JPH0354187A - Single crystal producing device - Google Patents

Single crystal producing device

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Publication number
JPH0354187A
JPH0354187A JP18983089A JP18983089A JPH0354187A JP H0354187 A JPH0354187 A JP H0354187A JP 18983089 A JP18983089 A JP 18983089A JP 18983089 A JP18983089 A JP 18983089A JP H0354187 A JPH0354187 A JP H0354187A
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JP
Japan
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coracle
raw material
vessel
crucible
single crystal
Prior art date
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Pending
Application number
JP18983089A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Fumitake Nakanishi
文毅 中西
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0354187A publication Critical patent/JPH0354187A/en
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Abstract

PURPOSE:To make possible to melt raw material without using special cover and eliminate pollution with impurities from outside by installing a coracle for pulling up single crystal from raw material melt at inside of vessel as capable of going up and down. CONSTITUTION:A groove 4a containing sealant 8 is formed along outer periphery of crucible-receiving vessel 4 installed at top end of lower shaft 6 and a crucible 5 containing lumpy raw material 7 is received in said vessel 4, then a coracle 9 supported by coracle-supporting part 12 set inside of the vessel 3 in freely going up and down is installed over the raw material 7. Thus, weights 10 are laid on arm parts 9a and 9b formed at outer periphery part of said coracle 9 and inserted into guide groove 12a of supporting part, then lower end of the vessel 3 is dipped into the sealant 8. Thus, the raw material 7 is melted in a state of coracle 9 attaching to and staying on the raw material 7 and the coracle 9 is lowered by empty weight and weight of the weight 10 corresponding to reduction of bulk of the raw material 7, then the coracle is attached to lower end of the guide groove 12a and stopped, thus seed crystal 11 attached to upper shaft 2 is introduced into the raw material 7 through communicating hole 9c and singe crystal 13 is pulled up by the upper shaft.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、GaAsおよびInPなどの■一■族化合
物半導体、CdおよびZnTeなどの■−■族化合物半
導体、ならびにBSOおよびBG0なとの酸化物の11
1結晶等のような高H離性の元素を含む単結晶の製造装
置に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention is applicable to oxidation of group I compound semiconductors such as GaAs and InP, group compound semiconductors such as Cd and ZnTe, and oxidation of BSO and BG0. Things 11
The present invention relates to an apparatus for producing a single crystal containing an element with high H-separation property, such as a single crystal.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

GaAsなどのような高解離性元素を含む単結晶を製造
する装置としては、ベツセルを用いて閉空間を形威し、
その空間内の最低温部で蒸気圧を制御しるつぼの位置を
昇降させて固液界面を制御しながら単結晶を成長させる
装置が知られている。
As a device for manufacturing single crystals containing highly dissociable elements such as GaAs, Betucell is used to form a closed space.
An apparatus is known that grows a single crystal while controlling the solid-liquid interface by raising and lowering the position of a crucible that controls the vapor pressure in the lowest temperature part of the space.

また、るつぼ内の原料融液に、コラクルを浮かべ、この
コラクルの連通孔を通してるつぼから原料融岐をコラク
ル内に導入し、このコラクル内に導入された原料融液か
ら単結晶を引上げる装置が知られており、従来の装置に
おいて、このようなコラクルは閉空間を形成するための
ベツセルに取付けられている。
In addition, there is a device that floats a coracle in the raw material melt in the crucible, introduces the raw material melt from the crucible into the coracle through the communication hole of this coracle, and pulls a single crystal from the raw material melt introduced into the coracle. In known and conventional devices, such a coracle is attached to a vessel for forming a closed space.

第6図は、このような従来の装置を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing such a conventional device.

第6図を参照して、るつぼ収納容器24内にはるつぼ2
5が収納されている。るつぼ収納容器24の外周には、
満2 4 aが形成されている。
Referring to FIG. 6, there is a crucible 2 in the crucible storage container 24.
5 is stored. On the outer periphery of the crucible storage container 24,
A total of 24 a is formed.

このF?24a内にはシール剤28か入れられておりこ
のシール剤28に、ベッセル23の下方端部が浸けられ
、ベツセル23内に閉空間が形成されている。
This F? A sealant 28 is placed inside 24a, and the lower end of the vessel 23 is immersed in this sealant 28, thereby forming a closed space within the vessel 23.

るつぼ25内には溶融して融岐となった原料27が入れ
られており、この原料27には、コラクル29が浮かべ
られている。コラクル29は、ベッセル23の内壁面に
取付けられている。コラクル2つ内には連通孔29aを
通してるつぼ25内の融液が導入されており、コラクル
2つ内の原料融岐から単結晶33が引上げられている。
A melted raw material 27 is placed in the crucible 25, and a coracle 29 is floated on the raw material 27. The coracle 29 is attached to the inner wall surface of the vessel 23. The melt in the crucible 25 is introduced into the two coracles through the communication hole 29a, and the single crystal 33 is pulled up from the raw material melt in the two coracles.

このような単結晶33の引上げは、上軸22の先端に取
付けられた種結晶31を引上げることにより行なわれる
Such pulling of the single crystal 33 is performed by pulling up the seed crystal 31 attached to the tip of the upper shaft 22.

[発明が解決しようとする課題] このように、従来の単結晶製造装置では、ベツセルの内
側にコラクルが固定して取付けられている。るつぼ内の
原料を溶融する際、やはり化合物中の高揮発性の元素が
揮発するのを抑制するため閉空間とする必要がある。し
かしながら、溶融する前の原料は嵩高いものであるため
、単結晶或長の際に用いるベッセル23をこの原料溶融
の際の閉空間の形成のために用いようとすると、ベッセ
ル内側に固定して取付けられたコラクルかるつぼ内の嵩
高い原料に当たりベツセルの下方端をシール剤中に浸け
ることができない。このため、従来の装置では、第4図
に示すような蓋21を用いている。
[Problems to be Solved by the Invention] As described above, in the conventional single crystal manufacturing apparatus, the coracle is fixedly attached inside the vessel. When melting the raw materials in the crucible, it is necessary to make the crucible a closed space in order to suppress volatilization of highly volatile elements in the compound. However, since the raw material before melting is bulky, if you try to use the vessel 23 used for single crystal growth to form a closed space during melting of this raw material, it will be fixed inside the vessel. The lower end of the vessel cannot be immersed in the sealant due to the bulky material in the attached coracle crucible. For this reason, conventional devices use a lid 21 as shown in FIG.

第4図を参照して、蓋21の下方端は、るつぼ収納容器
24の’/R 2 4 a中のシール剤28に浸けられ
て、閉空間を形成している。このように蓋21によって
閉空間を形成した後、るつほ25内を加熱して、原料2
7を溶融する。第5図は、原料を溶融した後の状態を示
す断面図である。このようにして、蓋21を用いて原料
27を溶融した後、この蓋21を引上げて、シール剤2
8から取外し、次に第6図に示すように、ベツセル23
の先端部をンール剤28中に浸ける。
Referring to FIG. 4, the lower end of the lid 21 is immersed in the sealant 28 in the '/R 24 a of the crucible storage container 24 to form a closed space. After forming a closed space with the lid 21 in this way, the inside of the melting hole 25 is heated and the raw material 2
Melt 7. FIG. 5 is a sectional view showing the state after melting the raw materials. After melting the raw material 27 using the lid 21 in this way, the lid 21 is pulled up and the sealant 27 is melted.
8, and then remove it from Bethel 23 as shown in FIG.
Dip the tip of the needle into the glue 28.

このように、従来の単結晶製造装置では、るつぼ中の原
料を溶融する工程と、溶融した原料融液の上にコラクル
をセットするという工程が必要であり、作業が煩雑で生
産効率の面から好ましいものでなかった。また、蓋を取
外してコラクルをセットする必要があり、一旦閉空間を
解放するものであるため、高解離性の元素が揮発したり
、あるいは蓋を取外してコラクルをセットする際揮発し
ないように温度制御等を施さなければならないという問
題があった。
In this way, conventional single crystal manufacturing equipment requires the process of melting the raw material in the crucible and setting the coracle on top of the molten raw material melt, which is complicated and reduces production efficiency. It wasn't desirable. In addition, since it is necessary to remove the lid and set the coracle, and once the closed space is opened, the temperature must be adjusted to prevent highly dissociable elements from volatilizing, or when removing the lid and setting the coracle. There was a problem in that control, etc. had to be carried out.

この発明は、かかる従来の装置の問題点を解消し、原料
溶融の工程のための特別の蓋を用いずとも原料を溶融さ
せることができ、効率良く単結晶を製造することのでき
る単結晶製造装置を提供することにある。
The present invention solves the problems of such conventional devices, allows raw materials to be melted without using a special lid for the raw material melting process, and is capable of efficiently manufacturing single crystals. The goal is to provide equipment.

[課題を解決するための手段] この発明の単結晶製造装置では、原料融液を入れるため
のるつぼを収納し、シール剤を入れるための溝が外周に
沿って形或されたるつぼ収納容器と、るつぼ収納容器の
満に先端部を浸けることによって内部が密閉されるベッ
セルと、るつほの原料融液の上に浮かべられ、連通孔を
通りるつぼから内部に導入される原料融液から単結晶を
引上げるためのコラクルとを備え、コラクルがベツセル
の内側で昇降可能に取付けられていることを特徴として
いる。
[Means for Solving the Problems] The single crystal manufacturing apparatus of the present invention includes a crucible storage container that houses a crucible for containing a raw material melt and has a groove formed along the outer periphery for containing a sealant. , a vessel whose interior is sealed by fully immersing the tip of the crucible storage container, and a vessel that is floated on top of the melted raw material in the crucible and is introduced from the melted raw material through the communication hole into the inside of the crucible. The device is equipped with a coracle for pulling up crystals, and is characterized in that the coracle is installed inside the Bethel so that it can be moved up and down.

[作用] この発明のlj結品製造装置では、コラクルがベッセル
の内側で昇降可能に取付けられている。このため、溶融
する前の嵩高い塊状の原料の上に載せたときにはコラク
ルを上方に位置させることによって、ベッセルの下方端
部をシール剤中に浸けることができ、これによってベッ
セルの内部を密閉することができる。
[Function] In the LJ product manufacturing apparatus of the present invention, the coracle is installed inside the vessel so as to be movable up and down. Therefore, by positioning the coracle upward when placed on top of a bulky lump of raw material before melting, the lower end of the vessel can be immersed in the sealant, thereby sealing the inside of the vessel. be able to.

原料が溶融すると嵩が低くなり、これに伴なってコラク
ルは下方に移動して位置し、原料融液に浮かべられた状
態となる。なお、この際、原料融液中の適当な位置にる
つほが浮かぶように、石英等の重りをコラクル上に載せ
ることができる。
When the raw material melts, its bulk decreases, and accordingly, the coracle moves downward and is placed in a state where it is floating in the raw material melt. At this time, a weight such as quartz can be placed on the coracle so that the melt floats at an appropriate position in the raw material melt.

この発明の単結晶製造装置では、コラクルがベッセルの
内側で昇降可能に取付けられているため、鮨1[病融と
結晶成長を1つの工程として行なうことができ、高解離
性元素の押発による汚染、あるいは原料溶融後に蓋に取
替えてベツセルを取付ける際の外部からの不純物汚染な
どの問題が改善されるとともに、生産性を向上させるこ
とができる。
In the single crystal manufacturing apparatus of this invention, since the coracle is installed so that it can be raised and lowered inside the vessel, it is possible to carry out sushi 1 [disease melting and crystal growth as one process, and by extrusion of highly dissociable elements. Problems such as contamination or impurity contamination from the outside when replacing the lid and attaching the vessel after melting the raw materials can be alleviated, and productivity can be improved.

[実施例] 第1図は、この発明の一実施例を示す断面図であり、る
つぼ中の原料を溶出する前の状態を示している。第1図
を参照して、るつぼ収納容器4内にはるつぼ5が収納さ
れている。るつほ収納容器4の外周に沿って、溝4aが
形戊されている。満4a内にはシール剤8か入れられて
いる。るつぼ収納容器4は下軸6の先端に取付けられ支
持されている。
[Example] FIG. 1 is a sectional view showing an example of the present invention, and shows a state before the raw material in the crucible is eluted. Referring to FIG. 1, a crucible 5 is housed in a crucible storage container 4. As shown in FIG. A groove 4a is formed along the outer periphery of the rutsuho storage container 4. A sealant 8 is placed in the chamber 4a. The crucible storage container 4 is attached to and supported by the tip of the lower shaft 6.

るつぼ5内には塊状の原料7が入れられており、この原
料7の上にはコラクル10が配置されている。コラクル
9はベッセル3の内側に設けられたコラクル支持部12
によって昇降可能に支持されている。コラクル支持部1
2には、ガイド溝12aが形戊されている。コラクル9
の外周部にはアーム部9aおよび9bか形成されており
、このアーム部9aおよび9bの上には重り10が載せ
られている。このアーム部9aおよび9bはコラクル支
持部12のガイド満1 2 aに押入されている。
A lumpy raw material 7 is placed in the crucible 5, and a coracle 10 is placed above the raw material 7. The coracle 9 is a coracle support part 12 provided inside the vessel 3.
It is supported so that it can be raised and lowered. Coracle support part 1
2 is formed with a guide groove 12a. Coracle 9
Arm parts 9a and 9b are formed on the outer periphery of the body, and a weight 10 is placed on the arm parts 9a and 9b. The arm portions 9a and 9b are pushed into the guide 12a of the coracle support portion 12.

ベツセル3の下方端はシール剤8中に浸けられている。The lower end of the vessel 3 is immersed in a sealant 8.

ベッセル3の上方には孔が形成され、この孔に上軸2が
通されている。上輔2の下方端には種結晶11が取付け
られている。ベッセル3の周囲には、内部を加熱するた
めのヒータ1が設けられている。
A hole is formed above the vessel 3, and the upper shaft 2 is passed through this hole. A seed crystal 11 is attached to the lower end of the upper part 2. A heater 1 is provided around the vessel 3 to heat the inside.

るつぼ5中の原料7は塊状であるので嵩高く、このため
コラクル9は原料7に当接し上方に位置している。この
状態で原料7を加熱して溶融させると、液状となり嵩が
低くなるので、コラクル9は自重および重りlOの重み
で下方に移動して、ガイド満1 2 aの下方端に当接
して止まる。
The raw material 7 in the crucible 5 is bulky and therefore bulky, so the coracle 9 is in contact with the raw material 7 and positioned above. When the raw material 7 is heated and melted in this state, it becomes liquid and its bulk decreases, so the coracle 9 moves downward under its own weight and the weight of the weight lO, and stops when it comes into contact with the lower end of the guide 12a. .

第2図は、このような状態を示した断面図であり、るつ
ぼ中の原科を溶融した後の状悪を示している。第2図に
示すように、るつほ9のψ央に形成された連通孔9Cを
通り、W液となった原料7がコラクル9内に導入され、
この導入されたコラクル9内の原料融液から11)結晶
]3か引上げられ結晶或長が行なわれる。
FIG. 2 is a sectional view showing such a state, and shows the poor state after melting the raw material in the crucible. As shown in FIG. 2, the raw material 7, which has become a W liquid, is introduced into the coracle 9 through a communication hole 9C formed at the ψ center of the rutsuho 9.
From the introduced raw material melt in the coracle 9, 11) crystals] 3 are pulled up and crystallized or lengthened.

このように、この発明に従う実施例の装置では、吟料を
溶融する工程において、ベツセルを用いて閉空間を形成
することかでき、従来の装置のように原料溶融と結晶或
長の工程を段階的に分けて行なう必要がない。
As described above, in the apparatus of the embodiment according to the present invention, a closed space can be formed using a beth cell in the process of melting the raw material, and unlike the conventional apparatus, the process of melting the raw material and crystallization or lengthening can be performed in stages. There is no need to do it separately.

第3図は、この発明に従う他の夫施例におけるコラクル
の取付状悪を示す斜視図である。第3図を参照して、コ
ラクル9の中央には連通孔9Cが形成されている。また
コラクル9の周辺部の対向する2箇所にはアーム部9a
および9bか設けられている。なお、第3図においては
アーム部9bがアーム部9aと同様の構造であるので切
欠いて図示省略している。アーム部9aは垂直に上方に
向かって延び先端が外側に折曲げられ先端部9dを形戊
している。この先端部9dは、コラクル支持部12のガ
イド?g 1 2 aに押入されている。また先端部9
dの上には石英からなる重り10が載せられている。コ
ラクル9はこのコラクル支持部12によって支持されて
おり、先端部9dがガイド溝12aを上下動可能な範囲
で上下動する。またアーム部9bもアーム部9aと同様
に、先端部が設けられ先端部の上に重りが載せられて、
それらかコラクル支持部のガイド溝に通されている。
FIG. 3 is a perspective view showing how the coracle is mounted in another embodiment according to the present invention. Referring to FIG. 3, a communication hole 9C is formed in the center of the coracle 9. Also, arm portions 9a are located at two opposing locations on the periphery of the coracle 9.
and 9b are provided. Note that in FIG. 3, the arm portion 9b has the same structure as the arm portion 9a, so it is cut away and not shown. The arm portion 9a extends vertically upward and its tip is bent outward to form a tip 9d. Is this tip portion 9d a guide for the coracle support portion 12? It is pushed into g 1 2 a. Also, the tip 9
A weight 10 made of quartz is placed on top of d. The coracle 9 is supported by the coracle support portion 12, and the tip portion 9d moves up and down in the guide groove 12a within a vertically movable range. Further, like the arm part 9a, the arm part 9b is also provided with a tip, and a weight is placed on the tip.
They are passed through the guide groove of the coracle support.

第1図に示すような実施例の製造装置を用いて、GaA
s結晶を成長させた。直径4インチのPBN製のるつほ
に、GaAs多話晶を1500g,As圧印加用のAs
多拮晶50g,B2 o,を30Og入れ、このるつぼ
をるつぼ収納容器の上に設置した。るりは収納容器の外
周に沿って形或された満には、B20,を500g充填
した。この溝に入れられたシール剤としてのB,,0,
には、石英製のベッセルの先端を浸けた。
Using the manufacturing apparatus of the embodiment shown in FIG.
s crystal was grown. 1500 g of GaAs polyphonic crystal and As for applying As pressure were placed in a 4-inch diameter PBN tube.
50g of polygonal crystals and 30Og of B2O were placed in the crucible, and the crucible was placed on top of a crucible storage container. Ruri was filled with 500 g of B20 into a container formed along the outer periphery of the storage container. B,,0, as a sealant put in this groove
The tip of a quartz vessel was immersed in the water.

用いたコラクルは、開き角150@て、中央に直径4m
mの連通孔が形成されており、コラクルの上方部分の直
径が90mmである。コラクルの外周部分には、3箇所
にアーム部が設けられており、このアーム部の上には8
0gの石英製の重りが載せられている。これらのアーム
部分は、コラクル支持部のガイドl14に挿入されて支
持されている。ガイド溝の上下方向の長さは50mmと
なるように形威されている。なお、コラクルはカーボン
製のものを用いた。
The coracle used had an opening angle of 150 @ and a diameter of 4 m in the center.
m communicating holes are formed, and the diameter of the upper part of the coracle is 90 mm. Arms are provided at three locations on the outer periphery of the coracle, and on top of these arms there are 8
A 0g quartz weight is placed on it. These arm portions are inserted and supported by the guide l14 of the coracle support section. The length of the guide groove in the vertical direction is 50 mm. Note that the coracle was made of carbon.

るつぼ中の原料を溶融する前の状態では、コラクルはコ
ラクル支持部のガイド満の下端より約30mm程度上方
に位置していた。るつぼ収納容器の満内のシール剤であ
るB203は800℃で完全に溶融し、この温度以上の
温度で内部がシールされる。さらに温度を上昇させ約1
250℃の温度で、るつぼ内の原料が溶融した。この原
料の溶融により原料は液化して嵩低くなるので、コラク
ルはガイド溝に沿って下方に移動した。コラクルは原料
融液中に浮かべられ、コラクル中の原料のメルト径が直
径5mmとなるように、下軸すなわちるつぼの位置を調
整した後、上軸スピード10m m / h ,回転3
rpm,下軸スピード12〜20 m m / h ,
回転2rpmで(100)成長を行なった。
Before the raw materials in the crucible were melted, the coracle was located about 30 mm above the lower end of the guide of the coracle support. B203, which is the sealing agent inside the crucible storage container, completely melts at 800° C., and the inside is sealed at a temperature higher than this temperature. Further increase the temperature to approx.
At a temperature of 250°C, the raw materials in the crucible melted. This melting of the raw material caused the raw material to liquefy and become bulky, so the coracle moved downward along the guide groove. The coracle was floated in the raw material melt, and after adjusting the position of the lower shaft, that is, the crucible, so that the melt diameter of the raw material in the coracle was 5 mm, the upper shaft speed was 10 mm/h, and the rotation was 3.
rpm, lower shaft speed 12-20 mm/h,
(100) growth was performed at a rotation speed of 2 rpm.

この結果、2インチの結晶径を有する単結晶を安定して
成長させることができた。得られた単結品のEPDは平
均5000cm−2であり、抵抗率10’Ω”cm以上
、移動度6000cm2V一S−1であり良好な電気的
特性を有する単結晶であった。
As a result, a single crystal having a crystal diameter of 2 inches could be stably grown. The obtained single crystal had an average EPD of 5000 cm-2, a resistivity of 10'Ω"cm or more, and a mobility of 6000 cm2V-S-1, indicating that it was a single crystal with good electrical properties.

[発明の効果] 以上説明したように、この発明の単粘晶製造装置では、
コラクルがベッセルの内側で昇降可能に取付けられてい
るため、原料溶融の際、別体の蓋等によって密閉空間を
形成させずとも、結晶成長の際に用いるベツセルによっ
て閉空間を形成させることができ、従来原料溶融と結晶
成長を段階的に別のステップとして行なっていたのを、
1つのステップで行なうことができる。このため、外部
からの不純物による汚染を防止して高品質の単結晶を製
造することができ、また生産性を向上させて低コスト化
を図ることができるようになる。
[Effects of the Invention] As explained above, in the monoviscous crystal production apparatus of the present invention,
Since the coracle is installed so that it can be raised and lowered inside the vessel, a closed space can be formed by the vessel used during crystal growth without having to create a closed space with a separate lid etc. when melting raw materials. , whereas conventionally raw material melting and crystal growth were performed as separate steps,
It can be done in one step. Therefore, it is possible to prevent contamination by external impurities and to produce a high-quality single crystal, and it is also possible to improve productivity and reduce costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明の一実施例を示す断面図であり、る
つぼ中の原料を溶融する前の状態を示している。 第2図は、この発明の一実施例を示す断面図であり、る
つぼ中の原料を溶融した後の状態を示している。 第3図は、この発明の他の実施例におけるコラクルの取
付構造を示す斜視図である。 第4図は、従来の装置による方法を説明するための断面
図であり、原料を溶融する前の状態を示している。 第5図は、従来の装置による方法を説明するための断面
図であり、原料を溶融した後ベッセルをセットする前の
状態を示している。 第6図は、従来の装置による方法を説明するための断面
図であり、ベッセルをセットして単結晶を成長させてい
る状態を示している。 図において、1はヒータ、2は上軸、3はベッセル、4
はるつぼ収納容器、4aは溝、5はるつぼ、6は下軸、
7は原料、8はシール剤、9はコラクル、9a,9bは
アーム部、9Cは連通孔、10は重り、11は単結晶、
12はコラクル支持部、13は単結晶を示す。 第3図 7 ’/c 図 シ) 派
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, and shows the state before the raw material in the crucible is melted. FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of the present invention, showing the state after the raw materials in the crucible have been melted. FIG. 3 is a perspective view showing a coracle mounting structure in another embodiment of the invention. FIG. 4 is a sectional view for explaining a method using a conventional apparatus, and shows a state before the raw material is melted. FIG. 5 is a sectional view for explaining a method using a conventional apparatus, showing a state after melting the raw material and before setting a vessel. FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a method using a conventional apparatus, showing a state in which a vessel is set and a single crystal is grown. In the figure, 1 is the heater, 2 is the upper shaft, 3 is the vessel, and 4
Crucible storage container, 4a is a groove, 5 is a crucible, 6 is a lower shaft,
7 is a raw material, 8 is a sealant, 9 is a coracle, 9a, 9b are arm parts, 9C is a communication hole, 10 is a weight, 11 is a single crystal,
12 is a coracle support portion, and 13 is a single crystal. Fig. 3 7 '/c Fig. si) faction

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)原料融液を入れるためのるつぼを収納し、シール
剤を入れるための溝が外周に沿って形成されたるつぼ収
納容器と、前記るつぼ収納容器の溝に先端部を浸けるこ
とによって内部が密閉されるベッセルと、前記るつぼの
原料融液の上に浮かべられ、連通孔を通りるつぼから内
部に導入される原料融液から単結晶を引上げるためのコ
ラクルとを備える、単結晶製造装置において、 前記コラクルが前記ベッセルの内側で昇降可能に取付け
られていることを特徴とする、単結晶製造装置。
(1) A crucible storage container that stores a crucible for storing the raw material melt and has a groove formed along the outer periphery for storing a sealant, and the inside can be opened by dipping the tip into the groove of the crucible storage container. A single crystal manufacturing apparatus comprising a vessel to be sealed and a coracle floating above the raw material melt in the crucible and for pulling the single crystal from the raw material melt introduced into the inside from the crucible through a communication hole. . A single crystal manufacturing apparatus, characterized in that the coracle is mounted so as to be movable up and down inside the vessel.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007331998A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Tokuyama Corp Single crystal pulling apparatus
JP2020132491A (en) * 2019-02-22 2020-08-31 インパクト エスアー Single crystal growth apparatus and method for manufacturing iii-v group semiconductor single crystal

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007331998A (en) * 2006-06-16 2007-12-27 Tokuyama Corp Single crystal pulling apparatus
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