JPH0354831B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0354831B2 JPH0354831B2 JP58091315A JP9131583A JPH0354831B2 JP H0354831 B2 JPH0354831 B2 JP H0354831B2 JP 58091315 A JP58091315 A JP 58091315A JP 9131583 A JP9131583 A JP 9131583A JP H0354831 B2 JPH0354831 B2 JP H0354831B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- magnetic field
- ion beam
- mass
- electric field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 46
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 33
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 16
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 28
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 150000001793 charged compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 210000003734 kidney Anatomy 0.000 description 1
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 description 1
- 238000001819 mass spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/26—Mass spectrometers or separator tubes
- H01J49/28—Static spectrometers
- H01J49/32—Static spectrometers using double focusing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
[産業上の利用分野]
本発明は、測定質量範囲が広く、感度及び分解
能の面で優れ、しかも小形化が可能な質量分析装
置に関する。 [従来技術] 最近、生化学等の応用分野から高質量分子を分
析したいという要望が強くなつて来ており、それ
に応えるものとして、高速の一次イオンや中性粒
子による衝撃によつて試料をイオン化するイオン
化法が注目を浴びている。このイオン化法によれ
ば、従来の電子衝撃イオン化法(EI)あるいは
化学イオン化法(CI)等では困難であるm/z
=2000〜5000程度の高質量分子のイオンを比較的
容易に作成できるようになつた。このような高質
量分子イオンは、現在のところ大型の質量分析装
置で分析する他ないが、大型の質量分析装置は極
めて高価で、誰でも容易に使用できる状態にはな
い。そのため、小型又は中型で高質量域まで分析
できる質量分析装置が要望されており、例えば以
下のような工夫が行われている。 即ち、第1図aに示すような従来の小型乃至は
中型の質量分析装置の電場Eと一様扇形磁場Hを
そのまま使い、第1図bに示すように磁場におけ
るイオン回転角φmを小さくし、測定質量範囲を
拡大する方法である。第1図においてSはイオン
源、Dはイオン検出器である。しかしながら、こ
の方法はφmが小さくなるためイオン軌道が長く
なり、イオンビームの縦方向の拡がりによつてイ
オンのトランスミツシヨン(通過効率)が悪化し
感度が低下してしまうし、同じくイオンビームの
拡がりにより2次及び3次の高次収差が大きくな
り、分解能も低下してしまうという大きな欠点が
ある。 ところで、本発明者は先に感度及び分解能の面
で優れた質量分析装置を提案した。この質量分析
装置は、特願昭56−118645号(特開昭58−19848
号公報)に詳しく紹介されており、第2図に概略
の構成図を示すように、イオン源Sと一様扇形磁
場Hとトロイダル電場Eとから成り、イオン源S
と一様扇形電場Hとの間に、通過するイオンビー
ムの軌道平面に垂直な方向に集束性を与え、イオ
ンビームの動径方向には発散性を与える2個の静
電四極レンズQ1,Q2を配置することを特徴と
している。 [発明の目的] 本発明は、この提案装置の改良に関するもので
あり、感度及び分解能の優れた点は残しながら、
上述した要望に応えて高質量分子イオンを分析で
きるよう測定質量範囲を広くとることができ、し
かも小形化が可能な質量分析装置を提供すること
を目的としている。 [発明の構成] 本発明は、イオン源と、該イオン源から放出さ
れるイオンを検出するイオン検出器と、イオン源
とイオン検出器との間に配置される一様磁場と、
該磁場とイオン検出器との間に配置される電場
と、イオンビームの軌道平面に垂直な方向に集束
性を与えそのイオンビームの動径方向には発散性
を与えるために前記イオン源と磁場との間に間隔
をあけて配置される2個の静電四極レンズと、イ
オンビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を与
えるために前記磁場と電場との間に配置される静
電四極レンズとを備え、前記磁場におけるイオン
ビームの回転角度,回転半径を夫々φm,rm、前
記電場におけるイオンビームの回転角度,回転半
径を夫々φe,reとした時、 82゜≦φe≦88゜ 39゜≦φm≦41゜ 0.715≦re/rm≦0.755 を満足するようにしたことを特徴としている。以
下、本発明を図面を用いて詳説する。 [実施例] 第3図は本発明の一実施例を示す装置構成図で
ある。イオン源1はイオン化室2と複数の電極3
を有し、加速されたイオンビーム電子ビームIB
がスリツト4から外部へ取出される。このIBは、
2個の静電四極レンズ5,6の中を通過して、一
様扇形磁場7に入射する。この磁場7の中でイオ
ンはその質量電荷比に応じて分散され、特定の質
量電荷比を持つものが静電四極レンズ8、円筒電
場9を介してイオン検出器10へ入射して検出さ
れる。上記磁場7は図示しない電源によりその磁
場強度を繰返し高速掃引できるように構成されて
いる。そのため、その掃引にともなつて磁場7を
通過するイオンの質量電荷比が変化し、検出器1
0に捕捉されるイオンは質量の異なるものとな
り、検出器10から質量スペクトル信号が得られ
る。尚、磁場7の入出射面には、イオンビームが
斜めに入出射するような角度ε1,ε2がつけられて
おり、且つその入射端面にはRm1なる曲率半径
が与えられている。 第4図は、上記静電四極レンズ5,6,8のA
−A断面構造及びこれに電位を与えるための電源
11の構成を示す図である。静電四極レンズ5,
6,8は各々4本の円筒状電極から成り、これが
イオンビーム通路0を中心に90゜間隔で対称配置
され、正イオンを分析する場合には、イオンビー
ムの軌道平面に垂直な方向(y方向)の対向する
電極Pyには正電位が印加され、イオンビームの
動径方向(x方向)の対向する電極Pxには負電
位が印加される。そのため、正イオンはy方向に
は集束方向の力を受け、x方向には発散方向の力
を受ける。尚、静電四極レンズ8の場合、該レン
ンズ8はx方向集束点に配置されているためx方
向に与える影響が小さく、y方向の集束性のみが
与えられる。 第5図は上述したイオン光学系内のイオンビー
ムIBの流れを示す説明図である。同図aはx方
向のビーム幅の変化を示し、左端のイオン源1か
らx方向の方向分散角αを持つて放出されたイオ
ンビームは、静電四極レンズ5,6の発散作用に
よつてαより大なる方向分散角α′が与えられる。
従つてイオンビームは、あたかも点Fを出発点と
して出射されたように磁場7へ入射する。この時
点Fにおける像倍率Xはα/α′となり、像は縮小
されるため、磁場型質量分析装置の分解能Rを与
える下式から高分解能が得られることが分る。 R=γ・rm/(X・S+Δ+d) 上式において、S,dは夫々イオン源,イオン検
出器におけるスリツト幅、γは質量分散係数、Δ
は収差による像の拡がりである。 磁場7に入射したイオンビームは該磁場7によ
る集束作用を受けてビーム幅が徐々に減少し、静
電四極レンズ8の出射端の近傍の点へ一旦集束さ
れた後、磁場7と組合わされて二重集束条件を満
足するように配置される電場9へ入射し、該電場
9による集束作用を受けて検出器10へ再び集束
される。 第5図bは、y方向のイオン軌道図を示し、図
から静電四極レンズ5,6のy方向の集束作用に
より磁場7内でイオンビームの高さが極めて小さ
く押えられていることが分る。従つて磁極の間隔
を小さくして磁場強度を高めることが可能となる
し、同じ磁極間隔であれば多量のイオンを有効に
通過させることができ、感度を向上させることが
できる。 本発明では、このように高分解能且つ高感度と
いう優れた特性を有する第3図のイオン光学系に
おいて、82゜≦φe≦88゜、39゜≦φm≦41゜、0.715≦
re/rm≦0.755に設定することに特徴がある。
能の面で優れ、しかも小形化が可能な質量分析装
置に関する。 [従来技術] 最近、生化学等の応用分野から高質量分子を分
析したいという要望が強くなつて来ており、それ
に応えるものとして、高速の一次イオンや中性粒
子による衝撃によつて試料をイオン化するイオン
化法が注目を浴びている。このイオン化法によれ
ば、従来の電子衝撃イオン化法(EI)あるいは
化学イオン化法(CI)等では困難であるm/z
=2000〜5000程度の高質量分子のイオンを比較的
容易に作成できるようになつた。このような高質
量分子イオンは、現在のところ大型の質量分析装
置で分析する他ないが、大型の質量分析装置は極
めて高価で、誰でも容易に使用できる状態にはな
い。そのため、小型又は中型で高質量域まで分析
できる質量分析装置が要望されており、例えば以
下のような工夫が行われている。 即ち、第1図aに示すような従来の小型乃至は
中型の質量分析装置の電場Eと一様扇形磁場Hを
そのまま使い、第1図bに示すように磁場におけ
るイオン回転角φmを小さくし、測定質量範囲を
拡大する方法である。第1図においてSはイオン
源、Dはイオン検出器である。しかしながら、こ
の方法はφmが小さくなるためイオン軌道が長く
なり、イオンビームの縦方向の拡がりによつてイ
オンのトランスミツシヨン(通過効率)が悪化し
感度が低下してしまうし、同じくイオンビームの
拡がりにより2次及び3次の高次収差が大きくな
り、分解能も低下してしまうという大きな欠点が
ある。 ところで、本発明者は先に感度及び分解能の面
で優れた質量分析装置を提案した。この質量分析
装置は、特願昭56−118645号(特開昭58−19848
号公報)に詳しく紹介されており、第2図に概略
の構成図を示すように、イオン源Sと一様扇形磁
場Hとトロイダル電場Eとから成り、イオン源S
と一様扇形電場Hとの間に、通過するイオンビー
ムの軌道平面に垂直な方向に集束性を与え、イオ
ンビームの動径方向には発散性を与える2個の静
電四極レンズQ1,Q2を配置することを特徴と
している。 [発明の目的] 本発明は、この提案装置の改良に関するもので
あり、感度及び分解能の優れた点は残しながら、
上述した要望に応えて高質量分子イオンを分析で
きるよう測定質量範囲を広くとることができ、し
かも小形化が可能な質量分析装置を提供すること
を目的としている。 [発明の構成] 本発明は、イオン源と、該イオン源から放出さ
れるイオンを検出するイオン検出器と、イオン源
とイオン検出器との間に配置される一様磁場と、
該磁場とイオン検出器との間に配置される電場
と、イオンビームの軌道平面に垂直な方向に集束
性を与えそのイオンビームの動径方向には発散性
を与えるために前記イオン源と磁場との間に間隔
をあけて配置される2個の静電四極レンズと、イ
オンビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を与
えるために前記磁場と電場との間に配置される静
電四極レンズとを備え、前記磁場におけるイオン
ビームの回転角度,回転半径を夫々φm,rm、前
記電場におけるイオンビームの回転角度,回転半
径を夫々φe,reとした時、 82゜≦φe≦88゜ 39゜≦φm≦41゜ 0.715≦re/rm≦0.755 を満足するようにしたことを特徴としている。以
下、本発明を図面を用いて詳説する。 [実施例] 第3図は本発明の一実施例を示す装置構成図で
ある。イオン源1はイオン化室2と複数の電極3
を有し、加速されたイオンビーム電子ビームIB
がスリツト4から外部へ取出される。このIBは、
2個の静電四極レンズ5,6の中を通過して、一
様扇形磁場7に入射する。この磁場7の中でイオ
ンはその質量電荷比に応じて分散され、特定の質
量電荷比を持つものが静電四極レンズ8、円筒電
場9を介してイオン検出器10へ入射して検出さ
れる。上記磁場7は図示しない電源によりその磁
場強度を繰返し高速掃引できるように構成されて
いる。そのため、その掃引にともなつて磁場7を
通過するイオンの質量電荷比が変化し、検出器1
0に捕捉されるイオンは質量の異なるものとな
り、検出器10から質量スペクトル信号が得られ
る。尚、磁場7の入出射面には、イオンビームが
斜めに入出射するような角度ε1,ε2がつけられて
おり、且つその入射端面にはRm1なる曲率半径
が与えられている。 第4図は、上記静電四極レンズ5,6,8のA
−A断面構造及びこれに電位を与えるための電源
11の構成を示す図である。静電四極レンズ5,
6,8は各々4本の円筒状電極から成り、これが
イオンビーム通路0を中心に90゜間隔で対称配置
され、正イオンを分析する場合には、イオンビー
ムの軌道平面に垂直な方向(y方向)の対向する
電極Pyには正電位が印加され、イオンビームの
動径方向(x方向)の対向する電極Pxには負電
位が印加される。そのため、正イオンはy方向に
は集束方向の力を受け、x方向には発散方向の力
を受ける。尚、静電四極レンズ8の場合、該レン
ンズ8はx方向集束点に配置されているためx方
向に与える影響が小さく、y方向の集束性のみが
与えられる。 第5図は上述したイオン光学系内のイオンビー
ムIBの流れを示す説明図である。同図aはx方
向のビーム幅の変化を示し、左端のイオン源1か
らx方向の方向分散角αを持つて放出されたイオ
ンビームは、静電四極レンズ5,6の発散作用に
よつてαより大なる方向分散角α′が与えられる。
従つてイオンビームは、あたかも点Fを出発点と
して出射されたように磁場7へ入射する。この時
点Fにおける像倍率Xはα/α′となり、像は縮小
されるため、磁場型質量分析装置の分解能Rを与
える下式から高分解能が得られることが分る。 R=γ・rm/(X・S+Δ+d) 上式において、S,dは夫々イオン源,イオン検
出器におけるスリツト幅、γは質量分散係数、Δ
は収差による像の拡がりである。 磁場7に入射したイオンビームは該磁場7によ
る集束作用を受けてビーム幅が徐々に減少し、静
電四極レンズ8の出射端の近傍の点へ一旦集束さ
れた後、磁場7と組合わされて二重集束条件を満
足するように配置される電場9へ入射し、該電場
9による集束作用を受けて検出器10へ再び集束
される。 第5図bは、y方向のイオン軌道図を示し、図
から静電四極レンズ5,6のy方向の集束作用に
より磁場7内でイオンビームの高さが極めて小さ
く押えられていることが分る。従つて磁極の間隔
を小さくして磁場強度を高めることが可能となる
し、同じ磁極間隔であれば多量のイオンを有効に
通過させることができ、感度を向上させることが
できる。 本発明では、このように高分解能且つ高感度と
いう優れた特性を有する第3図のイオン光学系に
おいて、82゜≦φe≦88゜、39゜≦φm≦41゜、0.715≦
re/rm≦0.755に設定することに特徴がある。
【表】
第1表におけるaは第1図bの従来装置、bは
第2図の提案装置、cは本発明による装置の夫々
について適宜なデイメンジヨンを与えた設計例を
示し、第2表は第1表におけるa,b,cの各例
について計算した二次及び三次の収差係数の一覧
表を示す。第1表における長さについては、磁場
におけるイオンビームの曲率半径rmを1として
ノーマライズされている。 φm:磁場によるイオンビームの回転角(度) φe:電場によるイオンビームの回転角 rm:磁場内でのイオンビームの回転半径 re:電場内でのイオンビームの回転半径 Rm1:磁場入射端での曲率半径 QL:静電四極レンズの長さ QK1,QK2,QK3:静電四極レンズ5,6,
8の強度 L1〜L5:第1図b,第2図,第3図に記入さ
れた各距離 Ax:像倍率 Aγ:質量分散係数 Ay,Aβ:検出器位置におけるビームの高さ方
向の拡がりを示す係数 AA〜BB:二次収差係数 XXX〜DBB:三次収差係数 第1表において、測定質量範囲の拡大及び装置
の大きさに寄与するφmとre/rmについて3者を
比較すると、aが35゜,0.643、bが72.5゜,0.9、c
が40゜,0.735であり、aとcは装置を大型化せず
に質量範囲を拡大でき、bはその点不利であるこ
とが分る。 一方、イオンのトランスミツシヨン(通過効
率)を表わすAy,Aβ(小さい方がトランスミツ
シヨンが優れている)及びAγ/Ax(=質量分
散/イオンビーム幅)について比較すると、aは
夫々2.415,10.678,0.957であるのに対し、bは
夫々0.54,−1.08,7.59、cは夫々0.62,−0.74,
4.91であり、aに比べb,cの方がAy,Aβが小
さくAγ/Axが大きく、従つて同じ分解能又は同
じイオンビーム幅で比べれば、aよりもb,cの
方がトランスミツシヨンが桁違いに優れ、高感度
が得られることが分る。
第2図の提案装置、cは本発明による装置の夫々
について適宜なデイメンジヨンを与えた設計例を
示し、第2表は第1表におけるa,b,cの各例
について計算した二次及び三次の収差係数の一覧
表を示す。第1表における長さについては、磁場
におけるイオンビームの曲率半径rmを1として
ノーマライズされている。 φm:磁場によるイオンビームの回転角(度) φe:電場によるイオンビームの回転角 rm:磁場内でのイオンビームの回転半径 re:電場内でのイオンビームの回転半径 Rm1:磁場入射端での曲率半径 QL:静電四極レンズの長さ QK1,QK2,QK3:静電四極レンズ5,6,
8の強度 L1〜L5:第1図b,第2図,第3図に記入さ
れた各距離 Ax:像倍率 Aγ:質量分散係数 Ay,Aβ:検出器位置におけるビームの高さ方
向の拡がりを示す係数 AA〜BB:二次収差係数 XXX〜DBB:三次収差係数 第1表において、測定質量範囲の拡大及び装置
の大きさに寄与するφmとre/rmについて3者を
比較すると、aが35゜,0.643、bが72.5゜,0.9、c
が40゜,0.735であり、aとcは装置を大型化せず
に質量範囲を拡大でき、bはその点不利であるこ
とが分る。 一方、イオンのトランスミツシヨン(通過効
率)を表わすAy,Aβ(小さい方がトランスミツ
シヨンが優れている)及びAγ/Ax(=質量分
散/イオンビーム幅)について比較すると、aは
夫々2.415,10.678,0.957であるのに対し、bは
夫々0.54,−1.08,7.59、cは夫々0.62,−0.74,
4.91であり、aに比べb,cの方がAy,Aβが小
さくAγ/Axが大きく、従つて同じ分解能又は同
じイオンビーム幅で比べれば、aよりもb,cの
方がトランスミツシヨンが桁違いに優れ、高感度
が得られることが分る。
【表】
【表】
更に、第2表において分解能を決定する2次及
び三次の収差係数について比較する。実用上必要
となる分解能を50000とし、イオン源でのイオン
ビームの幅rm/(200〜300)前後とすれば、二
次の収差係数は少なくとも0.8〜1よりも小さい
ことが望まれ、三次の収差係数は少なくとも500
〜800よりも小さいことが望ましい。ただし
XXX,XXA,XAAについてはイオン源スリツ
トの調整等によつて改善可能なので千前後までは
許容できる。 この値を考慮に入れて第2表の二次収差係数及
び三次収差係数を見れば、aは三次収差係数は比
較的良いものの肝腎の二次収差係数が全て許容範
囲を大きく外れており、結果として分解能は
50000よりもはるかに悪くなつてしまうことは避
けられない。 次にbは、二次収差係数に関して文句のない範
囲に収まつているものの、三次収差係数が大きく
なつており、その結果分解能50000を余裕をもつ
て実現することはむずかしい。 一方、bの改良型である本発明にかかるcは、
二次収差は勿論のこと三次収差に関しても許容範
囲に収まつており、分解能50000を余裕をもつて
実現することができる。 以上のことを要約すれば、本発明にかかるcに
おいては、φmとre/rmを小さくして測定質量範
囲拡大を図つても、aの例のように収差が悪化す
ることはなく、二次の収差はbの例と同等でしか
も三次の収差はbの例よりも遥かに改善されてい
る。しかもトランスミツシヨンの優秀性はbのそ
れをそのまま受けついでおり、従つて装置を大型
化することなく測定質量範囲を拡大することがで
き、なおかつ高感度高分解能が得られるという理
想的な質量分析装置が実現される。
び三次の収差係数について比較する。実用上必要
となる分解能を50000とし、イオン源でのイオン
ビームの幅rm/(200〜300)前後とすれば、二
次の収差係数は少なくとも0.8〜1よりも小さい
ことが望まれ、三次の収差係数は少なくとも500
〜800よりも小さいことが望ましい。ただし
XXX,XXA,XAAについてはイオン源スリツ
トの調整等によつて改善可能なので千前後までは
許容できる。 この値を考慮に入れて第2表の二次収差係数及
び三次収差係数を見れば、aは三次収差係数は比
較的良いものの肝腎の二次収差係数が全て許容範
囲を大きく外れており、結果として分解能は
50000よりもはるかに悪くなつてしまうことは避
けられない。 次にbは、二次収差係数に関して文句のない範
囲に収まつているものの、三次収差係数が大きく
なつており、その結果分解能50000を余裕をもつ
て実現することはむずかしい。 一方、bの改良型である本発明にかかるcは、
二次収差は勿論のこと三次収差に関しても許容範
囲に収まつており、分解能50000を余裕をもつて
実現することができる。 以上のことを要約すれば、本発明にかかるcに
おいては、φmとre/rmを小さくして測定質量範
囲拡大を図つても、aの例のように収差が悪化す
ることはなく、二次の収差はbの例と同等でしか
も三次の収差はbの例よりも遥かに改善されてい
る。しかもトランスミツシヨンの優秀性はbのそ
れをそのまま受けついでおり、従つて装置を大型
化することなく測定質量範囲を拡大することがで
き、なおかつ高感度高分解能が得られるという理
想的な質量分析装置が実現される。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
第3表,第4表,第5表は、このような優れた
特性を持つ本発明のイオン光学系に関し、φe,
φm,re/rmを、前記第1表,第2表のcの例に
おける値、即ちφe=85゜,φm=40゜,re/rm=
0.735の周囲で変化させた時、二次及び三次の収
差係数がどのように変化するかを示している。 第3表に示された二次収差係数を見ると、AD
の値を上述した許容範囲に収めるには、φeを82゜
から88゜の範囲に設定する必要があることが分る。
その範囲であれば、三次収差係数も略許容範囲に
ある。 第4表に示された二次収差係数を見ると、AD
及びBBの値を上述した許容範囲に収めるには、
φmを36゜から38゜の範囲に設定する必要のあるこ
とが分る。その範囲であれば、三次収差係数も許
容範囲にある。 次に第5表を見ると、二次収差係数のBBの値
を上述した許容範囲に収めるには、re/rmを
0.765から0.705程度までの範囲に設定する必要が
あるが、三次収差係数はre/rmが0.755では上述
した許容範囲を越えてしまうので、二次及び三次
収差係数を勘案すると、結局re/rmの値は0.755
から0.715の範囲に収める必要がある。 以上述べたように、本発明によれば、測定質量
範囲が広く、感度及び分解能の面で優れ、しかも
小形化が可能な質量分析装置が実現される。
特性を持つ本発明のイオン光学系に関し、φe,
φm,re/rmを、前記第1表,第2表のcの例に
おける値、即ちφe=85゜,φm=40゜,re/rm=
0.735の周囲で変化させた時、二次及び三次の収
差係数がどのように変化するかを示している。 第3表に示された二次収差係数を見ると、AD
の値を上述した許容範囲に収めるには、φeを82゜
から88゜の範囲に設定する必要があることが分る。
その範囲であれば、三次収差係数も略許容範囲に
ある。 第4表に示された二次収差係数を見ると、AD
及びBBの値を上述した許容範囲に収めるには、
φmを36゜から38゜の範囲に設定する必要のあるこ
とが分る。その範囲であれば、三次収差係数も許
容範囲にある。 次に第5表を見ると、二次収差係数のBBの値
を上述した許容範囲に収めるには、re/rmを
0.765から0.705程度までの範囲に設定する必要が
あるが、三次収差係数はre/rmが0.755では上述
した許容範囲を越えてしまうので、二次及び三次
収差係数を勘案すると、結局re/rmの値は0.755
から0.715の範囲に収める必要がある。 以上述べたように、本発明によれば、測定質量
範囲が広く、感度及び分解能の面で優れ、しかも
小形化が可能な質量分析装置が実現される。
第1図は従来装置の構成を示す図、第2図は提
案装置の構成を示す図、第3図は本発明の一実施
例を示す装置構成図、第4図は静電四極レンズの
断面構造及びこれに電位を与えるための電源の構
成を示す図、第5図は本発明にかかるイオン光学
系内のイオンビームの流れを示す説明図である。 1:イオン源、4:スリツト、5,6,8:静
電四極レンズ、7:一様扇形磁場、9:円筒電
場、10:イオン検出器。
案装置の構成を示す図、第3図は本発明の一実施
例を示す装置構成図、第4図は静電四極レンズの
断面構造及びこれに電位を与えるための電源の構
成を示す図、第5図は本発明にかかるイオン光学
系内のイオンビームの流れを示す説明図である。 1:イオン源、4:スリツト、5,6,8:静
電四極レンズ、7:一様扇形磁場、9:円筒電
場、10:イオン検出器。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 イオン源と、該イオン源から放出されるイオ
ンを検出するイオン検出器と、イオン源とイオン
検出器との間に配置される一様磁場と、該磁場と
イオン検出器との間に配置される電場と、イオン
ビームの軌道平面に垂直な方向に集束性を与えそ
のイオンビームの動径方向には発散性を与えるた
めに前記イオン源と磁場との間に間隔をあけて配
置される2個の静電四極レンズと、イオンビーム
の軌道平面に垂直な方向に集束性を与えるために
前記磁場と電場との間に配置される静電四極レン
ズとを備え、前記磁場におけるイオンビームの回
転角度,回転半径を夫々φm,rm、前記電場にお
けるイオンビームの回転角度,回転半径を夫々
φe,reとした時、 82゜≦φe≦88゜ 39゜≦φ≦41゜ 0.715≦re/rm≦0.755 を満足するようにしたことを特徴とする質量分析
装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58091315A JPS59215650A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 質量分析装置 |
US06/611,427 US4553029A (en) | 1983-05-24 | 1984-05-17 | Mass spectrometer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58091315A JPS59215650A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 質量分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59215650A JPS59215650A (ja) | 1984-12-05 |
JPH0354831B2 true JPH0354831B2 (ja) | 1991-08-21 |
Family
ID=14023029
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58091315A Granted JPS59215650A (ja) | 1983-05-24 | 1983-05-24 | 質量分析装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4553029A (ja) |
JP (1) | JPS59215650A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07111882B2 (ja) * | 1987-04-15 | 1995-11-29 | 日本電子株式会社 | ウイ−ンフイルタを用いた二重収束質量分析装置 |
US4764673A (en) * | 1987-04-30 | 1988-08-16 | Kevex Corporation | Electric electron energy analyzer |
US4859848A (en) * | 1987-10-09 | 1989-08-22 | Masstron, Inc. | Mass spectrometer apparatus |
JPH01213950A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Jeol Ltd | 質量分析装置及びそれを用いたms/ms装置 |
JPH0224950A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Jeol Ltd | 同時検出型質量分析装置 |
FR2666171B1 (fr) * | 1990-08-24 | 1992-10-16 | Cameca | Spectrometre de masse stigmatique a haute transmission. |
JPH05205695A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Hitachi Ltd | 多段多重電極及び質量分析装置 |
DE4310559A1 (de) * | 1993-03-26 | 1994-09-29 | Zeiss Carl Fa | Abbildendes Elektronenenergiefilter |
EP1517354B1 (en) * | 2003-09-11 | 2008-05-21 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Double stage charged particle beam energy width reduction system for charged particle beam system |
JP6682278B2 (ja) * | 2016-01-19 | 2020-04-15 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 |
GB2546967B (en) * | 2016-01-27 | 2020-04-15 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Quadrupole mass spectrometer |
CN111146070B (zh) * | 2019-12-25 | 2023-06-16 | 兰州空间技术物理研究所 | 一种小型高性能空间探测质谱计 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59160949A (ja) * | 1983-03-01 | 1984-09-11 | Denshi Kagaku Kk | 質量分析装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5829577B2 (ja) * | 1980-06-13 | 1983-06-23 | 日本電子株式会社 | 二重収束質量分析装置 |
JPS5819848A (ja) * | 1981-07-29 | 1983-02-05 | Denshi Kagaku Kk | 質量分析装置 |
-
1983
- 1983-05-24 JP JP58091315A patent/JPS59215650A/ja active Granted
-
1984
- 1984-05-17 US US06/611,427 patent/US4553029A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59160949A (ja) * | 1983-03-01 | 1984-09-11 | Denshi Kagaku Kk | 質量分析装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4553029A (en) | 1985-11-12 |
JPS59215650A (ja) | 1984-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0354831B2 (ja) | ||
JP2004515882A (ja) | 四重極質量分析器構成を含む質量分析計 | |
SU1600645A3 (ru) | Масс-спектрометр | |
Beynon et al. | A novel, double-focusing spectrometer for translational-energy-loss spectroscopy | |
US4924090A (en) | Double focusing mass spectrometer and MS/MS arrangement | |
JPS5829577B2 (ja) | 二重収束質量分析装置 | |
EP0202117B1 (en) | Double focusing mass spectrometers | |
JP5521255B2 (ja) | 2重集束を有する磁気色消し質量分析計 | |
US6797962B1 (en) | Electrostatic corrector for eliminating the chromatic aberration of particle lenses | |
JP3571523B2 (ja) | オメガ型エネルギーフィルタ | |
JPH0354830B2 (ja) | ||
US6441378B1 (en) | Magnetic energy filter | |
JPH0812773B2 (ja) | 同時検出型質量分析装置 | |
EP0295253B1 (en) | Electron spectrometer | |
JP2956706B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JP3153386B2 (ja) | 質量分析装置 | |
JPH0357574B2 (ja) | ||
Matsuda et al. | A mass spectrograph for the analysis of collisionally activated molecular fragments | |
Yavor et al. | Parasitic aberrations in static sector field mass analyzers and their correction. Part 1. First order approximation | |
JP3096375B2 (ja) | ハイブリッドタンデム質量分析装置 | |
Boerboom | Ion optics of multipoles | |
JPS6062055A (ja) | 質量分析装置 | |
Boerboom | Ion optical considerations in tandem mass spectrometry | |
JPH1196955A (ja) | 並行検出型エネルギー損失分析器 | |
JPH0349177B2 (ja) |