JPH0358077A - ホログラムおよびその作製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ホログラム記録面に周囲とは異なる光散乱パ
ターンを形威したホログラムおよびその作製方法に関す
るものである． 〔従来の技術〕 ディスプレイ用のホログラムとして、白色光で再生でき
るものが種々提案されているが、視認性の向上や偽造防
止などのために、主体となるホログラム画像とは別に、
文字や図形などのパターン画像を付加したいという要請
がある。

従来、この種のホログラムの作製方法として、例えば、
主体となるホログラムを記録するときに特定パターンの
別のホログラムを同時または多重に記録したり、あるい
はまた、ホログラムが記録された表示体に特定パターン
の画像を公知の方法で印刷することなどが提案されてい
る．（発明が解決しようとする課ｉｌｌ） 前者のような特定パターンのホログラムを記録する方法
では、その特定パターンがホログラムであり、主体とな
るホログラムの画像と同様に認識されるので、両画像に
見た目の差が少なく、特定パターンが目立たないという
問題があった．この問題を解決するために、特定パター
ンのホログラムの干渉縞のピッチや角度などを変えるこ
とにより、主体となるホログラムとの差を出すようにす
ることも考えられるが、ホログラムの場合には、一定の
方向からしか画像が見えず、？ｊ！認範囲が限定される
という問題は解決されない．後者の特定パターンを印刷
する方法では、ホログラムをエンボス加工などにより、
大量に複製する場合に、復製と印刷とは別工程で行わな
ければならないので、生産コストがあがるという問題が
あった． また、ホログラムの画像と印刷の画像との位置合わせ、
いわゆる見当合わせをする必要があり、その精度を高く
するには、ホログラムの画像位置を検出できる特殊な印
刷機が必要になる．本発明の目的は、主体となるホログ
ラムの画像とは別の特定パターンの画像を付加した見や
すいホログラムおよびそのようなホログラムを簡単に作
製できるホログラムの作製方法を提供することである． （課題を解決するための手段） 前記課題を解決するために、本発明によるホログラムは
、ホログラム画像を記録した記録面の一部に光散乱パタ
ーンを形威したｔｌ戒としてある．この場合に、前記光
散乱パターンは、複製したホログラムを加工するときに
、位置検出用のレジスタマークとして使用することがで
きる．本発明によるホログラムの作製方法は−、ホログ
ラム画像を記録した記録面の一部に光散乱パターンを形
威するホログラムの作製方法において、前記ホログラム
画像が露光されるフォトレジスト面に、部分的に光が透
過するマスクパターンと、透過する光を散乱させる光散
乱板を重ねて、前記光散乱仮側から光を照射し前記フォ
トレジスト面をパターン露光したのちに、前記フォトレ
ジスト面を現像して、前記光散乱パターンを形成するよ
うに構威してある． また、本発明によるホログラムの作製方法は、ホログラ
ム画像を記録した記録面の一部に光散乱パターンを形成
するホログラムの作製方法において、前記ホログラム画
像が記録されたフォトレジスト面の一部、またはそれを
基にして作製した複製型の表面の一部に、サンドブラス
ト加工もしくは粗面印刷等の粗面化処理を施すことによ
り、前記光散乱パターンを形威するように構或すること
もできる． 〔実施例〕 以下、図面等を参照して、実施例につき、本発明を詳細
に説明する． 第１図は、本発明によるホログラムの実施例を模式的に
示した斜視図である。

ホログラムｌは、ホログラム画像１１を記録する記録面
１０の一部に、ランダムな散乱光による干渉パターンを
部分露光した光散乱パターン１２．１３が形處されてい
る． 光散乱パターンｌ２は、ランダムな大きさの微細な凹凸
パターンであり、周囲のホログラム画像ｌ１と同様に凹
凸のパターンとして形威されている．したがって、ホロ
グラム画像１１と光敗乱パターン１２．１３は、エンボ
ス加工等の方法により同一工程で大量に複製することが
できる。

また、光散乱パターン１２．１３は、前述のような凹凸
パターンであり、ランダムに光が散乱するので、どのよ
うな方向からでも明６１にそのパターン領域を視認する
ことができる．つまり、光散乱パターンは白色インキで
印刷したのと同様に見え、再生の角度依存性がほとんど
ないので、どの角度からでも容易に見ることができる．
光散乱パターンｌ３は、ホログラム１の製品を加工する
際に、ホログラム画像１ｌの位置を検出するレジスタマ
ークとして｛吏用することができる．ホログラム画像ｌ
１は、通常、その再生に特定の光学条件が必要であり、
ホログラム画像ｌ１の位置検出には特別な再生光源と受
光素子を使用しなければならなかった．本発明のように
、光散乱パターンｌ３をレジスタマークとして使用すれ
ば、通常の印刷物と同様の検出器が利用できる．したが
って、ホログラム製品の転写，打抜，印刷などの加工工
程での位置検出に利用できる．第２図〜第８図は、本発
明によるホログラムの作製方法の第１の実施例を示した
図であって、第２図は全工程、第３図はフォトレジスト
乾板、第４図はホログラムの露光工程、第５図は光散乱
パターン露光工程、第６図はホログラム原盤、第７図は
複製型作製工程、第８図は複製工程をそれぞれ説明する
ための図である。

第１の実施例のホログラムの作製方法は、第２図に示す
ように、ホログラム露光工程２ｌと、光散乱パターン露
光工程２２と、現像工程２３と、複製型作製工程２４と
、ゆ製工程２５とから構成されている． ホログラム露光工程２１は、フォトレジスト面が形成さ
れたフォトレジスト乾板にホログラム画像を記録する工
程である． ホログラム露光工程２１では、フレネルホログラム．イ
メージホログラム．レインボーホログラム，回折格子類
などの方法により、ホログラム画像を記録することがで
きる． ここで使用するフォトレジスト乾板３は、第３図に示す
ように、碁板３ｌの片面にフォトレジスト層３２が形成
されたものであり、例えば、ガラス板の片面にフォトレ
ジスト（Ｍｌｃｒｏｐｏｓｉｔ　１３００シブレイ社製
）を厚み１．５μｍに塗布したものなどが挙げられる． このフォトレジスト乾板３に、例えば、イメージホログ
ラムを記録する場合には、第４図に示すような撮影光学
系を用いて、以下のように撮影することができる， すなわち、コヒーレントな照明光４０を、被写体４１に
照射し、結偽レンズ４２によって、フォトレジスト乾板
３上に結倣させ、コヒーレントな参照光４４と干渉させ
ることにより、被写体の実像４１ａをホログラムとして
記録する．照明光４０および参照光４４としては、波長
４５７．９ｎｍのコヒーレント光を発振するＡｒゝレー
ザを用いることができる． 光散乱パターン露光工程２２は、フォトレジスト面に部
分的に光が透過するマスクパターンと、透過する光を散
乱させる光散乱板を重ねて、その光散乱仮側から光を照
射し、フォトレジスト面をパターン露光する工程である
． つまり、第４図のように被写体の実像４１ａをホログラ
ム画像として露光したフォトレジスト乾板３に、第５Ａ
図に示すように、マスクパターン５１と、光散乱板５２
を重ねて、光５３で露光すればよい． マスクパターン５ｌとしては、娘塩感光材料等のフィル
ムに特定パターンの透過部５１ａ，５ｌｂを形成したも
のなどを使用でき（第５Ｂ図）、光散乱板５２としては
スリガラスなどを使用できる． 露光に使用する光５３は、Ａｒ”　レーザ、Ｈｅ−Ｃｄ
レーザなどから発振したコヒーレント光が好ましい，コ
ヒーレント光で露光する場合には、ホログラム露光工程
２ｌで使用したのと同じ光源を用いることができる．フ
ォトレジスト乾板３、マスクパターン５１、光散乱＠５
２の光散乱面が密着していれば、ＵＶ（紫外線）ランプ
などのインコヒーレント光で露光することもできる．な
お、ホログラム露光工程２１と散乱パターン露光工程２
２の露光は、逆の順序で行ってもよいし、同時に行って
もよい． 現像工程２３は、フォトレジスト乾板３を現像してホロ
グラム原盤６を得る工程である．第５図のように露光さ
れたフォトレジスト乾板３を常法により現像することに
より、第６図に示すように、ホログラム画像６１および
光散乱パターン６２が記録されたホログラム原盤６を得
ることができる． 複製型作製工程２４は、第７図に示すように、ホログラ
ム原盤６を用いて、複製型７を作製する工程である。

つまり、ホログラム原盤６（第６図）にＮｉ等を用いた
ｔ鋳メッキを施してメッキ膜７１を形威したのち（第７
Ａ図）、そのメッキ膜７ｌを剥離し、それを利用して複
製型７２を作製することができる（第７Ｂ図）． ？ｊ！［製工程２５は、第８図に示すように、複製型７
２を用いて、多量のホログラム複製品８工を作製する工
程である． 例えば、複製型７２を用いて、塩化ビニルシ一トにエン
ボス加工することにより、ホログラム原盤６と同様なレ
リーフホログラムの複製品８１を得ることができる． さらに、この複製品８ｌの記録面にアル２ニウムを真空
蒸着して反射層８２を形威し、反射層８２の裏面に粘着
剤８３を塗布して、さらにその裏面に離型紙８４を貼付
したのち、所定の形状に抜き加工を行い、ホログラム粘
着ラベル８を作製することかできる． ここで、抜き加工する際に、抜きの位置合わせに、光散
乱パターンの一部として記録したレジスタマーク１３を
使用することができる。

得られたホログラム粘着ラベル８は、特定角度からホロ
グラム画像ｌ１が再生されるとともに、光散乱パターン
１２．１３が白インキを印刷したように見えるものであ
り、どのような方向からも明確に視認できる． 第９図は、本発明によるホログラムの作製方法の第１の
実施例の変形例を示した図である．この例では、ホログ
ラム露光工程２１と、光散乱パターン露光工程２２を同
時に行なうようにしたものである． つまり、第９図に示すように、フォトレジスト乾板３の
真面に、マスクパターン５１と光散乱仮５２を配置し、
フォトレジスト乾板３の表面から第４図で示した光学系
によりホログラムを露光すると同時に、裏面から光散乱
パターンを光５３で露光する． 二の場合には、マスクパターン５１とフォトレジスト面
３２の間に基板３１があるので、露光光源としては、レ
ーザ光などのコヒーレント光で露光することが好ましい
．この場合には、ホログラム露光する光を、反射光学系
などで導いて、光散乱パターンの露光に使用することが
できる．第１０図は、本発明によるホログラムの作製方
法の第２の実施例を示した工程図、第１１図は、同実施
例方法のサンドブラスト加工工程を説明するための図で
ある。

第２の実施例のホログラムの作製方法は、第１０図に示
すように、ホログラム露光工程１０１と、現像工程１０
２と、複製型作製工程１０３と、サンドプラスト加工工
程１０４と、複製工程１０５とから構威されている。

第４図で示した光学系を用いて、フォトレジスト乾板に
ホログラム画像を露光したのちに（１０１）、そのフォ
トレジスト乾板を現像することにより（１０２）、ホロ
グラム原盤を作製する．そのホログラム原盤を用いて、
第７図で示したのと同様にして、電鋳メフキを施して複
製型１１１を作製する（１０３）。

つぎに、第１１Ａ図に示すように、複製型１ｌ１の上に
、パターン状の開口部１１２ａをもつ保護シ一ト１１２
を重ねて、粒状物１１３を噴射するサンドプラスト加工
を施すことにより、開口部１１２ａのパターン状に複製
型１１１の表面を粗面化する（１０４）。

ホログラム記録面１１４ａの一部に光散乱パターン１１
４ｂが形威された複製型１１４を用いて、第８図に示し
たのと同様にして、プラスチック等の材料にホログラム
画像のレリーフパターンおよび光散乱パターンをプレス
して、エンボス加工による複製をする（１０５）． なお、複製型１１４にさらに電鋳メッキを行い複数枚の
同様な複製型を作製することもできる。

また、サンドブラスト加工は複製型に行ったが、フォト
レジスト乾板に十分な強度があれば直接行ってもよい． 第１２図は、本発明によるホログラムの作製方法の第３
の実施例を示した工程図、第１３図は、同実施例方法の
粗面印刷工程を説明するための図である． 第３の実施例のホログラムの作製方法は、第１２図に示
すように、ホログラム露光工程１２１と、現像工程１２
２と、粗面印刷工程１２３と、複製型作製工程１２４と
、複製工程１２５とから構威されている． 第２の実施例と同様にして、ホログラム原盤１４１を作
製する（１２１．１２２）． そのホログラム原盤１３１の表面に、第１３Ａ図で示す
ように、パターン状に透過部１３２ａをもつシルクスク
リーン１３２を重ねて、粗面化インキ１３３をスキージ
１３４で塗布するスクリーン印刷法等により、ホログラ
ム原盤１３１０表面に、光散乱パターンとなる粗面を部
分的に形成する． 粗面化インキ１３３としては、インキ中に多量の顔料を
含む．ものを使用できる． このホログラム原盤１３５の表面に、電鋳メッキを施し
て、複製型を作製して（１２４）、ホログラムを複製す
る（１２５）． なお、この場合にも、複製型にさらに電鋳メツキを行い
複数枚の同樺な複製型を作製することもできる．また、
複製型を一度作製したのちに、その複製型を粗面印刷し
て、再度複製型を作製するようにしてもよい． 〔発明の効果〕 以上詳しく説明したように、請求項（１）によれば、周
囲のホログラム画像とは別の光散乱パターンを記録して
あるので、見る角度によっては画像が全く見えなくなる
ということはなくなった．また、光散乱パターンは、ホ
ログラム画像と同様に凹凸パターンの記録であるので、
複製加工を同一の工程で行うことができる． 請求項（２）によれば、光散乱パターンが通常の検出器
で検出できるので、位置検出を容易に行うことができる
． 請求項（３）（４）によれば、前述のようなホログラム
を極めて簡単に作製できる。

特に、請求項（３）のように、光散乱パターンを光学的
に作製すれば、加工物を傷つける可能性が少なく、直接
フォトレジスト原盤に加工ができるので、作製工程が簡
単である．また、光学的加工では、非常に微細なパター
ンの加工ができる．

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるホログラムの実施例を模式的に
示した斜視図である． 第２図〜第８図は、本発明によるホログラムの作製方法
の第１の実施例を示した図であって、第２図は全工程、
第３図はフォトレジスト乾板、第４図はホログラムの露
光工程、第５図は光散乱パターン露光工程、第６図はホ
ログラム原盤、第７図は複製型作製工程、第８図は複製
工程をそれぞれ説明するための図である． 第９図は、本発明によるホログラムの作製方法の第１の
実施例の変形例を示した図である．第１０図は、本発明
によるホログラムの作製方法の第２の実施例を示した工
程図、第１１図は、同実施例方法のサンドブラスト加工
工程を説明するための図である． 第１２図は、本発明によるホログラムの作製方法の第３
の実施例を示した工程図、第１３図は、同実施例方法の
粗面印刷工程を説明するための図である． １・・・ホログラム １０・・・記録面　　　　　ｌ１・・・ホログラム画像
ｌ２・・・光散乱パターン　１３・・・レジスタマーク
２１・・・ホログラム露光工程 ２２・・・光散乱パターン露光工程 ２３・・・現像工程 ２４・・・複製型作製工程 ２５・・・複製工程 ３・・・フォトレジスト乾板 ３１・・・基ヰ反　　　　　　３２・・・フォトレジス
ト層４・・・ホログラム撮影光学系 ４０・・・照明光　　　　　４１・・・被写体４２・・
・結像レンズ　　　４３・・・物体光４４・・・参照光
．　　　　４１ａ・・・被写体の実像５１・・・マスク
パターン　５２・・・光散乱板６・・・ホログラム原盤 ６ｌ・・・ホログラム画像　６２・・・光散乱パターン
７・・・複製型 ７１・・・メッキ膜 ８・・・ホログラム粘着ラベル

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）ホログラム画像を記録した記録面の一部に光散乱
   パターンを形成したホログラム。
2. （２）前記光散乱パターンは、複製したホログラムを加
   工するときに、位置検出用のレジスタマークとして使用
   するものであることを特徴とする請求項（１）記載のホ
   ログラム。
3. （３）ホログラム画像を記録した記録面の一部に光散乱
   パターンを形成するホログラムの作製方法において、前
   記ホログラム画像が露光されるフォトレジスト面に、部
   分的に光が透過するマスクパターンと、透過する光を散
   乱させる光散乱板を重ねて、前記光散乱板側から光を照
   射し前記フォトレジスト面をパターン露光したのちに、
   前記フォトレジスト面を現像して、前記光散乱パターン
   を形成するように構成したことを特徴とするホログラム
   の作製方法。
4. （４）ホログラム画像を記録した記録面の一部に光散乱
   パターンを形成するホログラムの作製方法において、前
   記ホログラム画像が記録されたフォトレジスト面の一部
   、またはそれを基にして作製した複製型の表面の一部に
   、サンドブラスト加工もしくは粗面印刷等の粗面化処理
   を施すことにより、前記光散乱パターンを形成するよう
   に構成したことを特徴とするホログラムの作製方法。