JPH035345A - 着色薄膜の製造方法 - Google Patents
着色薄膜の製造方法Info
- Publication number
- JPH035345A JPH035345A JP13664189A JP13664189A JPH035345A JP H035345 A JPH035345 A JP H035345A JP 13664189 A JP13664189 A JP 13664189A JP 13664189 A JP13664189 A JP 13664189A JP H035345 A JPH035345 A JP H035345A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- transition metal
- substrate
- reducing atmosphere
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 claims abstract description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 abstract description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 10
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 6
- 229910001428 transition metal ion Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 abstract description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 abstract 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 3
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 3
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(I) oxide Inorganic materials [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N cuprous oxide Chemical compound [O-2].[Cu+].[Cu+] KRFJLUBVMFXRPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005361 soda-lime glass Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、金属有機化合物を含む溶液を用いた、いわゆ
るゾルゲル法による着色薄膜の製造方法に間し、特に最
終的に焼成を還元性雰囲気中で行うことにより、薄膜中
に含まれる銅イオン等の遷移金属イオンの価数を制御し
、因って、薄膜に種々の色を発色させうる着色薄膜の製
造方法に間する。
るゾルゲル法による着色薄膜の製造方法に間し、特に最
終的に焼成を還元性雰囲気中で行うことにより、薄膜中
に含まれる銅イオン等の遷移金属イオンの価数を制御し
、因って、薄膜に種々の色を発色させうる着色薄膜の製
造方法に間する。
従来、金属有機化合物を含む溶液を塗布した後焼成し、
着色薄膜を製造する方法として、シリコンテトラエトキ
シド(S i (OC2Hs) a)と、硝酸銅を含む
溶液をソーダ石灰ガラス基板に塗布乾燥後、大気中で焼
成してCuO−3iO2系青色薄膜を製造した例が報告
されている。 (J、 Non−Cryst、 5o
lids、競 223−235 (+984))また、
チタニウムテトラプロポキシド(Ti(OC3H7)
a )と、塩化セリウムを含む溶液からCe 02−T
i 02系黄色薄膜を作製した例が、報告されている
。 (例えば、J、 Am、 Ceram、 Soc、
。 I C−12,(1986))
着色薄膜を製造する方法として、シリコンテトラエトキ
シド(S i (OC2Hs) a)と、硝酸銅を含む
溶液をソーダ石灰ガラス基板に塗布乾燥後、大気中で焼
成してCuO−3iO2系青色薄膜を製造した例が報告
されている。 (J、 Non−Cryst、 5o
lids、競 223−235 (+984))また、
チタニウムテトラプロポキシド(Ti(OC3H7)
a )と、塩化セリウムを含む溶液からCe 02−T
i 02系黄色薄膜を作製した例が、報告されている
。 (例えば、J、 Am、 Ceram、 Soc、
。 I C−12,(1986))
しかしながら、上記従来の着色薄膜の製造方法において
は、添加するイオンの種類のみで得られる薄膜の色は、
決定してしまい、目的とする色を有する薄膜を作製しよ
うとする場合、それに合う遷移金属イオンの塩を選択し
、溶液の調製条件を厳密に制御する必要があフた。
は、添加するイオンの種類のみで得られる薄膜の色は、
決定してしまい、目的とする色を有する薄膜を作製しよ
うとする場合、それに合う遷移金属イオンの塩を選択し
、溶液の調製条件を厳密に制御する必要があフた。
本発明は、上記従来の問題点を解決するためになされた
ものであって、水溶性遷移金属化合物および金属有機化
合物を含む溶液を基板に塗布して基板上に溶液の塗布膜
を形成してゾル膜を形成した後、該ゾル膜を固化させて
ゲル膜とした後焼成することにより基板上に着色71膜
を形成する方法において、該焼成を還元性雰囲気で行っ
ている。 本発明は、該焼成を還元性雰囲気で行うことにより、鋼
イオン等の遷移金属イオンの価数を変化させ、1wi類
の添加イオンで種々の色を発色させることを可能として
いる。 該還元性雰囲気における焼成は、希望とする発色を得る
ために雰囲気の還元度、処理時間等により任意に調整で
きる。また該還元性雰囲気における焼成は、焼成工なの
任意の一部分として実施できるが、焼成の最終段階に実
施することが好ましい。 本発明に使用できる金属有機化合物としては、縮重合あ
るいは、架橋反応がおこることによって溶液の粘度を上
昇させるような化合物、あるいは、焼成によって金属酸
化物になるような化合物であれば使用することができる
。 例えば、S i (OCH3)41 S i (
OC2H5)a、T i (OC3Hv)a、Ti
(OCaHe)a、Zr(OC3Hs)*、Zr (
OC4Hs)a+ AI (QC3Hv) 3.
AI (○ C4H6)3. B
(OC3H?)3゜B (OC4Hs)n、PO(OC
2H4)3等の一形式M(OR)n (M: 金属、
R: アルキル基、n:自然数)で表される金属アルコ
キシド、およびCI −COOH,C0OR,NH
2等の、縮重合あるいは架橋反応を行う、−船釣官能基
を含む金属有機化合物、あるいはアセチルアセトナート
等の金属キレート錯体が例示できる。 これら有機金属化合物は、1種類のみに限らず2種類以
上の組合せも可能である。 添加する水溶性遷移金属化合物としては、任意のものが
使用できるが、水溶性銅化合物が還元状態により多種の
色を発色できるので好ましい。 該水溶性銅化合物としては、硝酸銅(Cu(N03)2
3H20)、酢酸ij! (Cu (CH3CO0)2
H20)、 硫酸銅(Cu (SOS))および金属
キレート錯体等があげられる。 着色を助長するために銅以外の金属の塩も必要に応じて
添加することができる。 該水溶性遷移金属化合物の添加量は、必要とされる色あ
い、還元条件等により、ゾルゲル法による薄膜形成に悪
影響を与えない範囲で調整される。 −船釣には、0.01〜5 w t%程度、銅化合物の
場合には0.1〜1 w t%程度とすることが好まし
い。 溶液には、必要に応じて水および、加水分解−縮重合反
応を促進する触媒として酸を加えることが好ましい。酸
は、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、フッ酸等が挙げられる。 薄膜を形成する基板としては、ガラス、金属。 セラミックス、°プラスチック等任意の基板を選ぶこと
ができるが、薄膜を実用に足る程度まで硬化させるのに
必要な焼成温度(300℃以上)に耐え、また透明であ
るものとして、ガラス及び透光性セラミックス等が特に
好ましい。 焼成を行う前の塗布膜を基板に形成する方法としては、
基板を前記金属有機化合物と水溶性遷移金属化合物を含
む溶液に浸漬した後引き上げる方法(通称ディッピング
法)、溶液を基板に滴下した後回転させる方法(通称ス
ピンコード法)、スプレー法、印刷法、ロールコート法
等が挙げられる。溶液の塗布は、必要に応じて、雰囲気
中の湿度を制御した環境(例えば、相対湿度20%)、
あるいは、不活性雰囲気(例えば、窒素、ヘリウム、ネ
オン、アルゴンなど)中で行うことが望ましい。 還元性雰囲気における焼成は、例えば焼成炉内を減圧後
還元性ガスで充満させること、あるいは焼成炉内に還元
性ガスを流通させることにより行うことができる。 還元性ガスとしては、 100%水素、あるいは水素を
酸素以外のガスで希釈した混合ガスを使用することがで
きる。還元焼成温度および還元焼成時間を変えることに
より、Fil膜中の銅イオンの価数および凝集状態を制
御し、因って、得られる薄膜の色を変化させることがで
きる。 還元焼成は、−旦、空気中あるいは酸素を含む酸化性雰
囲気で焼成した後でも実施することができる。
ものであって、水溶性遷移金属化合物および金属有機化
合物を含む溶液を基板に塗布して基板上に溶液の塗布膜
を形成してゾル膜を形成した後、該ゾル膜を固化させて
ゲル膜とした後焼成することにより基板上に着色71膜
を形成する方法において、該焼成を還元性雰囲気で行っ
ている。 本発明は、該焼成を還元性雰囲気で行うことにより、鋼
イオン等の遷移金属イオンの価数を変化させ、1wi類
の添加イオンで種々の色を発色させることを可能として
いる。 該還元性雰囲気における焼成は、希望とする発色を得る
ために雰囲気の還元度、処理時間等により任意に調整で
きる。また該還元性雰囲気における焼成は、焼成工なの
任意の一部分として実施できるが、焼成の最終段階に実
施することが好ましい。 本発明に使用できる金属有機化合物としては、縮重合あ
るいは、架橋反応がおこることによって溶液の粘度を上
昇させるような化合物、あるいは、焼成によって金属酸
化物になるような化合物であれば使用することができる
。 例えば、S i (OCH3)41 S i (
OC2H5)a、T i (OC3Hv)a、Ti
(OCaHe)a、Zr(OC3Hs)*、Zr (
OC4Hs)a+ AI (QC3Hv) 3.
AI (○ C4H6)3. B
(OC3H?)3゜B (OC4Hs)n、PO(OC
2H4)3等の一形式M(OR)n (M: 金属、
R: アルキル基、n:自然数)で表される金属アルコ
キシド、およびCI −COOH,C0OR,NH
2等の、縮重合あるいは架橋反応を行う、−船釣官能基
を含む金属有機化合物、あるいはアセチルアセトナート
等の金属キレート錯体が例示できる。 これら有機金属化合物は、1種類のみに限らず2種類以
上の組合せも可能である。 添加する水溶性遷移金属化合物としては、任意のものが
使用できるが、水溶性銅化合物が還元状態により多種の
色を発色できるので好ましい。 該水溶性銅化合物としては、硝酸銅(Cu(N03)2
3H20)、酢酸ij! (Cu (CH3CO0)2
H20)、 硫酸銅(Cu (SOS))および金属
キレート錯体等があげられる。 着色を助長するために銅以外の金属の塩も必要に応じて
添加することができる。 該水溶性遷移金属化合物の添加量は、必要とされる色あ
い、還元条件等により、ゾルゲル法による薄膜形成に悪
影響を与えない範囲で調整される。 −船釣には、0.01〜5 w t%程度、銅化合物の
場合には0.1〜1 w t%程度とすることが好まし
い。 溶液には、必要に応じて水および、加水分解−縮重合反
応を促進する触媒として酸を加えることが好ましい。酸
は、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、フッ酸等が挙げられる。 薄膜を形成する基板としては、ガラス、金属。 セラミックス、°プラスチック等任意の基板を選ぶこと
ができるが、薄膜を実用に足る程度まで硬化させるのに
必要な焼成温度(300℃以上)に耐え、また透明であ
るものとして、ガラス及び透光性セラミックス等が特に
好ましい。 焼成を行う前の塗布膜を基板に形成する方法としては、
基板を前記金属有機化合物と水溶性遷移金属化合物を含
む溶液に浸漬した後引き上げる方法(通称ディッピング
法)、溶液を基板に滴下した後回転させる方法(通称ス
ピンコード法)、スプレー法、印刷法、ロールコート法
等が挙げられる。溶液の塗布は、必要に応じて、雰囲気
中の湿度を制御した環境(例えば、相対湿度20%)、
あるいは、不活性雰囲気(例えば、窒素、ヘリウム、ネ
オン、アルゴンなど)中で行うことが望ましい。 還元性雰囲気における焼成は、例えば焼成炉内を減圧後
還元性ガスで充満させること、あるいは焼成炉内に還元
性ガスを流通させることにより行うことができる。 還元性ガスとしては、 100%水素、あるいは水素を
酸素以外のガスで希釈した混合ガスを使用することがで
きる。還元焼成温度および還元焼成時間を変えることに
より、Fil膜中の銅イオンの価数および凝集状態を制
御し、因って、得られる薄膜の色を変化させることがで
きる。 還元焼成は、−旦、空気中あるいは酸素を含む酸化性雰
囲気で焼成した後でも実施することができる。
本発明は、上記従来の方法においては、添加するイオン
の種類のみで得られる薄膜の色は、決定してしまい、目
的とする色を有する薄膜を作製しようとする場合、それ
に合うイオンの塩を選択し、溶液のSPI!!条件を厳
密に制御する必要があることに鑑みなされたものである
。 本発明は、例えば銅イオンが、ガラス構造中で2価状態
で存在する場合に青色から緑色、1価で均一に分散して
いる場合に黄色、またCu2Oコロイドとして凝集して
いる場合に赤色、ざらに0価で金属Cuとして存在して
いる場合に赤色から黒色、を呈すること等、遷移金属の
還元状態の違いに基づく色合いの変化を利用している。 即ち、薄膜中に添加するイオンを例えば銅イオン1種類
とし、還元焼成により目的とする色を呈する薄膜を、酸
化状態を制御することにより製造するようにしている。 本発明によれば、焼成時の酸化状態を制御することで種
々の着色薄膜を、製造できるので、目的とする色に合う
遷移金属イオンの塩を選択したり、溶液の調製条件を厳
密に制御する必要がない。 また、本薄膜の製造方法においては、薄膜が多孔質の状
態を経るので、通常の蒸着法、スパッタリング法、化学
気相析出法等で製造した薄膜に比べて、上記還元焼成処
理の効果が極めて有効に現われ、かつ低温でその処理が
できる。
の種類のみで得られる薄膜の色は、決定してしまい、目
的とする色を有する薄膜を作製しようとする場合、それ
に合うイオンの塩を選択し、溶液のSPI!!条件を厳
密に制御する必要があることに鑑みなされたものである
。 本発明は、例えば銅イオンが、ガラス構造中で2価状態
で存在する場合に青色から緑色、1価で均一に分散して
いる場合に黄色、またCu2Oコロイドとして凝集して
いる場合に赤色、ざらに0価で金属Cuとして存在して
いる場合に赤色から黒色、を呈すること等、遷移金属の
還元状態の違いに基づく色合いの変化を利用している。 即ち、薄膜中に添加するイオンを例えば銅イオン1種類
とし、還元焼成により目的とする色を呈する薄膜を、酸
化状態を制御することにより製造するようにしている。 本発明によれば、焼成時の酸化状態を制御することで種
々の着色薄膜を、製造できるので、目的とする色に合う
遷移金属イオンの塩を選択したり、溶液の調製条件を厳
密に制御する必要がない。 また、本薄膜の製造方法においては、薄膜が多孔質の状
態を経るので、通常の蒸着法、スパッタリング法、化学
気相析出法等で製造した薄膜に比べて、上記還元焼成処
理の効果が極めて有効に現われ、かつ低温でその処理が
できる。
実施例−1
出発原料としてシリコンテトラエトキシド(S(OC2
Hs)a)、はう酸(HaBO3)および硝酸鋼を用い
、溶媒にはエタノール、加水分解触媒には硝酸をそれぞ
れ用いた。加える水の量は、シリコンテトラエトキシド
に対してモル比で4倍とした。 シリコンテトラエトキシドのエタノール溶液に硝酸水溶
液(6w t%)を加え、室温で30分間かくはんし、
次に硝酸銅とほう酸の水溶液とアセチルアセトン(CH
3COCH2COCH3)を加え室温でさらに1時間か
くはんし、均一な溶液な得た。 ここで、硝酸鋼、はう酸、シリコンテトラエトキシドの
割合は、得られる薄膜の組成が、25Cu015B20
t60sio2(モル%)となるようにした、またアセ
チルアセトンは、硝酸銅に対してモル比で1:1となる
ように加えた。 こうして得られた溶液は緑色透明で、この溶液を膜厚を
制御するためにエタノールで適当な濃度に希釈しコーテ
ィング溶液とした。 該コーティング溶液の中に無アルカリガラス基板を浸漬
し、一定速度(0,8mm/ win)で引き上げるこ
とにより、塗布膜をガラス基板上に形成した。得られた
薄膜コートガラス基板を空気雰囲気下500℃で10分
間焼成を行った。こうして得られた薄膜(着色薄膜l)
は、銅の2価イオンが分散した青緑色透明であった。 つぎに上記操作によって得られた緑色透明薄膜を種々の
条件下で還元焼成処理を行った。還元焼成は、H2/N
2= 10/90の混合ガスを焼成炉内に流通させ、焼
成炉内の温度、薄膜の還元焼成保持時間を変えて行った
。 232℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、もともと
2価であった銅イオンが1価に還元されかつ、凝集の生
じていない黄色透明の薄膜(着色薄膜2)となった。 251℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、もともと
2価であった銅イオンが、1価に還元されかつ凝集の生
じたCu2Oコロイドの赤色透明の薄膜(着色薄膜3)
となった。 300℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、Cu2O
コロイドと金属鋼が存在する赤黒色半透明のN膜(着色
N膜4)となフた。 500℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、金属銅の
みが析出した黒色不透明の薄膜(着色薄膜5)となった
。 上記実施例で作製した着色薄膜の可視域における光吸収
スペクトルを第1図に示す。これらの結果から還元焼成
の条件を変化させることにより、銅イオン1種類から種
々の色を有する着色薄膜の得られることが判る。 また、得られた薄膜の導電率測定の結果より232℃で
30分分間光焼成処理を行った黄色透明薄膜(着色薄膜
2)の導電率は、還元焼成処理を行っていない薄膜より
も特に高くなっていることが判った。これは、還元され
た1価の銅イオンが、電導に関与し薄膜のイオン導電率
が増大したためであフたΦ 鋼イオンを添加するガラス薄膜の組成は、本実施例(D
B203−5iO2系+7) ミ+Z限らず、5102
、P2O55i02系、 TiO2SiO2系、 など
無色透明のガラスを形成する任意の系において同様の着
色ガラス薄膜が得られた。
Hs)a)、はう酸(HaBO3)および硝酸鋼を用い
、溶媒にはエタノール、加水分解触媒には硝酸をそれぞ
れ用いた。加える水の量は、シリコンテトラエトキシド
に対してモル比で4倍とした。 シリコンテトラエトキシドのエタノール溶液に硝酸水溶
液(6w t%)を加え、室温で30分間かくはんし、
次に硝酸銅とほう酸の水溶液とアセチルアセトン(CH
3COCH2COCH3)を加え室温でさらに1時間か
くはんし、均一な溶液な得た。 ここで、硝酸鋼、はう酸、シリコンテトラエトキシドの
割合は、得られる薄膜の組成が、25Cu015B20
t60sio2(モル%)となるようにした、またアセ
チルアセトンは、硝酸銅に対してモル比で1:1となる
ように加えた。 こうして得られた溶液は緑色透明で、この溶液を膜厚を
制御するためにエタノールで適当な濃度に希釈しコーテ
ィング溶液とした。 該コーティング溶液の中に無アルカリガラス基板を浸漬
し、一定速度(0,8mm/ win)で引き上げるこ
とにより、塗布膜をガラス基板上に形成した。得られた
薄膜コートガラス基板を空気雰囲気下500℃で10分
間焼成を行った。こうして得られた薄膜(着色薄膜l)
は、銅の2価イオンが分散した青緑色透明であった。 つぎに上記操作によって得られた緑色透明薄膜を種々の
条件下で還元焼成処理を行った。還元焼成は、H2/N
2= 10/90の混合ガスを焼成炉内に流通させ、焼
成炉内の温度、薄膜の還元焼成保持時間を変えて行った
。 232℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、もともと
2価であった銅イオンが1価に還元されかつ、凝集の生
じていない黄色透明の薄膜(着色薄膜2)となった。 251℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、もともと
2価であった銅イオンが、1価に還元されかつ凝集の生
じたCu2Oコロイドの赤色透明の薄膜(着色薄膜3)
となった。 300℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、Cu2O
コロイドと金属鋼が存在する赤黒色半透明のN膜(着色
N膜4)となフた。 500℃で30分分間光焼成を行った薄膜は、金属銅の
みが析出した黒色不透明の薄膜(着色薄膜5)となった
。 上記実施例で作製した着色薄膜の可視域における光吸収
スペクトルを第1図に示す。これらの結果から還元焼成
の条件を変化させることにより、銅イオン1種類から種
々の色を有する着色薄膜の得られることが判る。 また、得られた薄膜の導電率測定の結果より232℃で
30分分間光焼成処理を行った黄色透明薄膜(着色薄膜
2)の導電率は、還元焼成処理を行っていない薄膜より
も特に高くなっていることが判った。これは、還元され
た1価の銅イオンが、電導に関与し薄膜のイオン導電率
が増大したためであフたΦ 鋼イオンを添加するガラス薄膜の組成は、本実施例(D
B203−5iO2系+7) ミ+Z限らず、5102
、P2O55i02系、 TiO2SiO2系、 など
無色透明のガラスを形成する任意の系において同様の着
色ガラス薄膜が得られた。
【発明の効果】
本発明によれば、実施例から明らかなとうり、還元焼成
処理条件を制御することにより銅イオンの酸化状態、凝
集状態を制御することができ、これにより添加するイオ
ンの種類を変えることなく種々の着色薄膜を製造するこ
とができる。 本発明により製造される着色薄膜は、ガラス基板等にこ
れを形成することにより特定の波長の光を透過、吸収す
るフィルターとして利用することができる。また本方法
によれば、複雑な形状のもの、あるいは大面積のものに
でもに容易に着色薄膜を形成できるので、ガラス容器、
サングラス。 工芸用ガラスを着色する方法としても広く利用すること
ができる。
処理条件を制御することにより銅イオンの酸化状態、凝
集状態を制御することができ、これにより添加するイオ
ンの種類を変えることなく種々の着色薄膜を製造するこ
とができる。 本発明により製造される着色薄膜は、ガラス基板等にこ
れを形成することにより特定の波長の光を透過、吸収す
るフィルターとして利用することができる。また本方法
によれば、複雑な形状のもの、あるいは大面積のものに
でもに容易に着色薄膜を形成できるので、ガラス容器、
サングラス。 工芸用ガラスを着色する方法としても広く利用すること
ができる。
第1図は、実施例−1で作製した種々の着色薄膜の光吸
収スペクトルを示すものである。 手続補装置 平成1年7月四日 波長/nm 第1図 事件との関係 特許出願人 住所 大阪市中央区道修町3丁目5番11号名称 (
400)日本板硝子株式会社 代表者 中 島 達 二 4、代理人 住所 東京都港区新橋5丁目11番3号 新橋住友ビル 日本板硝子株式会社 特許部内 6、補正の対象 明細書の発明詳細な説明の欄 7、補正の内容 (1) 明細書5頁5行目に「該水溶性遷移金属化合
物の添加量は、」とあるのを「該水溶性遷移金属化合物
の添加量は、必要とされる色あい還元条件2着色薄膜の
膜厚等により、ゾルゲル法による薄膜形成に悪影響を与
えない範囲で調整される。 −船釣には、遷移金属の含量が0.1〜50wt%。 特に銅の場合には1〜30−t%程度になるように添加
することが好ましい。 また、着色を助長するための金属の添加量も、」と補正
する。 (2)明細書5頁8行ないし9行目に「銅化合物の場合
には」とあるのを「銅の発色を助長する場合には」と補
正する。 (3)明細書10頁1行目に「緑色」とあるのを「青緑
色」と補正する。
収スペクトルを示すものである。 手続補装置 平成1年7月四日 波長/nm 第1図 事件との関係 特許出願人 住所 大阪市中央区道修町3丁目5番11号名称 (
400)日本板硝子株式会社 代表者 中 島 達 二 4、代理人 住所 東京都港区新橋5丁目11番3号 新橋住友ビル 日本板硝子株式会社 特許部内 6、補正の対象 明細書の発明詳細な説明の欄 7、補正の内容 (1) 明細書5頁5行目に「該水溶性遷移金属化合
物の添加量は、」とあるのを「該水溶性遷移金属化合物
の添加量は、必要とされる色あい還元条件2着色薄膜の
膜厚等により、ゾルゲル法による薄膜形成に悪影響を与
えない範囲で調整される。 −船釣には、遷移金属の含量が0.1〜50wt%。 特に銅の場合には1〜30−t%程度になるように添加
することが好ましい。 また、着色を助長するための金属の添加量も、」と補正
する。 (2)明細書5頁8行ないし9行目に「銅化合物の場合
には」とあるのを「銅の発色を助長する場合には」と補
正する。 (3)明細書10頁1行目に「緑色」とあるのを「青緑
色」と補正する。
Claims (1)
- (1)水溶性遷移金属化合物および金属有機化合物を含
む溶液を基板に塗布して基板上に溶液の塗布膜を形成し
てゾル膜を形成した後、該ゾル膜を固化させてゲル膜と
した後焼成することにより基板上に着色薄膜を形成する
方法において、該焼成を還元性雰囲気で行うことを特徴
とする着色薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13664189A JPH035345A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 着色薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13664189A JPH035345A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 着色薄膜の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH035345A true JPH035345A (ja) | 1991-01-11 |
Family
ID=15180061
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13664189A Pending JPH035345A (ja) | 1989-05-30 | 1989-05-30 | 着色薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH035345A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022092319A1 (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 日本板硝子株式会社 | ガラス体 |
-
1989
- 1989-05-30 JP JP13664189A patent/JPH035345A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022092319A1 (ja) * | 2020-10-30 | 2022-05-05 | 日本板硝子株式会社 | ガラス体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Takahashi et al. | Dip-coating of TiO 2 films using a sol derived from Ti (O-i-Pr) 4-diethanolamine-H 2 O-i-PrOH system | |
US4568578A (en) | Process for the producing of indium oxide-tin oxide layers and the resultant coated substrates | |
US5112676A (en) | Method for the preparation of metallic oxide coatings | |
JPH035345A (ja) | 着色薄膜の製造方法 | |
EP0818561B1 (en) | Protection coatings produced by sol-gel on silver reflectors | |
JP3105340B2 (ja) | 複合金属酸化物皮膜を有する基板の製造法 | |
JPS6217044A (ja) | レ−ザ−ダメ−ジに強く、耐摩耗性の高い反射防止膜を光学素子表面に形成する方法 | |
WO1998041481A1 (fr) | Composition permettant de former un revetement colore et procede de production d'un article en verre pourvu dudit revetement colore | |
JP3372435B2 (ja) | 酸化チタン被膜の製造方法 | |
JP3456396B2 (ja) | 透光性着色膜付きガラス基板の製造方法 | |
JPS63310705A (ja) | 化学的重合法による超電導性セラミックの製造法 | |
JP3142927B2 (ja) | 耐熱性透明黄色膜形成用組成物および耐熱性黄色透明体 | |
JPH11157832A (ja) | 透明酸化マグネシウム被膜形成用塗布液 | |
JPH05345638A (ja) | 紫外線吸収ガラスおよびその製造方法 | |
JP2520223B2 (ja) | 紫外線吸収被膜形成用塗布液および該塗布液を使用した紫外線吸収ガラス | |
JPS6134185A (ja) | 金属,無機質物の基体表面に着色する方法 | |
JPH07209510A (ja) | 着色フィルター及びその製造方法 | |
JPH0371365B2 (ja) | ||
JPS60127250A (ja) | 反射防止膜の形成方法 | |
JPH039187B2 (ja) | ||
JPH07121817B2 (ja) | 酸化ジルコニウム系前駆体ゲル状物及びその製造方法 | |
JPH05177760A (ja) | 金属箔積層体及びその製造方法 | |
JPH04263080A (ja) | 紫外線カットフィルターの製造方法 | |
JPH03279221A (ja) | 黄色系透明被膜形成用組成物および黄色系透明被膜を有する透明ガラス | |
JPH01264929A (ja) | 透明導電性酸化亜鉛膜の製造方法 |