JPH0359385A - 液化ガスの製造方法及び装置 - Google Patents
液化ガスの製造方法及び装置Info
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- JPH0359385A JPH0359385A JP1191460A JP19146089A JPH0359385A JP H0359385 A JPH0359385 A JP H0359385A JP 1191460 A JP1191460 A JP 1191460A JP 19146089 A JP19146089 A JP 19146089A JP H0359385 A JPH0359385 A JP H0359385A
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- F25J2270/90—External refrigeration, e.g. conventional closed-loop mechanical refrigeration unit using Freon or NH3, unspecified external refrigeration
- F25J2270/908—External refrigeration, e.g. conventional closed-loop mechanical refrigeration unit using Freon or NH3, unspecified external refrigeration by regenerative chillers, i.e. oscillating or dynamic systems, e.g. Stirling refrigerator, thermoelectric ("Peltier") or magnetic refrigeration
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- F25J2290/62—Details of storing a fluid in a tank
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、液化ガスの製造に係り、同液化ガスによる被
冷却体の冷却に関するものである。
冷却体の冷却に関するものである。
この種の発明は、例えば実願昭６３−３９１５号「液化
ガス供給装置」が挙げられる。従来の装置は、ヘリウム
冷凍機の冷却手段で、液化ガス容器にあらかじめ収納さ
れた液化ガス（この場合、液体窒素）の蒸発ガスを、前
記冷却手段で再液化することにより、負荷あるいは熱侵
入による液化ガスの消費を最少限にしたものである。
ガス供給装置」が挙げられる。従来の装置は、ヘリウム
冷凍機の冷却手段で、液化ガス容器にあらかじめ収納さ
れた液化ガス（この場合、液体窒素）の蒸発ガスを、前
記冷却手段で再液化することにより、負荷あるいは熱侵
入による液化ガスの消費を最少限にしたものである。
したがって、多少のロスによる液体窒素の減少は定期的
な液体窒素の補充により行われていた。
な液体窒素の補充により行われていた。
また、特開昭６３−２９４４７１号公報では、ヘリウム
冷凍機の冷却手段で、空気を冷却し、液化する方法が採
用されている。
冷凍機の冷却手段で、空気を冷却し、液化する方法が採
用されている。
上記従来技術は、液化ガス中の微量不純戊分（例えば水
分や炭酸ガス〉の挙動について、何ら論じておられず、
上記従来技術により長期間運転を行うと微量成分の濃縮
あるいは蓄積により、液化ガスが汚れてしまうという欠
点があった。
分や炭酸ガス〉の挙動について、何ら論じておられず、
上記従来技術により長期間運転を行うと微量成分の濃縮
あるいは蓄積により、液化ガスが汚れてしまうという欠
点があった。
本発明は、ガス（ボンベ入り、あるいは他の製造装置、
例えばＰＳＡ装置で製造されたもの）を冷却し、更に液
化し、液化ガス容器に収納される液化ガス中の不純物を
除去することにより、不純物の少ないきれいな液化ガス
を製造することを目的とする。
例えばＰＳＡ装置で製造されたもの）を冷却し、更に液
化し、液化ガス容器に収納される液化ガス中の不純物を
除去することにより、不純物の少ないきれいな液化ガス
を製造することを目的とする。
上記目的を達成するためには、微量不純物の吸着除去、
あるいは、沈澱による分離が有効である。
あるいは、沈澱による分離が有効である。
このため、本発明では、液ｆヒガスを収納する液「ヒガ
ス容器の内側に、吸着剤（活性炭あるいは台底ゼオライ
ト等）を充てんした小容器、あるいは、小容器のみを設
置したものである。
ス容器の内側に、吸着剤（活性炭あるいは台底ゼオライ
ト等）を充てんした小容器、あるいは、小容器のみを設
置したものである。
〔作 用〕
吸着剤は、吸着時の温度が低温になる程、その吸着性能
は著しｉ向上する。
は著しｉ向上する。
本発明によれば、低温の吸着剤は液ｆヒガス中の微量の
不純物を連続的に吸着するため、不純物の液化ガス中へ
の蓄積および濃縮が無くなり、不純物の少ないきれいな
液化ガスを製造することができる。
不純物を連続的に吸着するため、不純物の液化ガス中へ
の蓄積および濃縮が無くなり、不純物の少ないきれいな
液化ガスを製造することができる。
また、沈澱による分離では、上記程効率ｊｔ（不純物を
除去することはできないが、少ｆｔ くとも、微Ｍｌｆ
ｆ１分の液化ガス中への＃解度と同等の純度の液化ガス
を製造できる。
除去することはできないが、少ｆｔ くとも、微Ｍｌｆ
ｆ１分の液化ガス中への＃解度と同等の純度の液化ガス
を製造できる。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。本実
施例は、ガスの冷却手段にヘリウム冷凍機を、ガスの製
造はＰＳＡ装置を例にとって説明する。
施例は、ガスの冷却手段にヘリウム冷凍機を、ガスの製
造はＰＳＡ装置を例にとって説明する。
図（こおいて、ヘリウム冷凍ｆｉｔは、ヘリウム圧縮機
２により圧縮された高圧ヘリウム３を取込み、自ら膨張
して低圧ヘリウムを吐き出し、その膨張の際寒冷を発生
する蓄熱形冷凍機であり、先端５に液化部を備えている
。液ｆヒガス収納容器６は、真空断熱された容器で内部
に液化ガス７を収納する。液化部５に供給されるガスは
、ＰＳＡ装置により製造され、導管１００を介して供給
される。液化ガス７は導管２００を介し、他の部署へ供
給される。９は小容器で、上方に開口部１０を持ち、内
部に吸着剤Ｕ（活性炭あるいは合成ゼオライト〉が充て
んされている。液ｆヒガス収納容器６と外部とは断熱材
セにより断熱されている。導管１００により液化部５に
供給されたガスは、冷却・液化され、液滴１３となり下
方へ落下する。液ｆヒ部５の下方には、吸着剤１１が充
てんされた小容器９が設置され、液滴Ｉ３は吸着剤を冷
却しながら小容器に溜まる。
２により圧縮された高圧ヘリウム３を取込み、自ら膨張
して低圧ヘリウムを吐き出し、その膨張の際寒冷を発生
する蓄熱形冷凍機であり、先端５に液化部を備えている
。液ｆヒガス収納容器６は、真空断熱された容器で内部
に液化ガス７を収納する。液化部５に供給されるガスは
、ＰＳＡ装置により製造され、導管１００を介して供給
される。液化ガス７は導管２００を介し、他の部署へ供
給される。９は小容器で、上方に開口部１０を持ち、内
部に吸着剤Ｕ（活性炭あるいは合成ゼオライト〉が充て
んされている。液ｆヒガス収納容器６と外部とは断熱材
セにより断熱されている。導管１００により液化部５に
供給されたガスは、冷却・液化され、液滴１３となり下
方へ落下する。液ｆヒ部５の下方には、吸着剤１１が充
てんされた小容器９が設置され、液滴Ｉ３は吸着剤を冷
却しながら小容器に溜まる。
小容器が液化ガスで一杯になると、液化ガスに小容器上
方の開口部よりオーバーフローし、液化ガス収納容器６
内に溜まり始める。液ｆヒガス７は、その都度目的によ
りポンプ等により外部へ取り出される。
方の開口部よりオーバーフローし、液化ガス収納容器６
内に溜まり始める。液ｆヒガス７は、その都度目的によ
りポンプ等により外部へ取り出される。
ここで、ガスを窒素とし、微量不純物成分を炭酸ガスを
例にとり、その凝固をみてみると、液体窒素温度でも凝
固しない濃度は１０ ｐｐｍである。
例にとり、その凝固をみてみると、液体窒素温度でも凝
固しない濃度は１０ ｐｐｍである。
この数値を達成するには、非常に困難であるため、現実
には必ず凝固するものである。このため、長時間運転を
行うと、微量成分（水分、炭酸ガス）が液化ガス中で凝
固し、液化ガスの純度低下をまねく。本発明では、上記
に述べたごとく、吸着剤の低温での吸着性能を利用し、
これら微量の不純物を吸着剤で吸着除去することにより
、純度の良いきれいな液化ガスを提供できる効果が得ら
れる。
には必ず凝固するものである。このため、長時間運転を
行うと、微量成分（水分、炭酸ガス）が液化ガス中で凝
固し、液化ガスの純度低下をまねく。本発明では、上記
に述べたごとく、吸着剤の低温での吸着性能を利用し、
これら微量の不純物を吸着剤で吸着除去することにより
、純度の良いきれいな液化ガスを提供できる効果が得ら
れる。
次に第２図により、本発明の第２の実施例を説明する。
図において、第１の実施例と機能、構造が同一なものは
符号を省略した。本実施例では液化部５からの液Ｗｐ
１３を液受加で集合させ、液受加の液出口部を吸着剤の
下方付近に設けたことを特徴とする。
符号を省略した。本実施例では液化部５からの液Ｗｐ
１３を液受加で集合させ、液受加の液出口部を吸着剤の
下方付近に設けたことを特徴とする。
本実施例では、澱が吸着剤全体に接するため、より効率
良く不純物を吸着除去できる効果を得る。
良く不純物を吸着除去できる効果を得る。
また、第３図に本発明の第３の実施例を示す。
本実施例では、アダプター脚を液ｆヒ部を含めた冷却郡
全体の外側に設け、前記アダプター刀を介し、ガスを供
給するようにしたものである。図示にはないがアダプタ
ー刃は真空断熱してあり、その先端は吸着剤の下方付近
に設けである。本実施例では装置がコンパクトとなり、
更に第２の実施例と同等の効果が得られる。
全体の外側に設け、前記アダプター刀を介し、ガスを供
給するようにしたものである。図示にはないがアダプタ
ー刃は真空断熱してあり、その先端は吸着剤の下方付近
に設けである。本実施例では装置がコンパクトとなり、
更に第２の実施例と同等の効果が得られる。
また、第４図に本発明の第４の実施例を示す。
本実施例では、小容器９のみを液化部の真下に設置した
もので、不純物切は沈澱により小宴器５の底部に分離さ
れる。本実施例では吸着除去程有効に不純物を除去でき
ないが微ｊ１戊分の液ｆヒガス中への溶解度と同等の純
度の液化ガスが得られ、構成要素が少ないためコンパク
トとなる効果が得られる。
もので、不純物切は沈澱により小宴器５の底部に分離さ
れる。本実施例では吸着除去程有効に不純物を除去でき
ないが微ｊ１戊分の液ｆヒガス中への溶解度と同等の純
度の液化ガスが得られ、構成要素が少ないためコンパク
トとなる効果が得られる。
さらに、！Ｊ５図に本発明のＮ５の実施例を示す。
本実施例では、液化ガス７の中に直接吸着剤Ｕを設置し
たもので、吸着剤は少なくとも上下面に開口部を持った
小容器（至）内に設置される。本実施例によれば、吸着
剤が液化ガス全体に接しているため、効果的に不純物を
吸着除去することができ、更に、小容器印を任意の場所
に設置できる。
たもので、吸着剤は少なくとも上下面に開口部を持った
小容器（至）内に設置される。本実施例によれば、吸着
剤が液化ガス全体に接しているため、効果的に不純物を
吸着除去することができ、更に、小容器印を任意の場所
に設置できる。
なお、吸着剤は、定期的に交換する必要があるが、小容
器９，５０は図示してないが、外部へ取出せる構造であ
る。
器９，５０は図示してないが、外部へ取出せる構造であ
る。
本発明によれば、液化ガス収納容器の内側に設置した小
容器の内部に充てんされた吸着剤により液化ガス中の微
量不純物が吸着除去されるため、純度の良いきれいな液
化ガスを提供できる効果がある。また、不純物の沈澱に
よる分離では、不純物の液化ガスへの溶解度と同等の純
度の液化ガスが得られ、コンパクトな装置を提供できる
効果が得られる。
容器の内部に充てんされた吸着剤により液化ガス中の微
量不純物が吸着除去されるため、純度の良いきれいな液
化ガスを提供できる効果がある。また、不純物の沈澱に
よる分離では、不純物の液化ガスへの溶解度と同等の純
度の液化ガスが得られ、コンパクトな装置を提供できる
効果が得られる。
第１図は本発明の一実施例の液化ガス製造！ｉｔの縦断
面図、第２図、第３図、第４図および第５図はそれぞれ
本発明の第２．第３．第４および第５の実施例を示す縦
断面図である。 １・・−・・ヘリウム冷凍機、５・・・・・・液化部、
６・・・・・・液化ガス収納容器、７・・・・・・液化
ガス、９・・・・・・小宴ｇ−−−−−λ（４乙力゛ス
）１尺８１形４シ′１２図 ３４４閃 ４３図 ４５図
面図、第２図、第３図、第４図および第５図はそれぞれ
本発明の第２．第３．第４および第５の実施例を示す縦
断面図である。 １・・−・・ヘリウム冷凍機、５・・・・・・液化部、
６・・・・・・液化ガス収納容器、７・・・・・・液化
ガス、９・・・・・・小宴ｇ−−−−−λ（４乙力゛ス
）１尺８１形４シ′１２図 ３４４閃 ４３図 ４５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、液化ガス収納容器に供給されるガスを冷却液化し、
該液化されたガスに含有される不純物を吸着剤で吸着除
去させることを特徴とする液化ガスの製造方法。 ２、液化ガス収納容器の上方に、該容器に供給されるガ
スを冷却液化する手段を設け、該手段で液化されたガス
の不純物を除去する手段を液化ガス収納容器内に設けた
ことを特徴とする液化ガスの製造装置。 ３、前記不純物の除去手段は、その上方に開口部を有し
、その内部に吸着剤を充填した小容器を設けたことを特
徴とする請求項第２項記載の液化ガスの製造装置。 ４、前記不純物の除去手段は、少なくとも上下方向に開
口部を有し、その内部に吸着剤を充填した小容器を設け
たことを特徴とする請求項第２項記載の液化ガスの製造
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1191460A JPH0359385A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 液化ガスの製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1191460A JPH0359385A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 液化ガスの製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0359385A true JPH0359385A (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=16275012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1191460A Pending JPH0359385A (ja) | 1989-07-26 | 1989-07-26 | 液化ガスの製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0359385A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100849207B1 (ko) * | 2007-04-11 | 2008-07-31 | 주식회사 오킨스전자 | 통형 프로브 핀 및 이를 포함하는 테스트 소켓 |
-
1989
- 1989-07-26 JP JP1191460A patent/JPH0359385A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100849207B1 (ko) * | 2007-04-11 | 2008-07-31 | 주식회사 오킨스전자 | 통형 프로브 핀 및 이를 포함하는 테스트 소켓 |
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