いる場合、露光
により電荷担体を発生する電荷発生層と、発生した電荷
担体を輸送する能力を持つ電荷輸送層との組み合わせか
らなる感光層も有効に用いることができる。
どの光導電体を必要に応じて結着剤と共に塗料化して塗
布形成される。また、有機光導電体を用いる場合、露光
により電荷担体を発生する電荷発生層と、発生した電荷
担体を輸送する能力を持つ電荷輸送層との組み合わせか
らなる感光層も有効に用いることができる。
■電荷発生層は、スーダンレッド、ダイアンブルー ジ
エナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴールイエロー
ビノンキノン、インダンスレンブリリアントバイオレ
ットRRPなとのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリ
レン顔料、インジゴ、チオインジゴ顔料等のインジゴ顔
料、インドファーストオレンジトナーなどのビスベンゾ
イミダゾール顔料、銅フタロシアニンなどのフタロシア
ニン顔料、キナクドリン顔料等の電荷発生層の1種類あ
るいは2種類以上を蒸着するか、または適当なバインダ
ーと共に(バインダーが無くても可)分散し塗工によっ
て形成できる。バインダーとしては広範な絶縁性樹脂ま
たは有機光導電性ポリマーから選択できる。たとえば絶
縁性樹脂としてはポリビニルブチラール、ボリアリレー
ト(ビスフェノールAとフタル酸の縮重合体等)、ポリ
カーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポ
リアミド、ポリビニルどリジン、セルロース系樹脂、ウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアル
コール、ポリビニルどロリドンなどをあげることができ
る。又、有機光導電性ポリマーとしては、カルバゾール
、ポリビニルアントラセン、ポルビニルピレンなどが挙
げられる。
エナスグリーンBなどのアゾ顔料、アルゴールイエロー
ビノンキノン、インダンスレンブリリアントバイオレ
ットRRPなとのキノン顔料、キノシアニン顔料、ペリ
レン顔料、インジゴ、チオインジゴ顔料等のインジゴ顔
料、インドファーストオレンジトナーなどのビスベンゾ
イミダゾール顔料、銅フタロシアニンなどのフタロシア
ニン顔料、キナクドリン顔料等の電荷発生層の1種類あ
るいは2種類以上を蒸着するか、または適当なバインダ
ーと共に(バインダーが無くても可)分散し塗工によっ
て形成できる。バインダーとしては広範な絶縁性樹脂ま
たは有機光導電性ポリマーから選択できる。たとえば絶
縁性樹脂としてはポリビニルブチラール、ボリアリレー
ト(ビスフェノールAとフタル酸の縮重合体等)、ポリ
カーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢
酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポ
リアミド、ポリビニルどリジン、セルロース系樹脂、ウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアル
コール、ポリビニルどロリドンなどをあげることができ
る。又、有機光導電性ポリマーとしては、カルバゾール
、ポリビニルアントラセン、ポルビニルピレンなどが挙
げられる。
電荷発生層の膜厚は0.01〜15μm好ましくは0.
05〜5μmであり、電荷発生層と結着剤との重量比は
10:1〜1:20である。
05〜5μmであり、電荷発生層と結着剤との重量比は
10:1〜1:20である。
■電荷発生層用塗料に用いる溶剤は、使用する樹脂や電
荷輸送材料の溶解性や分散安定性から選択されるが、具
体的には有機溶剤としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパツールなどのアルコール類、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのスル
ホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレ
ングリコール、モノメチルエーテルなどのエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あ
るいはベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族化合
物等を用いることができる。
荷輸送材料の溶解性や分散安定性から選択されるが、具
体的には有機溶剤としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパツールなどのアルコール類、アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、N、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのスル
ホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレ
ングリコール、モノメチルエーテルなどのエーテル類、
酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、クロロホル
ム、塩化メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、ト
リクロルエチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素類、あ
るいはベンゼン、トルエン、キシレン、リグロイン、モ
ノクロルベンゼン、ジクロルベンゼンなどの芳香族化合
物等を用いることができる。
■塗工は、浸漬コーティング法、スプレーコーティング
法、スピナーコーティング法、ビートコーティング法、
マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法
、ローラコーティング法、カーテンコーティング法など
のコーチイブ法を用いて行なうことができる。
法、スピナーコーティング法、ビートコーティング法、
マイヤーバーコーティング法、ブレードコーティング法
、ローラコーティング法、カーテンコーティング法など
のコーチイブ法を用いて行なうことができる。
■電荷輸送層は、電荷輸送材料な成膜性のある樹脂に溶
解させて形成される。
解させて形成される。
本発明に用いられる有機の電荷輸送材料の例としては、
ピレン、N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカ
ルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラジノ−3
−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフ
ェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバ
ゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデ
ン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノキサ
ジン、P−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N−
ジフェニルヒドラゾン、P−ジエチルアミノベンズアル
デヒドーN−α−ナフチル−N−フェニルヒドラゾン、
P−ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジフェニル
ヒドラゾン、1.3.5−トリメチルインドレニン−ω
−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P−ジ
エチルベンズアルデヒド−3−メチ′ルベンズチアゾリ
ノンー2−ヒドラゾンなどのヒドラゾン類、2.5ビス
(P−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール、1−フェニル−3−(P−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(P−ジエチルアミノエチルフェニル
)ピラゾリン、1−[キノリル(2)] −3−(P−
ジエチルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノ
フェニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3
−(P−ジエチルアミノスチリル)−s−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、1−[6−メドキシー
ビリジル(2)] −3−(P−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−[ピリジル(3)] −3−(P−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3−(P−ジエ
チルアミノスチリル)−s−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3−(
p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−ジエ
チルアミノスチリル)−s−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−フェニル−3−(P−ジエチル
アミノスチリル)−4−メチル−5−(P−ジエチルア
ミノフェニル〉ピラゾリン、1−フェニル−3−(α−
ベンジル−P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P−
ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、スピルピラゾリ
ンなどのどラブリン類、2− (P−ジエチルアミノス
チリル)−6−ジニチルアミノベンズオキサゾール、2
−(P−ジエチルアミノフェニル)−4−(P−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−(2−クロロフェニル)オキ
サゾールなどのオキサゾール系化合物、2−(P−ジエ
チルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベンゾチア
ゾールなどのチアゾール系化合物、ビス(4−ジエチル
アミノ−2−メチルフェニル)−フェニルメタンなどの
トリアリールメタン系化合物、1.1−ビス(4−N、
N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)エタンなど
のボリアリールアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−
ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂が挙
げられる。又、これらの電荷輸送物質は1種または2種
以上組み合わせて用いることができる。
ピレン、N−エチルカルバゾール、N−イソプロピルカ
ルバゾール、N−メチル−N−フェニルヒドラジノ−3
−メチリデン−9−エチルカルバゾール、N、N−ジフ
ェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−エチルカルバ
ゾール、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデ
ン−10−エチルフェノチアジン、N、N−ジフェニル
ヒドラジノ−3−メチリデン−10−エチルフェノキサ
ジン、P−ジエチルアミノベンズアルデヒド−N、N−
ジフェニルヒドラゾン、P−ジエチルアミノベンズアル
デヒドーN−α−ナフチル−N−フェニルヒドラゾン、
P−ピロリジノベンズアルデヒド−N、N−ジフェニル
ヒドラゾン、1.3.5−トリメチルインドレニン−ω
−アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、P−ジ
エチルベンズアルデヒド−3−メチ′ルベンズチアゾリ
ノンー2−ヒドラゾンなどのヒドラゾン類、2.5ビス
(P−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール、1−フェニル−3−(P−ジエチルアミノ
スチリル)−5−(P−ジエチルアミノエチルフェニル
)ピラゾリン、1−[キノリル(2)] −3−(P−
ジエチルアミノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノ
フェニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3
−(P−ジエチルアミノスチリル)−s−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)ピラゾリン、1−[6−メドキシー
ビリジル(2)] −3−(P−ジエチルアミノスチリ
ル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン
、1−[ピリジル(3)] −3−(P−ジエチルアミ
ノスチリル)−5−(P−ジエチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3−(P−ジエ
チルアミノスチリル)−s−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−[ピリジル(2)] −3−(
p−ジエチルアミノスチリル)−4−メチル−5−ジエ
チルアミノスチリル)−s−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、1−フェニル−3−(P−ジエチル
アミノスチリル)−4−メチル−5−(P−ジエチルア
ミノフェニル〉ピラゾリン、1−フェニル−3−(α−
ベンジル−P−ジエチルアミノスチリル)−5−(P−
ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、スピルピラゾリ
ンなどのどラブリン類、2− (P−ジエチルアミノス
チリル)−6−ジニチルアミノベンズオキサゾール、2
−(P−ジエチルアミノフェニル)−4−(P−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−(2−クロロフェニル)オキ
サゾールなどのオキサゾール系化合物、2−(P−ジエ
チルアミノスチリル)−6−ジニチルアミノベンゾチア
ゾールなどのチアゾール系化合物、ビス(4−ジエチル
アミノ−2−メチルフェニル)−フェニルメタンなどの
トリアリールメタン系化合物、1.1−ビス(4−N、
N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニル)エタンなど
のボリアリールアルカン類、トリフェニルアミン、ポリ
−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビ
ニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−
ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒ
ド樹脂、エチルカルバゾールホルムアルデヒド樹脂が挙
げられる。又、これらの電荷輸送物質は1種または2種
以上組み合わせて用いることができる。
■電荷輸送層に用いる結着剤の例としては、フェノキシ
樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルブチラール、ボ
リアリレート、ポリスルホン、ポリアミド、アクリル樹
脂、アクリロニトリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
、ポリエステル、アルキド樹脂、ポリカーボネート、ポ
リウレタン、あるいはこれらの樹脂の繰返し単位のうち
2つ以上を含む共重合体、たとえばスチレン−ブタジェ
ンコポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー
、スチレン−マレイン酸コポリマーなどを挙げることが
できる。又、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニ
ルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電性
ポリマーからも選択できる。
樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルブチラール、ボ
リアリレート、ポリスルホン、ポリアミド、アクリル樹
脂、アクリロニトリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニ
ル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹
、ポリエステル、アルキド樹脂、ポリカーボネート、ポ
リウレタン、あるいはこれらの樹脂の繰返し単位のうち
2つ以上を含む共重合体、たとえばスチレン−ブタジェ
ンコポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマー
、スチレン−マレイン酸コポリマーなどを挙げることが
できる。又、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニ
ルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電性
ポリマーからも選択できる。
電荷輸送層の膜厚は5〜50μm好ましくは8〜20μ
mであり、電荷輸送物質と結着剤との重量比は 5:1〜1:5好ましくは3:1〜1:3種度である。
mであり、電荷輸送物質と結着剤との重量比は 5:1〜1:5好ましくは3:1〜1:3種度である。
塗工は、浸漬コーチインク法、スプレーコーティング法
、スピナーコーティング法、ビートコーティング法、マ
イヤーバーコーティング法、ブレートコーティング法、
ローラコーティング法、カーダンコーティング法などの
ツー/ティング法を用いて行なうことができる。
、スピナーコーティング法、ビートコーティング法、マ
イヤーバーコーティング法、ブレートコーティング法、
ローラコーティング法、カーダンコーティング法などの
ツー/ティング法を用いて行なうことができる。
■又、色素、顔料、有機電荷輸送物質などは、一般に紫
外線、オゾン、オイルなどによる汚れ、金属などに弱い
ため必要に応じて保護層を設けてもよい。この保護層上
に静電潜像を形成するためには表面抵抗率がIQIIΩ
以上であることが望ましい。
外線、オゾン、オイルなどによる汚れ、金属などに弱い
ため必要に応じて保護層を設けてもよい。この保護層上
に静電潜像を形成するためには表面抵抗率がIQIIΩ
以上であることが望ましい。
本発明で用いる保護層はポリビニルブチラール、ポリエ
ステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ナイロン、ポリイミド、ボリアリレート、ポリウ
レタン、スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−
アクリル酸コポリマー、スチレン−アクリロニトリルコ
ポリマーなどの樹脂を適当な有機溶剤によって溶解した
液を感光層の上に塗布、乾燥して形成できる。この際、
保護層の膜厚は、一般に0.05〜20μmの範囲であ
る。この保護層中に紫外線吸収剤などを含ませてもよい
。
ステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、メタクリル
樹脂、ナイロン、ポリイミド、ボリアリレート、ポリウ
レタン、スチレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−
アクリル酸コポリマー、スチレン−アクリロニトリルコ
ポリマーなどの樹脂を適当な有機溶剤によって溶解した
液を感光層の上に塗布、乾燥して形成できる。この際、
保護層の膜厚は、一般に0.05〜20μmの範囲であ
る。この保護層中に紫外線吸収剤などを含ませてもよい
。
(発明の効果)
以上のように本発明の依れば、接触式(直接式)の帯電
装置について、帯電部材自体の製造は従来の抵抗層コー
ティング式に比べて容易に短時間に行なうことが可能で
あり、然も抵抗層中の残留溶剤の表面しみ出しによる帯
電部材の被帯電体面に対する固着化や被帯電体の変質、
それによる例えば画像形成装置における所謂ローラ跡の
発生などによる出力画質の低下等の問題を回避すること
ができる。
装置について、帯電部材自体の製造は従来の抵抗層コー
ティング式に比べて容易に短時間に行なうことが可能で
あり、然も抵抗層中の残留溶剤の表面しみ出しによる帯
電部材の被帯電体面に対する固着化や被帯電体の変質、
それによる例えば画像形成装置における所謂ローラ跡の
発生などによる出力画質の低下等の問題を回避すること
ができる。
被帯電体が画像形成装置の像担持体であり、その像担持
体が溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっても、帯
電部材側からの溶剤しみ出しの問題は生じないので、安
価な有機系感光体と接触帯電装置を利用しての経済性の
よい画像形成装置を構成することが可能となる。
体が溶剤の影響を受は易い有機系感光体であっても、帯
電部材側からの溶剤しみ出しの問題は生じないので、安
価な有機系感光体と接触帯電装置を利用しての経済性の
よい画像形成装置を構成することが可能となる。
帯電部材の導電層の端部なその外面に被着させた抵抗層
としての膜層体の端部延長部で覆う構成とすることで、
帯電部材端部の被帯電体ピンホールの接近による帯電不
良等を容易に効果的に防止できる、などの種々の効果が
得られる。
としての膜層体の端部延長部で覆う構成とすることで、
帯電部材端部の被帯電体ピンホールの接近による帯電不
良等を容易に効果的に防止できる、などの種々の効果が
得られる。
第1図は一次帯電手段として接触式帯電装置を用いた画
像形成装置の一例の概略構成図、第2図(a) (
b)は夫々ローラタイプ以外の帯電部材例の横断面図、
第3図は抵抗層としてのシームレスチューブの端部を延
長して導電層端部を覆った形態にした例の帯電部材の途
中省略縦断面図、第4図は第2抵抗層を設けたローラタ
イプの帯電部材の横断面図、第5図はローラ抵抗の測定
要領説明図、第6図(a) (b)は夫々抵抗層コ
ーティング形成のローラタイプ帯電部材の横断面図と途
中省略縦断面図である。 1は被帯電体としての感光体、2・102は帯電部材、
2c・102cは芯金、2b−102bは導電層、2a
・102aは抵抗層。
像形成装置の一例の概略構成図、第2図(a) (
b)は夫々ローラタイプ以外の帯電部材例の横断面図、
第3図は抵抗層としてのシームレスチューブの端部を延
長して導電層端部を覆った形態にした例の帯電部材の途
中省略縦断面図、第4図は第2抵抗層を設けたローラタ
イプの帯電部材の横断面図、第5図はローラ抵抗の測定
要領説明図、第6図(a) (b)は夫々抵抗層コ
ーティング形成のローラタイプ帯電部材の横断面図と途
中省略縦断面図である。 1は被帯電体としての感光体、2・102は帯電部材、
2c・102cは芯金、2b−102bは導電層、2a
・102aは抵抗層。
Claims (10)
- (1)電圧を印加した帯電部材を被帯電体面に接触させ
ることで被帯電体面を帯電処理する帯電装置であり、 前記帯電部材は、少なくとも、導電層と、その導電層面
を覆い、被帯電体面に接触する抵抗層を有し、 前記抵抗層は予め膜層体として成膜された抵抗材料の、
導電層面に対する被着層である、 ことを特徴とする帯電装置。 - (2)予め膜層体として成膜された抵抗材料はシームレ
スチューブの形態であり、該シームレスチューブの外嵌
処理により帯電部材の抵抗層が構成されている、ことを
特徴とする請求項1記載の帯電装置。 - (3)シームレスチューブは体積抵抗値が10^6Ω・
cm以上、10^1^2Ω・cm以下であり、該チュー
ブの内径Kと、該チューブが外嵌される導電層の外径L
の比L/Kが101%以上、150%以下である、こと
を特徴とする請求項2記載の帯電装置。 - (4)抵抗層として帯電部材に外嵌処理された抵抗材料
のシームレスチューブは、その端部が導電層の端部より
も外方へ延長されている、ことを特徴とする請求項2又
は同3記載の帯電装置。 - (5)シームレスチューブは熱収縮チューブである、こ
とを特徴とする請求項2・同3、又は同4記載の帯電装
置。 - (6)熱収縮チューブはポリ塩化ビニルを含むことを特
徴とする請求項5記載の帯電装置。 - (7)熱収縮チューブはポリエチレンを含むことを特徴
とする請求項5記載の帯電装置。 - (8)熱収縮チューブは体積抵抗値が10^6Ω・cm
以上、10^1^2Ω・cm以下であり、チューブの円
周方向の延伸比がチューブの軸方向の延伸比より大きく
、収縮前のチューブの内径Hと、該チューブが外嵌され
る導電層の外径 I の比H/Iが101%以上、200
%以下である、ことを特徴とする請求項5・同6、又は
同7記載の帯電装置。 - (9)請求項1乃至同8の何れかの帯電装置を像担持体
の帯電処理手段として用いた、ことを特徴とする画像形
成装置。 - (10)像担持体が有機光導電体を感光層とするもので
ある、ことを特徴とする請求項9記載の画像形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619289A JP2853188B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19619289A JP2853188B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0359682A true JPH0359682A (ja) | 1991-03-14 |
JP2853188B2 JP2853188B2 (ja) | 1999-02-03 |
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ID=16353725
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP19619289A Expired - Lifetime JP2853188B2 (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 帯電装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2853188B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0735437A2 (en) * | 1995-03-29 | 1996-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Contact charging member and electrophotographic apparatus using the same |
US5625858A (en) * | 1995-01-18 | 1997-04-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Contact charging member, process for producing same and electrophotographic apparatus using same |
JP2014219529A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 株式会社リコー | クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19619289A patent/JP2853188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5625858A (en) * | 1995-01-18 | 1997-04-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Contact charging member, process for producing same and electrophotographic apparatus using same |
EP0735437A2 (en) * | 1995-03-29 | 1996-10-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Contact charging member and electrophotographic apparatus using the same |
EP0735437A3 (en) * | 1995-03-29 | 1998-11-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Contact charging member and electrophotographic apparatus using the same |
JP2014219529A (ja) * | 2013-05-08 | 2014-11-20 | 株式会社リコー | クリーニングブレード、画像形成装置、プロセスカートリッジ |
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JP2853188B2 (ja) | 1999-02-03 |
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