JPH0352613A - 高圧気体製造装置 - Google Patents

高圧気体製造装置

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JPH0352613A
JPH0352613A JP1187638A JP18763889A JPH0352613A JP H0352613 A JPH0352613 A JP H0352613A JP 1187638 A JP1187638 A JP 1187638A JP 18763889 A JP18763889 A JP 18763889A JP H0352613 A JPH0352613 A JP H0352613A
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JP
Japan
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pressure
gas
tank
product
product gas
Prior art date
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Pending
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JP1187638A
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English (en)
Inventor
Masaki Kawai
河合 正毅
Takayuki Ando
安藤 隆之
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Tokico Ltd
Original Assignee
Tokico Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0352613A publication Critical patent/JPH0352613A/ja
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  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高圧気体製造装置に係り、特に吸着剤により生
成された製品ガスを高圧気体として貯蔵するよう構成し
た高圧気体製造装置に関する。
従来の技術 従来より分子ふるいカーボンからなる吸着剤を用いて、
空気を窒素と酸素に分離し、いずれか一方を製品ガスと
して取出すP S A ( P ressure3wi
ng  Adsorption )式気体分離装置が知
られている。
そして、食品保存の研究が進むにつれて乾物の長期保存
、生鮮食品の鮮度維持などに窒素ガスあるいは低比率の
酸素ガスを含む窒素ガスが有効であることが確認されて
おり、窒素発生装置の需要が増加している。特に上記P
SA式窒素発生装圃は取扱いが容易で安全であり、製造
工程に不純物を介在させない等の利点があるため広く多
用されている。
従来の装置では、圧縮機により加圧された約5Kタf/
cd程度の中圧の圧縮空気を吸着槽へ供給し,吸着剤に
より酸素分゛fが吸着されて窒素ガスを取り出すように
なっている。そのため、製品タンクに貯溜された製品ガ
ス〈窒素ガス)の圧力も供給圧力を限度とする中圧<5
8gf/禰以下)となる。
発明が解決しようとする課題 ところが、大規模な食品貯蔵施設等の一時に大撮の窒素
を消費する施設においては、大量の窒素ガスを貯溜する
装置が要望されていた。しかし、従来のように中圧の製
品ガスのまま貯溜しようとすると製品タンクが大形化し
てしまいより広い設置スペースが必要となる。そのため
、製品タンクを大形化せずに製品ガスの貯蔵量を増加さ
せる手段として、製品ガスを高汗化(例えば9〜10K
9f/cd程度〉することが考えられている。
製品タンク内の『力を高めるには吸着槽への供給圧力を
高圧化すれば良い。しかしながら、このように吸着槽内
への供給圧力が高くなると、吸着槽内における昇圧、降
圧動作による圧力変化が激しくなり吸若剤の破砕される
比率が高まり、装置の窒素発生効率が低下してしまうと
いった課題が生ずる。又、大気圧から高圧に一気に圧縮
することになるので、圧縮時原料気体は高温となり膨脹
するが吸着槽に圧縮空気が供給される際は゛次第に温度
が低下して圧力が下がり圧縮効率が低下するといった課
題も生ずる。
そこで、本考案は上記課題を解決した高圧気体製造装置
を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 本発明は、内部に吸着剤が充填された吸着槽と、吸着槽
に供給する原料気体を中圧に圧縮する中圧用圧縮機と、
吸着剤により生成された中圧製品ガスを貯溜する中間タ
ンクと、中間タンク内の中圧製品ガスを高圧に圧縮する
高圧用圧縮機と、高圧用圧縮機により圧縮された高圧製
品ガスを貯溜する製品タンクとよりなる。
作用 吸着槽に供給される原料気体の供給圧力が中圧に抑えら
れているので吸着剤が破砕せず、気体生或効率を高く維
持し、吸着槽から取出された製品ガスを高坏化すること
により圧縮効率がより高まる。
実施例 第1図に本発明になる高圧気体製造装置の第1実施例を
示す。
同図中、1.2は第1,第2の吸着槽で、各吸着槽1,
2内にはそれぞれ分子ふるいカーボンIA.2Aが充填
されている。
3は2段圧縮機で、空気を約5K9f/d程度の中圧に
圧縮する中圧用圧縮機としての中圧気筒3a .3bと
、後述するように生成された製品ガス(窒素ガス〉を高
圧に圧縮する高圧用圧縮機としての高圧気筒3cとを有
する。具体的には第2図<A),(B)に示すような構
或となっており、中圧気筒3a.3bにより圧縮された
圧縮空気が貯溜される原料タンク4士に上記中圧気筒3
a,3b及び高圧気筒3cが設けられている。
各気筒3a〜3Cのピストン(図示せず〉はモータ3d
により駆動される。中圧気m3a ,3bではピストン
がモータ3dに駆動されるとともにサイレンサ3,1.
3b,より空気を吸引し、タンク4内に圧縮空気を蓄圧
する。そのため、原料タンク4内の圧力は約5K9f/
ai程度に保持ざれる。
タンク4からの圧縮空気は冷凍式のドライヤ5により除
湿された後配管6,7を介して吸着槽1,2にそれぞれ
交互に供給されるようになっており、このため該配管6
.7の途中にはそれぞれ電磁弁からなる空気供給用弁8
.9が設けられている。
10.11は脱着時に吸着槽1,2からの気体を排出す
る配管で、共通排出配管12に接続ざれており、排出配
管12は脱着排ガスを排出するようになっている。そし
て、前記配管10.11の途中にはそれぞれ吸着槽1,
2内の脱着排ガスを半ザイクル毎に交互に排出する電磁
弁からなる気体排出用弁13.14が設けられている。
15.16は吸着槽1,2の出口側に接続され吸着槽1
,2内で生成された窒素をそれぞれ取出す取出配管、1
7は各配管15.16と連結した取出配管で、配管15
.16の途中には半シイクルの間だけ後述の制御の下に
交互に開弁ずる電磁弁からなる取出用弁18.19がそ
れぞれ設けられている。また前記取出配管17は中間タ
ンク20と接続されている。
この中間タンク20は吸着槽1.2から取出された中圧
(約5Kyf/aA程度〉の製品ガスを一時的に貯蔵す
るための補助タンクである。
21は吸着槽1,2の出口側を連通ずる配管、22は配
管21の途中に設けられた電磁弁からなる均圧用弁で、
均圧用弁22は吸着槽1.2による半サイクルの終了時
に所定の短時間だけ開弁じ、各吸着槽1.2間を均圧に
する。
24は中間タンク20に接続された取出配管で、その途
中には電磁弁からなる製品ガス供給用弁25が設けられ
ている。
取出配管24の他端は上記2段汗縮機3の高圧気筒3C
の吸気弁(図示せf)側に接続されており、製品ガス供
給用弁25は高圧気筒3Cが動作するとぎのみ開弁ずる
26は高圧気筒3Cの排気弁(図示せず)l,:接続さ
れた排気配管で、製品タンク27に接続されている。又
、排気配管26の途中には製品タンク27内の高圧ガス
の逆流を防止する逆止弁28が配設されている。尚、製
品タンク27は高圧気筒3C ニヨリ高IE l 9.
5hf /CIi) l.:圧縮された製品ガスを貯溜
できるように十分な耐圧強度がもたされ、中間タンク2
0よりも強固に製作されている。しかし、製品タンク2
7の内部容積は中間タンク20と略同程度とされている
29は製品タンク27内の製品ガスを取出すための取出
配管で、その途中に可変絞り30.取出用弁31が配設
されている。可変絞り30は製品タンク27内の製品ガ
スが高圧であるので、下流側への供給圧力を所定圧力〈
約6Kgf/ai程度〉に調整する。取出用弁31は通
常開弁じており、減圧された製品ガスは製品タンク27
より下流側へ供給される。
32は酸素センサで、中間タンク20に貯溜された気体
の酸素濃度〈組成値)を検出する。又、酸素センサ32
からの酸素濃度検出信弓は後述する制御回路34に入力
される。
なお、酸素センサ32としては酸素分子の常磁性を利用
した磁気式酸素センサ、酸素が透過膜を介して電界液に
入ると電極で酸化還元反応が起き1!流が流れるのを利
用した電磁式酸素センサ、ジルコニア磁器の内外面に電
極を設け、酸素St度によって起電力が発生するのを利
用したジルコニア式酸素センサ等が用いられる。
33は取出配管24から取出される窒素純度、即ち酸素
濃度を設定する、濃度設定スイッチで、中間タンク20
から取出すべき窒素ガス濃度に応じて適宜に設定される
ものである。
また、制御回路34は例えばマイクロコンビ1−タ等に
よって構或される弁制御手段で、入力側には酸素センサ
32,m度設定スイッチ33が接続されている。
35はプログラマブルコントローラで、制御回路34か
らの指示があると予め入力されたプログラムに従い、例
えば第4図に示す加圧(■.■).取出(■,■),均
圧(■,■〉の各工程に応じて、空気供給用弁8,9.
気体排出用弁13,14,取出用弁18.19.均圧用
弁22,製品ガス供給用弁25,取出用弁31を開閉制
御する。
尚、上記制御回路34により開閉制御される各電磁弁は
、開弁信号の供給により励磁されたとき開弁じ、励磁さ
れないときにはバネ力で閉弁するようになっている。
ここで、上記窒素発生装置の窒素発生サイクルの動作に
つき説明する。
まず、窒素発生装置としての基本動作について、第3図
、第4図を参照しながら述べる。
いま、窒素発生装質を起動すると、マイクロ」ンビュー
タ(図示ぜず〉の制御の下に、窒素発生が行なわれる。
まず、第4図に示すように■,■,■の動作が実行され
る。第3図中の■は、空気供給用弁つと気体排出用弁1
3が開弁ずる1,第2の吸着槽2には中圧気筒3a ,
3bにより原料タンク4に蓄圧された圧縮気体が供給さ
れ、第2の吸着槽2は加圧状態になる。そのため分子ふ
るいカーボン2Aに酸素が吸着される。一方第1の吸肴
槽1は減圧状態にあり、吸着していた酸素がvt着して
括出されている状態を示している。
次に、第3図中の■は空気供給用弁9と気休徘出用弁1
3の他に、新たに取出用弁19を開弁じ、第2の吸看槽
2内の窒素ガスを取出している状態を示している。この
とき、第1の1汲看槽1は減圧状態のままである。
次に、第3図中の■は均圧操作で、各取出用弁18,1
9,及び空気供給用弁9.気体排出用弁13を閉弁する
とともに均圧用弁22を開弁ずる。
これにより、第2の吸着槽2内に残存する窒素ガスは第
1の吸着槽1に回収され、各吸着槽1,2は均圧となる
。なお、前記均圧操作は通常1〜3秒である。
これにより、1サイクルのうちの前半の半サイクルが終
了したことになり、空気供給用弁8.気体排出用弁14
を開弁ずることによって、第4図(B)に示すように第
3図中の■〜■に示す後半の半サイクルを繰返す。かく
して、吸着槽1,2からは各半りイクルの後半で窒素ガ
スを取出し、中間タンク20に供給することができる。
そして、起動後しばらくすると、発生する窒素ガスの純
度は安定する。
このようにして、中間タンク20には約5鎗f/Cri
程度にFf縮された中庄製品ガスが蓄圧される。
又、中間タンク20内の製品ガスは製品ガス供給用弁2
5,取出配管24を介して高圧気筒3cへ吸引され、さ
らに圧縮される。高圧気筒3Cで約9.5K9r/cd
の高圧に圧縮された製品ガスは排気配管26,逆止弁2
8を介して製品タンク27に蓄圧される。
従って、本発明の装置では上記の如く吸着槽1,2から
取出された製品ガスを高圧にするため、吸着槽1.2内
の吸着剤が気体圧力により破砕されてしまうことがなく
、吸着槽1.2における吸着効率を高水準に維持したま
ま窒素ガスを生成することかでぎる。そして、製品タン
ク27内にIユ通常よりも約2倍の圧力に加圧された製
品ガスが貯溜されており、即ちタンク容量の2倍の製品
ガスが製品タンク27に充填されている。そのため、装
置下流側で製品ガスを大量に消費する施設等が設けられ
ている場合にも、安定的に製品ガスを供給することが可
能である。
さらに、中間タンク2oに蓄圧された製品ガスはドライ
ヤ5で除湿ざれ、さらには吸着槽1,2においで気体中
の水分を除去された窒素ガスであり、この乾燥された製
品ガスが高圧気II3cで高圧に圧縮ざれるため、取出
配管24.高圧気筒26.製品タンク27.取出配管2
9等の二次側では腐食が発生しにくく、しかも通過する
気体が窒素純度の高い製品ガスであるのでこの点からも
高『気筒 3Cを含む2次側で腐食が起きにくく、装置
の耐久性がより向上する。
又、上記の如く2段圧縮工程により高r+製品ガスを生
成する際、まず第1段の中圧気筒3a,3bにより圧縮
された原料気体が中間タンク20に取出される過程で圧
縮時に加熱された気体が冷却される。そして、高圧気筒
3Cでは冷却されながら中圧に加圧された製品ガスを高
圧に圧縮することになるので、負荷が小さくて済み圧縮
効率が高く、高圧に圧m後の温度上昇も小さい。従って
大気圧から高圧に一気に圧縮する場合よりも圧縮機の性
能が高まる。又、上記中間タンク20の二次側での温度
上昇が抑えられることにより、高圧に圧縮された製品ガ
スが製品タンク27内でいつまでも高圧を維持すること
ができる。
第5図に本発明の第2実施例を示す。
第5図中、2段圧縮!fi3のタンク4の内部は、原料
タンク4aと中間タンク4bとに画威されている。従っ
て、中圧気簡3a ,3bにより圧縮ざれた原料気体は
原料タンク4a内に岳『された後、気体供給用弁8又は
9の開弁によりドライヤ5,配管6.7を介して吸肴I
!1又は2に供給される。
又、吸着槽1,2より取出された製品ガスは配管24を
介してタンク4内の中間タンク4bに貯溜される。中間
タンク4bは配管36を介して高圧気筒3Cの吸気弁側
(図示せず)に接続ざれており、配管36の途中には製
品ガス供給用弁37が配設されている。
中間タンク4b内の製品ガスは約5K’Jf/ci程度
の中圧に庄縮されており、高圧気筒3Cによりさらに高
圧に圧縮され製品タンク27に蓄圧される。上記第2実
施例の装置では原料タンク4aと中間タンク4bとが一
体化されているので、装置全体がコンパクトな構成とな
っている。
尚、上記実施例では2段圧縮機を使用したが、これに限
らず、原料タンクに中圧気体を蓄圧する中圧用圧縮機と
、中間タンク内の中圧気体を高圧気体に圧縮する高圧用
圧縮機とを別々に設けるようにしても良い。
又、上記実施例では窒素発生用の高圧気体製造装置を例
に挙げたが、これに限らず例えば1l素発生用の装置に
も適用できる。
発明の効果 上述の如く、本発明になる高圧気体製造装置は、中圧に
厘縮された原料気体を吸着槽に供給し、吸着槽より取出
された製品ガスを高圧に圧縮するようにしたため、吸着
槽内の吸着剤が高圧気体の圧力変化により破砕されるこ
となく高圧製品ガスを生成することができ、吸着槽にお
ける吸着効率の低下を防止するとともに、製品タンクを
大型化せずに製品ガスの大量消費に対応することができ
る。
しかも、吸着槽で製品ガスが生成される間に製品ガスの
水分が除去され、中間タンクより製品タンクに蓄圧され
る高圧製品ガスを生成する経路での腐食発生を抑えるこ
とができる。さらに、中圧用圧縮機により圧縮された中
圧気体が吸着槽を通過する過程で冷却され、この一時冷
却された中圧製品ガスを高圧にするため、高圧用『縮機
の負担が小さくて済み、高圧製品ガスを圧縮効率良く生
成することができる等の特長を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明になる高圧気体製′#i装置の第1実施
例の概略構成図、第2図(A),(B)は2段圧縮機の
正面図、側面図、第3図、第4図は夫々窒素ガスの生成
動作を説明するための”[程図、第5図は本発明の第2
実施例の概略構成図である。 1・・・第1の吸着槽、2・・・第2の吸@槽、3・・
・2段圧縮機、3a ,3b・・・中圧気筒、3C・・
・高圧気筒、4・・・原料タンク、5・・・ドライ?,
20・・・中間タンク、25.37・・・製品ガス供給
用弁、27・・・製品タンク、30・・・可変絞り、3
2・・・酸素センサ。 第1 閃 第2目 (B) (A) 第3 図 第4 図 第5図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 内部に吸着剤が充填された吸着槽と、 該吸着槽に供給する原料気体を中圧に圧縮する中圧用圧
    縮機と、 前記吸着剤により生成された中圧製品ガスを貯溜する中
    間タンクと、 該中間タンク内の中圧製品ガスを高圧に圧縮する高圧用
    圧縮機と、 該高圧用圧縮機により圧縮された高圧製品ガスを貯溜す
    る製品タンクと、 よりなることを特徴とする高圧気体製造装置。
JP1187638A 1989-07-20 1989-07-20 高圧気体製造装置 Pending JPH0352613A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011148670A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Taiyo Nippon Sanso Corp 高圧且つ高純度の窒素ガス供給装置及び供給方法

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