JPH0356186A - 液体中の溶存炭酸ガス除去装置 - Google Patents
液体中の溶存炭酸ガス除去装置Info
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- JPH0356186A JPH0356186A JP1190653A JP19065389A JPH0356186A JP H0356186 A JPH0356186 A JP H0356186A JP 1190653 A JP1190653 A JP 1190653A JP 19065389 A JP19065389 A JP 19065389A JP H0356186 A JPH0356186 A JP H0356186A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
- Y02C20/40—Capture or disposal of greenhouse gases of CO2
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は純水や超純水のような脱塩水あるいはその他の
水中に溶存している炭酸ガスを気液接触法により分離除
去する液体中の溶存炭酸ガス除去装置に関する。
水中に溶存している炭酸ガスを気液接触法により分離除
去する液体中の溶存炭酸ガス除去装置に関する。
溶存炭酸ガスの除去が求められる用途分野に適合する脱
塩水を得るため、これまでは、■空気をそのま\脱塩水
に接触させて曝気する方法、■空気をあらかじめNaO
H水溶液等のアルカリと接触させて炭酸ガスを低減させ
た後、脱塩水に接触させて曝気する方法、■窒素ガス等
を高圧ボンベ等から処理槽内に供給し脱塩水と接触させ
て曝気する方法、■真空鋭気による方法、,■加熱によ
る方法、■薬注によるpH調整を行い平衡関係に変化を
与えて除去を容易にする方法、等が単独であるいは組み
合わせて利用されている。
塩水を得るため、これまでは、■空気をそのま\脱塩水
に接触させて曝気する方法、■空気をあらかじめNaO
H水溶液等のアルカリと接触させて炭酸ガスを低減させ
た後、脱塩水に接触させて曝気する方法、■窒素ガス等
を高圧ボンベ等から処理槽内に供給し脱塩水と接触させ
て曝気する方法、■真空鋭気による方法、,■加熱によ
る方法、■薬注によるpH調整を行い平衡関係に変化を
与えて除去を容易にする方法、等が単独であるいは組み
合わせて利用されている。
前記した従来法のうち、■の空気をそのま\脱塩水に接
触させる方法に関しては、空気中の炭酸ガス濃度300
ppmと平衡となる液中濃度2 ppm程度にまでしか
除去できず、溶存炭酸ガスの除去が求められる用途分野
に適合する脱塩水を得ることができない。
触させる方法に関しては、空気中の炭酸ガス濃度300
ppmと平衡となる液中濃度2 ppm程度にまでしか
除去できず、溶存炭酸ガスの除去が求められる用途分野
に適合する脱塩水を得ることができない。
また、■の空気をNaOH水溶液等のアルカリと接触さ
せて炭酸ガスを低減させた後、脱塩水に接触させる方法
については、アルカリのミストが改質空気に同伴し、脱
塩水に混入するという問題点があり、さらに、■の窒素
ガス等を高圧ボンベ等から処理槽内に供給し脱塩水と接
触させる方法については、窒素ガスの使用量との関係で
ボンベの交換頻度が多く手間が掛かると共にランニング
コストが割高になるという問題点がある。また、■の真
空脱気による方法によった場合は、従来公知のように高
さ10m程度の脱気塔が必要となり建設設備費が嵩むと
いう欠点があり、■の加熱による方法によった場合は、
加熱に必要なエネルギーが大きく処理に多大な費用を要
するという不具合点がある。また、■の薬注によるpH
調整を行い平衡関係に変化を与えて除去を容易にする方
法に関しては、安定したpHを維持するのが難しく、炭
酸ガス濃度に変化を生じ、不均一な脱塩水になるという
問題点がある。
せて炭酸ガスを低減させた後、脱塩水に接触させる方法
については、アルカリのミストが改質空気に同伴し、脱
塩水に混入するという問題点があり、さらに、■の窒素
ガス等を高圧ボンベ等から処理槽内に供給し脱塩水と接
触させる方法については、窒素ガスの使用量との関係で
ボンベの交換頻度が多く手間が掛かると共にランニング
コストが割高になるという問題点がある。また、■の真
空脱気による方法によった場合は、従来公知のように高
さ10m程度の脱気塔が必要となり建設設備費が嵩むと
いう欠点があり、■の加熱による方法によった場合は、
加熱に必要なエネルギーが大きく処理に多大な費用を要
するという不具合点がある。また、■の薬注によるpH
調整を行い平衡関係に変化を与えて除去を容易にする方
法に関しては、安定したpHを維持するのが難しく、炭
酸ガス濃度に変化を生じ、不均一な脱塩水になるという
問題点がある。
そこで、本発明者はこれら従来方法に伴う不具合点を解
決すべく種々検討した結果、液相中の炭酸ガス濃度が気
相中の炭酸ガス濃度と平衡関係にあることから、液相中
の炭酸ガス濃度を低減するには気相中の炭酸ガス濃度を
低減すればよいことに着目し、被処理液である脱塩水中
の炭酸ガス濃度を低減化するにあたり、空気中の炭酸ガ
ス濃度を非化学的手段、すなわちガス分離膜装置で低減
化した改質空気を用いれば、脱塩水中の炭酸ガス濃度を
各種用途分野で要求される程度にまで低減させることが
できると共に、脱塩水中に従来のようにアルカリ等を混
入させるおそれがないことを見出し本発明を完成するに
到ったものである。
決すべく種々検討した結果、液相中の炭酸ガス濃度が気
相中の炭酸ガス濃度と平衡関係にあることから、液相中
の炭酸ガス濃度を低減するには気相中の炭酸ガス濃度を
低減すればよいことに着目し、被処理液である脱塩水中
の炭酸ガス濃度を低減化するにあたり、空気中の炭酸ガ
ス濃度を非化学的手段、すなわちガス分離膜装置で低減
化した改質空気を用いれば、脱塩水中の炭酸ガス濃度を
各種用途分野で要求される程度にまで低減させることが
できると共に、脱塩水中に従来のようにアルカリ等を混
入させるおそれがないことを見出し本発明を完成するに
到ったものである。
従って、本発明は気液接触を行わせて脱塩水中の溶存炭
酸ガスを除去するにあたり、処理槽内にガス分離膜装置
によって炭酸ガスを分離除去した改質空気を処理槽内に
供給し、低コストであるにも拘らずきわめて効率良く脱
塩水中の炭酸ガスを除去できるようになした液体中の溶
存炭酸ガス除去装置を提供することを目的とするもので
ある。
酸ガスを除去するにあたり、処理槽内にガス分離膜装置
によって炭酸ガスを分離除去した改質空気を処理槽内に
供給し、低コストであるにも拘らずきわめて効率良く脱
塩水中の炭酸ガスを除去できるようになした液体中の溶
存炭酸ガス除去装置を提供することを目的とするもので
ある。
上記目的を達成するための本発明の構成を詳述すれば、
第1請求項に係る発明は、脱塩水等の被処理液と空気を
処理槽内で接触させることにより被処理液中に溶存して
いる炭酸ガスを分離除去するようになした被処理液中の
溶存炭酸ガス除去装置において、処理槽内に空気を供給
する送気管の管路中にガス分離膜装置を付設し、当該ガ
ス分離膜装置によって空気中の炭酸ガスを分離除去した
改質空気を用いて処理槽内で気液接触を行わせるように
構或したことを特徴とする液体中の溶存炭酸ガス除去装
置であり、また、第2請求項に係る発明は、ガス分離膜
装置の後段にエアフィルターを付設し、当該エアフィル
ターにて除塵した改質空気を処理槽内に送り込むように
なした第1請求項記載の液体中の溶存炭酸ガス除去装置
である。
第1請求項に係る発明は、脱塩水等の被処理液と空気を
処理槽内で接触させることにより被処理液中に溶存して
いる炭酸ガスを分離除去するようになした被処理液中の
溶存炭酸ガス除去装置において、処理槽内に空気を供給
する送気管の管路中にガス分離膜装置を付設し、当該ガ
ス分離膜装置によって空気中の炭酸ガスを分離除去した
改質空気を用いて処理槽内で気液接触を行わせるように
構或したことを特徴とする液体中の溶存炭酸ガス除去装
置であり、また、第2請求項に係る発明は、ガス分離膜
装置の後段にエアフィルターを付設し、当該エアフィル
ターにて除塵した改質空気を処理槽内に送り込むように
なした第1請求項記載の液体中の溶存炭酸ガス除去装置
である。
以下、本発明装置の具体的構成を被処理液として脱塩水
を用いる場合を例にして、図示の実施例に基づき詳細に
説明する。
を用いる場合を例にして、図示の実施例に基づき詳細に
説明する。
第1図は処理槽を充填式の気液接触装置とした本発明の
一実施例を示す概略図、第2図は処理槽を曝気式の気液
接触装置とした本発明の一実施例を示す概略図、第3図
は2段式逆浸透膜装置の中間に本発明装置を付設した概
略図、第4図は2段式逆浸透膜装置の後段に本発明装置
を付設した概略図である。
一実施例を示す概略図、第2図は処理槽を曝気式の気液
接触装置とした本発明の一実施例を示す概略図、第3図
は2段式逆浸透膜装置の中間に本発明装置を付設した概
略図、第4図は2段式逆浸透膜装置の後段に本発明装置
を付設した概略図である。
先づ、第1図に示す実施例では、気液接触を行わせる処
理槽lを、ラシヒリングのような充填物を収容した充填
塔2と、この充填塔2の下部に配設した貯槽3とから構
成したものであり、充填塔2の上部に付設した被処理液
の供給管4より炭酸ガスを除去しようとする被処理液で
ある脱塩水を充填塔2内に供給すると共に、充填塔2の
下部に付設した送気管5より空気を供給し、互いに向流
接触させるようにしたものである。
理槽lを、ラシヒリングのような充填物を収容した充填
塔2と、この充填塔2の下部に配設した貯槽3とから構
成したものであり、充填塔2の上部に付設した被処理液
の供給管4より炭酸ガスを除去しようとする被処理液で
ある脱塩水を充填塔2内に供給すると共に、充填塔2の
下部に付設した送気管5より空気を供給し、互いに向流
接触させるようにしたものである。
そして、この実施例においては、前記送気管5の管路中
にガス分離膜装置6を付設し、当該ガス分離膜装置6に
よって空気中の炭酸ガスを分離除去した低炭酸ガス濃度
の改質空気を処理槽1内に供給し得るようにしたもので
ある。当該ガス分離膜装置6に装着する分離膜としては
、空気中の酸素(02)や窒素(N2)ガスに比べて、
炭酸ガス(C0 2 )をより選択的に透過させる性質
を有する膜を使用する。本発明者の研究の結果、一般に
酸素富化膜もしくは窒素富化膜と称されている分離膜が
このような性質を有していることを知見し、当該知見に
基づいて本発明を成すに到ったのであり、膜の具体例に
ついては後述する。なお、上述の説明から明らかなごと
く、当該ガス分離膜装置6に空気を加圧下に供給するこ
とにより、空気中の炭酸ガスの多くは分離膜を透過して
当該ガス分離膜装置6の透過側に排出され、よって当該
ガス分離膜装置6の非透過側からは炭酸ガス濃度の低減
された改質空気を得ることができる。
にガス分離膜装置6を付設し、当該ガス分離膜装置6に
よって空気中の炭酸ガスを分離除去した低炭酸ガス濃度
の改質空気を処理槽1内に供給し得るようにしたもので
ある。当該ガス分離膜装置6に装着する分離膜としては
、空気中の酸素(02)や窒素(N2)ガスに比べて、
炭酸ガス(C0 2 )をより選択的に透過させる性質
を有する膜を使用する。本発明者の研究の結果、一般に
酸素富化膜もしくは窒素富化膜と称されている分離膜が
このような性質を有していることを知見し、当該知見に
基づいて本発明を成すに到ったのであり、膜の具体例に
ついては後述する。なお、上述の説明から明らかなごと
く、当該ガス分離膜装置6に空気を加圧下に供給するこ
とにより、空気中の炭酸ガスの多くは分離膜を透過して
当該ガス分離膜装置6の透過側に排出され、よって当該
ガス分離膜装置6の非透過側からは炭酸ガス濃度の低減
された改質空気を得ることができる。
その他、第1図中の7は空気をガス分離膜装置6に圧送
するためのコンプレッサー 8はガス分離膜装置6の前
段の送気管5中に付設したプレフィルター 29はガス
分離膜装置6の透過側に付設したガス排出管、9はガス
分離膜装置6の非透過側に接続した送気管5中に付設し
た改質空気の除塵フィルター 10は処理槽lをなす貯
槽3に付設した処理液の排出管をそれぞれ示すものであ
る。
するためのコンプレッサー 8はガス分離膜装置6の前
段の送気管5中に付設したプレフィルター 29はガス
分離膜装置6の透過側に付設したガス排出管、9はガス
分離膜装置6の非透過側に接続した送気管5中に付設し
た改質空気の除塵フィルター 10は処理槽lをなす貯
槽3に付設した処理液の排出管をそれぞれ示すものであ
る。
この第1図に示す充填式の気液接触装置によった場合、
コンプレッサー7によりガス分離膜装置6に空気を供給
することによって、前述のごとく炭酸ガスとその他の酸
素や窒素ガスとの分離がなされ、炭酸ガス濃度の低い改
質空気が当該装置6の非透過側に付設した送気管5から
得られ、一方炭酸ガス濃度の高いガスが、当該装置6の
透過側に付設したガス排出管29から排出される。
コンプレッサー7によりガス分離膜装置6に空気を供給
することによって、前述のごとく炭酸ガスとその他の酸
素や窒素ガスとの分離がなされ、炭酸ガス濃度の低い改
質空気が当該装置6の非透過側に付設した送気管5から
得られ、一方炭酸ガス濃度の高いガスが、当該装置6の
透過側に付設したガス排出管29から排出される。
従って、充填塔2内で被処理液と向流接触する、送気管
5を介して送られる改質空気は、ガス分離膜装置6によ
って低炭酸ガス濃度となっているので、被処理液中の炭
酸ガス濃度を従来より格段に低下させることができるも
ので、脱炭酸ガス処理の済んだ処理液は貯槽3より排出
管10を通じて次段の処理装置等へ送られていくもので
ある。
5を介して送られる改質空気は、ガス分離膜装置6によ
って低炭酸ガス濃度となっているので、被処理液中の炭
酸ガス濃度を従来より格段に低下させることができるも
ので、脱炭酸ガス処理の済んだ処理液は貯槽3より排出
管10を通じて次段の処理装置等へ送られていくもので
ある。
次に、第2図に示す実施例では、気液接触を行わせる処
理槽1を曝気槽となしたものであり、図中1)は処理槽
1内の上部に配設した散液手段、l2は当該散液手段1
lに被処理液を送る供給管l3は処理槽l内の下部に配
設した散気手段、14はこの散気手段l3に空気を送る
送気管であり、l5は当該送気管l4の管路中に付設し
たガス分離膜装置を示す。また、16はガス分離膜装置
15に空気を圧送するためのコンプレッサーl7はガス
分離膜装置l5とコンプレッサー16の間の送気管14
中に付設したプレフィルター18はガス分離膜装置15
の後段の送気管l4中に付設した除塵フィルター 19
は処理槽1の上部と送気管l4を結ぶ改質空気の戻し管
、20は当該戻し管19中に付設したブロアー 30は
ガス分離膜装置15の透過側に付設したガス排出管、2
1は当該ガス排出管30の管路中に付設した真空ポンプ
、22は処理槽1の下部に付設した処理液の排出管をそ
れぞれ示すものである。
理槽1を曝気槽となしたものであり、図中1)は処理槽
1内の上部に配設した散液手段、l2は当該散液手段1
lに被処理液を送る供給管l3は処理槽l内の下部に配
設した散気手段、14はこの散気手段l3に空気を送る
送気管であり、l5は当該送気管l4の管路中に付設し
たガス分離膜装置を示す。また、16はガス分離膜装置
15に空気を圧送するためのコンプレッサーl7はガス
分離膜装置l5とコンプレッサー16の間の送気管14
中に付設したプレフィルター18はガス分離膜装置15
の後段の送気管l4中に付設した除塵フィルター 19
は処理槽1の上部と送気管l4を結ぶ改質空気の戻し管
、20は当該戻し管19中に付設したブロアー 30は
ガス分離膜装置15の透過側に付設したガス排出管、2
1は当該ガス排出管30の管路中に付設した真空ポンプ
、22は処理槽1の下部に付設した処理液の排出管をそ
れぞれ示すものである。
この第2図に示す曝気式の気液接触装置によった場合も
、前記第1図に示す実施例の場合と同様に、曝気槽内で
被処理液と接触する空気は、ガス分離膜装置15によっ
て低炭酸ガス濃度となっているので、被処理液中の炭酸
ガス濃度を従来より格段に低下させることができるもの
で、処理液は処理槽1の下部に接続した排出管22を通
じて次の処理装置等へ送られていくものであり、処理槽
1の上部に上った改・質空気は場合により戻し管19を
介して再び送気管14中に戻すこともできるものである
。なお、第2図に示した実施例では、コンプレッサー1
6によってガス分離膜装置15に加圧空気を供給すると
共に、真空ポンプ21によって当該ガス分離膜装置6の
透過側を吸引することによって、より効率的なガス分離
を行わせるようになしている。
、前記第1図に示す実施例の場合と同様に、曝気槽内で
被処理液と接触する空気は、ガス分離膜装置15によっ
て低炭酸ガス濃度となっているので、被処理液中の炭酸
ガス濃度を従来より格段に低下させることができるもの
で、処理液は処理槽1の下部に接続した排出管22を通
じて次の処理装置等へ送られていくものであり、処理槽
1の上部に上った改・質空気は場合により戻し管19を
介して再び送気管14中に戻すこともできるものである
。なお、第2図に示した実施例では、コンプレッサー1
6によってガス分離膜装置15に加圧空気を供給すると
共に、真空ポンプ21によって当該ガス分離膜装置6の
透過側を吸引することによって、より効率的なガス分離
を行わせるようになしている。
本発明装置に用いるガス分離膜装置に装着する分離膜と
しては、前述のごとく炭酸ガスを選択的に透過させる性
質を有する膜であれば如何なるも?でもよいが、その一
例を示せば以下のごとくである。すなわち、膜素材とし
ては、ポリトリメチルシリルアセチレン、ポリブチルア
セチレン、ポリジメチルシロキサン、三酢酸セルロース
等が好適に用いられる。それぞれの膜素材の特性を次表
に示す。なお、表において、最右欄の「CD■/N2分
離性」の数値が大きいほど炭酸ガスの選択的透過性に優
れていると言える。
しては、前述のごとく炭酸ガスを選択的に透過させる性
質を有する膜であれば如何なるも?でもよいが、その一
例を示せば以下のごとくである。すなわち、膜素材とし
ては、ポリトリメチルシリルアセチレン、ポリブチルア
セチレン、ポリジメチルシロキサン、三酢酸セルロース
等が好適に用いられる。それぞれの膜素材の特性を次表
に示す。なお、表において、最右欄の「CD■/N2分
離性」の数値が大きいほど炭酸ガスの選択的透過性に優
れていると言える。
嘱の素材中Aはポリトリメチルシリルアセチレン,Bは
ポリブチルアセチレン,Cはポリジメチルシロキサン,
Dは三酢酸セルロースを示す。〕本発明に利用し得る膜
素材は、上記表に示したものに限定されないのは勿論の
こと、その形状も平膜状、スパイラル状、プレート&フ
レーム状、ホロファイバー型等いずれでもよいものであ
り、ガス分離膜装置の運転方法についても非透過側を加
圧、透過側を減圧、あるいはその組合わせとしてもよい
ものである。
ポリブチルアセチレン,Cはポリジメチルシロキサン,
Dは三酢酸セルロースを示す。〕本発明に利用し得る膜
素材は、上記表に示したものに限定されないのは勿論の
こと、その形状も平膜状、スパイラル状、プレート&フ
レーム状、ホロファイバー型等いずれでもよいものであ
り、ガス分離膜装置の運転方法についても非透過側を加
圧、透過側を減圧、あるいはその組合わせとしてもよい
ものである。
本発明者による実験の結果、炭酸ガス濃度300 pp
mの空気を7kg/aIrに加圧して2dの分離膜を有
するガス分離膜装置に供給した場合、炭酸ガス濃度30
ppmの改質空気が回収率80%で得られることが判明
した。本発明装置はこのようにして得た改質空気をその
ま\、あるいは除塵フィルターで改質空気中の微粒子等
を除去してから被処理液である脱塩水と接触させるよう
にしたもので、ガス分離膜装置内に配設した分離膜の膜
面積を変化させることによって炭酸ガス濃度を調整する
こともできることが判った。
mの空気を7kg/aIrに加圧して2dの分離膜を有
するガス分離膜装置に供給した場合、炭酸ガス濃度30
ppmの改質空気が回収率80%で得られることが判明
した。本発明装置はこのようにして得た改質空気をその
ま\、あるいは除塵フィルターで改質空気中の微粒子等
を除去してから被処理液である脱塩水と接触させるよう
にしたもので、ガス分離膜装置内に配設した分離膜の膜
面積を変化させることによって炭酸ガス濃度を調整する
こともできることが判った。
第3図に示すように、2段式逆浸透膜装置からなる純水
製造装置の、2段に配設した逆浸透膜装置24.25の
中間に本発明装置23を配置して用いることもできるし
、あるいは第4図に示すように2段に配設した逆浸透膜
装置24.25の後段に配置して用いることもでき、第
4図に示すように配置した場合には、中間のポンプを省
略することが可能となるものである。なお、第3図及び
第4図中における26は被処理水貯槽、27は送水ポン
プ、28は塔内にH形のカチオン交換樹脂とOH形のア
ニオン交換樹脂との混合イオン交換樹脂を充填してなる
カートリッジ式ポリシャーをそれぞれ示すものである。
製造装置の、2段に配設した逆浸透膜装置24.25の
中間に本発明装置23を配置して用いることもできるし
、あるいは第4図に示すように2段に配設した逆浸透膜
装置24.25の後段に配置して用いることもでき、第
4図に示すように配置した場合には、中間のポンプを省
略することが可能となるものである。なお、第3図及び
第4図中における26は被処理水貯槽、27は送水ポン
プ、28は塔内にH形のカチオン交換樹脂とOH形のア
ニオン交換樹脂との混合イオン交換樹脂を充填してなる
カートリッジ式ポリシャーをそれぞれ示すものである。
本発明の液体中の溶存炭酸ガス除去装置は以上のような
構成からなるものであり、脱塩水中の溶存炭酸ガスを非
化学的手段で簡単に、しかも低コストで除去することが
できるものである。
構成からなるものであり、脱塩水中の溶存炭酸ガスを非
化学的手段で簡単に、しかも低コストで除去することが
できるものである。
すなわち、改質空気をガス分離膜装置を用いて製造して
いるので従来のような薬品を使用することがなく、脱塩
水のpH調整も不要になると共に、連続運転が可能であ
り、窒素ガスを用いる従来法と比べボンベ交換もなくな
るものである。
いるので従来のような薬品を使用することがなく、脱塩
水のpH調整も不要になると共に、連続運転が可能であ
り、窒素ガスを用いる従来法と比べボンベ交換もなくな
るものである。
また、本発明装置によった場合主なランニングコストは
コンプレッサー駆動に要する電力費であるが、原料5r
ri’/Hrの空気を7kg/cffl+.:加圧すル
コンプレッサーの動力は0. 75Kwh程度であり、
改質空気の回収率80%、電力コストを150円/Kw
hとした場合、改質空気の製造コストは30円/Nm’
程度となり、従来法と比べて処理コストが格段に安価と
なる。
コンプレッサー駆動に要する電力費であるが、原料5r
ri’/Hrの空気を7kg/cffl+.:加圧すル
コンプレッサーの動力は0. 75Kwh程度であり、
改質空気の回収率80%、電力コストを150円/Kw
hとした場合、改質空気の製造コストは30円/Nm’
程度となり、従来法と比べて処理コストが格段に安価と
なる。
さらに、真空脱気のときに必要となる脱気塔等大型の構
造物も不要となるものである。
造物も不要となるものである。
4.
第1図は処理槽を充填式の気液接触装置とした本発明の
一実施例を示す概略図、第2図は処理槽を曝気式の気液
接触装置とした本発明の一実施例を示す概略図、第3図
は2段式逆浸透膜装置の中間に本発明装置を付設した概
略図、第4図は2段式逆浸透膜装置の後段に本発明装置
を付設した概略図である。 :処理槽 :貯槽 :送気管 :コンプレッサー :除塵フィルター :散液手段 :散気手段 :ガス分離膜装置 :ブレフィルター 二戻し管 :充填塔 :供給管 :ガス分離膜装置 :プレフィルター 二排出管 :供給管 :送気管 :コンプレッサー :除塵フィルター
一実施例を示す概略図、第2図は処理槽を曝気式の気液
接触装置とした本発明の一実施例を示す概略図、第3図
は2段式逆浸透膜装置の中間に本発明装置を付設した概
略図、第4図は2段式逆浸透膜装置の後段に本発明装置
を付設した概略図である。 :処理槽 :貯槽 :送気管 :コンプレッサー :除塵フィルター :散液手段 :散気手段 :ガス分離膜装置 :ブレフィルター 二戻し管 :充填塔 :供給管 :ガス分離膜装置 :プレフィルター 二排出管 :供給管 :送気管 :コンプレッサー :除塵フィルター
Claims (2)
- (1)脱塩水等の被処理液と空気を処理槽内で接触させ
ることにより被処理液中に溶存している炭酸ガスを分離
除去するようになした被処理液中の溶存炭酸ガス除去装
置において、処理槽内に空気を供給する送気管の管路中
にガス分離膜装置を付設し、当該ガス分離膜装置によっ
て空気中の炭酸ガスを分離除去した改質空気を用いて処
理槽内で気液接触を行わせるように構成したことを特徴
とする液体中の溶存炭酸ガス除去装置。 - (2)ガス分離膜装置の後段にエアフィルターを付設し
、当該エアフィルターにて除塵した改質空気を処理槽内
に送り込むようになした第1請求項記載の液体中の溶存
炭酸ガス除去装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190653A JP2772362B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 液体中の溶存炭酸ガス除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1190653A JP2772362B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 液体中の溶存炭酸ガス除去装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0356186A true JPH0356186A (ja) | 1991-03-11 |
JP2772362B2 JP2772362B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=16261668
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1190653A Expired - Fee Related JP2772362B2 (ja) | 1989-07-25 | 1989-07-25 | 液体中の溶存炭酸ガス除去装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2772362B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6247788B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Inkjet recording apparatus and method for preventing generation of unevenness in density of a recorded image |
US7237872B1 (en) | 1995-05-02 | 2007-07-03 | Fujifilm Dimatrix, Inc. | High resolution multicolor ink jet printer |
US7396106B2 (en) | 2003-11-17 | 2008-07-08 | Ricoh Company, Ltd. | Ink jet printing device and image forming apparatus |
CN106809898A (zh) * | 2015-12-02 | 2017-06-09 | 中联重科股份有限公司 | 除碳器及该除碳器的除碳控制方法和装置 |
-
1989
- 1989-07-25 JP JP1190653A patent/JP2772362B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7237872B1 (en) | 1995-05-02 | 2007-07-03 | Fujifilm Dimatrix, Inc. | High resolution multicolor ink jet printer |
US7690779B2 (en) | 1995-05-02 | 2010-04-06 | Fujifilm Dimatix, Inc. | High resolution multicolor ink jet printer |
US6247788B1 (en) | 1998-05-20 | 2001-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Inkjet recording apparatus and method for preventing generation of unevenness in density of a recorded image |
US7396106B2 (en) | 2003-11-17 | 2008-07-08 | Ricoh Company, Ltd. | Ink jet printing device and image forming apparatus |
CN106809898A (zh) * | 2015-12-02 | 2017-06-09 | 中联重科股份有限公司 | 除碳器及该除碳器的除碳控制方法和装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2772362B2 (ja) | 1998-07-02 |
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