JPH03500921A - 低温キルン - Google Patents

低温キルン

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JPH03500921A
JPH03500921A JP63509396A JP50939688A JPH03500921A JP H03500921 A JPH03500921 A JP H03500921A JP 63509396 A JP63509396 A JP 63509396A JP 50939688 A JP50939688 A JP 50939688A JP H03500921 A JPH03500921 A JP H03500921A
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kiln
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JP63509396A
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ピーターソン,ジョセフ リロイ
ウイルソン,ロバート エー.
Original Assignee
カスタム イクイップメント コーポレーション
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    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/08Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
    • B01J8/12Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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    • C01B32/30Active carbon
    • C01B32/39Apparatus for the preparation thereof
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26DRYING
    • F26BDRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B17/00Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement
    • F26B17/12Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement with movement performed solely by gravity, i.e. the material moving through a substantially vertical drying enclosure, e.g. shaft
    • F26B17/16Machines or apparatus for drying materials in loose, plastic, or fluidised form, e.g. granules, staple fibres, with progressive movement with movement performed solely by gravity, i.e. the material moving through a substantially vertical drying enclosure, e.g. shaft the materials passing down a heated surface, e.g. fluid-heated closed ducts or other heating elements in contact with the moving stack of material

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 低温キルン 紅l立1」 分野二本発明はキルン(窯炉)に関するものであり、炭素を再活性化するための 比較的低温のキルンに向けられている。
技術の現状:様々なタイプのキルンが用いられており、ライニングを施したキル ンは非常な高温で用いられ、石灰石のような物質から水和した水などの湿り気を 追い出す。活性化された炭素は、使用後、直火式てなく、ライニングされていな い再活性化用の回転キルンにより再利用されることが多い。こうしたライニング されていないキルンは、相対的にずっと低温で使用される必要がある。
典型的な回転キルンの可動部分、即ち回転外殻、トラニオンおよびスラストロー ル部、駆動部(モータ、レデューサ、ギヤあるいはチェーンおよびスプロケット より成る)、トラニオンロール部および筒尾密閉は、注油や心合わせの調整や摩 耗やゆがみに由来する部品交換などの保全作業を必要とする。
炭素の再活性化に用いられる回転キルンは、一般的には直径およそ0.51〜0 .76メートル、長さおよそ6.1−40.7メートルである。こうしたキルン の一部のものはずっと大きく、直径1.52メートル、長さ18.3メートルに なる。いずれにせよこうしたキルンはかなりの建造容積を占め、しかも回転外殻 の交換に備えて、その外殻を固定したおおい位置から取りはずすための空いたス ペースがキルンに並んで必要になる。
え」L立1 本発明は、粒状の物質、特定的には1り素を加熱することに特に用いられるキル ンな提供する。その構造と動作は、従来のキルンとはかなり異なる。その構造に より物質が東方によって移動するようになり、それにより回転キルンに特徴的で ある可動部分をなくすことができる。そのキルンは、現在炭素の再活性化に用い られているライニングを持たない回転キルン中で通常保たれている温度より高い 湿度で作動することができる。このより高い温度は炭素を再活性化する本発明の 方法に寄与するものである。
本発明のキルンは金属てつくられ、殆どの場合、加熱域において耐熱ライニング なしで作動する。該キルンは、外部空間をほぼとりまい゛C画成する壁を持つ、 金属製で中実の壁で構成される容器を持つ。その外部空間はキルンの加熱域を形 成している。中実な壁を持つ区画部材(ないし「核」)が内部空間内に往復自在 に取り付けられている。
該区画部材と該容器壁とが、その間にほぼ輪状の加熱域を画成する。往復自在に 取付けられているため1区画部材は、キルン内で処理される物質か、さもなくば キルン自身を構成する物の熱的膨張により生ずる力に対応して、上あるいは下に 自由に移動する。該容器と該核は、別々に分離して吊るされるように支えられ、 輪状の加熱域の内側の壁および外側の壁が自由に膨張、収縮できるようにする。
圧!Id応力はこのようにして防止される。
容器壁を決められた温度に加熱する加熱手段は、容器の外側に取り付けられる。
一つの実施例では、こめ加熱手段は複数の電熱コイルてあり、容器壁をとりまく 複数の輪状のコイルという形で配置される。好適にはコイルは該容器壁の下部付 近に位置し、それにより該下部がコイルによって熱せられ、容器壁の上部は容器 壁下部からの熱伝導により大部分熱せられる。容器壁と区画部材は1通常の場合 およそ1000”Fを越えるが、容器壁および区画部材を構成する物質の軟化点 よりは下の高温まで熱せられる。このようにして輪状の加熱域は決められた反応 温度まで熱せられる。炭素の反応温度の816°Cの高さが実際的ではあるが、 より一般的には、炭素を再活性化するための稼動湿度は、およそ593℃〜67 7℃の範囲に設定される。
輪状の加熱域は容器頂部の人口開口部および容器底部の出口開r3部を除いて密 閉されている。密閉されているために、加熱域は再活性化の間にその内部て発生 した気体、即ち水蒸気を内部に閉じ込める。これらの気体の存在は再活性化プロ セスを促進する効果を及ぼすことが知られており、プロセスの速度を多大に増加 させる。従来の再活性化プロセスおよび技術は再活性化の間に1粒状物質の集団 の中に水蒸気あるいはその他の気体を注入する必要があったのに対し、本プロセ スはそのような必要をなくしている。
粒子状の物質の容器の頂部への導入およびその物質の容器の底部からの排出を制 御された速度で行い、頂部に導入された物質が決められた滞留時間て加熱域を重 力によって下降するようにする諸手段か備えられている。一つの実施例では、こ の導入手段は加熱域の上方に取り付けられた供給室を含み1粒状物質は重力のも とに供給室から加熱域へと流れる。供給室は粒状物質か加熱域に入る前に、輪状 加熱域の壁から粒状物質に熱を伝える熱伝達構造物を、望ましくは収蔵している 。その場合供給室は粒状原材料の湿潤レベルを所望の範囲に調節する乾燥域をも たらす。炭素の場合、一般的にその不活性形態においてはおよそ30〜40%の 水分を含むが、加熱(再活性化)域に導入する以前に物質を水分の重量パーセン トをおよそ10〜20%に乾燥することが望ましいと考えられている。この水分 量は加熱域において炭素の再活性化を促進するのに適当な水蒸気を発生するが、 この促進はおそらく炭素粒子の細孔を清掃することおよび加熱域内での還元雰囲 気の存在を確保することによってなされると思われる。
適切な熱伝達法の一つの例として、輪状加熱域内に位置する区画部材(核)の一 部の上に、外側に向かって伸びるいくつかのフィン(fin)を持つ構造物を取 り付けてもよい。フィンは粒状物質を加熱域に供給する供給室の中に広がるよう になっている。フィンは金属構造物であり、空間部材の熱せられた壁による熱伝 導で加熱される。フィンは供給室内で熱を粒状物質に伝えることにより、予備加 熱手段として機衡する。同様のフィンが容器壁から供給室に伸びるようにしても よい。
炭素はキルン内でおよそ649℃および滞留時間およそ4分の1ないし2分の1 時間て、効果的に再活性化される。加熱域は稼動中制止したままである(膨張を 除いては)。したがって本発明の装置は「静止キルン」と看做してよい。
本発明のキルンの好適な実施例は上述された容器の囲いを備えている。この囲い は実質的に容器壁および供給室をとりまくブレナム(plenum)を画成する ように構成されている。加熱手段即ち電熱コイルはこのブレネム内に位置する。
電力がコイルに供給されると容器壁と供給室は、対流および放射によって熱せら れる。ブレナム内における加熱用型?+線の配置の詳細は、粒状物質が加8誠を 下降する際に必要な熱量および許容できる、または望ましい温度勾配に依存する 。大きな勾配はたやすく防止される。典型的な例では、コイルは容器壁の下部域 のすぐ近くのブレナムの下部に置かれる。その場合下部域は当然、容器壁の上部 域あるいは供給室よりも多くの熱を吸収する。熱せられた容器壁は加熱域内で粒 状物質に熱を伝達する。熱せられた物質が今度は区画部材に熱を伝える。容器壁 の下部域は最大の熱吸収を示すので、区画部材の最底区画は、従って最もよく熱 せられる。これらの金属構造物の高い熱イ云導性により、熱はたやすく輪状加熱 域の高さ方向上方に伝えられる。この現象により、区画部材はその上部に近接す る粒状物質を実際に熱するが、それに対して、加熱域の下部区域に粒状¥JR質 かやフて来るとそれから熱を吸収する。熱源な区画部材(核)自身の中に置き、 輪状加熱域の内壁の温度を所望の高さにすることも考えられる。前に述べたよう に加熱域の内壁、外壁の最上部に複数のフィンを取り付けてもよく、それらのフ ィンはキルンの供給室内にある粒状物質に区画部材および容器から熱を伝えるた めの拡張された熱伝達面域となる。
原tF4物質を容器頂部に導入するための様々な手段が実際上あるか、この物質 を供給室に導入する前に:f−備的な加熱および/または乾燥を行うようにした 構造物を、キルンに取り付けることが望ましいことか多い。多くの場合、炭素を 再活性化するのに必要な全熱量の事実上半分以上は、原料物質の過多な水分を除 去するためのものである。様々なホッパーやコンベヤ装置を考えることができる 。
本発明のあるい〈フかの実施例は、供給室と煙突の間に移行室を備えている。移 行室は粒状物質の乾燥および/または再活性化が行なわれる際に粒状物質から追 い出される水分および気体を集める働きをする。粒状物質を移行室を経由して供 給室に導入してもよい。移行室により集められた気体を、大気中へ出すために煙 突に送る前に、あらかじめ燃焼ないしその他の処理をすることかのぞましい場合 か多い。このようにしてつくり出された熱は粒状原料物質の乾燥に利用し得る。
伝導ないしその他の熱伝達手段により、供給室内の温度は、加熱域からの熱伝達 手段による場合に得られるであろう温度よりもかなり高く(即ち704〜816 ℃)保たれることがてきる。
区−面一の一説一男 発明を実施するための最良の形態とここて看做されるものを説明する図面におい て。
第1図は本発明の静止キルンの1つの実施例を示す、部分的に断面図である横の 立面図、 第2図は、第1図の装置の、第1図の線2−2に沿って矢印の方向から見た断面 図、 第3図は、キルンの中心核(区画部材)の部分の立面図である。
Eバされた の= な; 図面の第1図は、全体として番号10で指示される本発明の静止キルンな表す。
キルン10は金属てつくられている外側の囲い12を持つ。囲い12は中空で円 筒形であり、乎面状の円形の床14を含み、その床の上には輪状に上に伸びる側 壁16が据え付けられている。床14と側壁I6は互いに密閉的に取り付けてあ り、気密に結合している。囲い12の中空内部18内に、中空の容器20が置か れている。容器2Gは、端の開いた円筒の形をした輪状の金属壁22より成る。
容器20の底部には、同様に中空のじょうご状延長部24が取り付けられている 。じょうご状延長部は逆さにした円すい台様の形をしている。延長部24と容器 20は、一体であるかあるいは密閉的に接合されている。延長部24と容器20 は両方とも中実な壁ででさている。つまr)両構造物は壁に孔を持たない。した がって物質が一度容器20頂部に導入されたなら、物質は容器20の開口頂部か 、そうでなければ延長部の頂部につくられた開口28からしか出ることができな い。容器20の開口頂26に延長部24と類似して逆さにした円すい台の形をし た入口しょうご30が取り付けられている。このしようご30がキルンに対する 供給室となっている。じょうご30は中実の側壁から成り、容器20にその開口 端26のところで密閉的に接合されている。じようご30は、外壁16に対して はその上端に密閉的に位置している。じょうご状延長部24は、床14の穴31 を貫通して支持されている。図示されている版型のセラミック断熱材の層のよう な断熱材33が、囲い12の底部を占めている。この断熱材33は容器20の重 みで圧せられ、延長部24と床14の間て穴31を密閉している。この装置は容 器20の壁か圧縮力を生み出すことなく自由に膨張、収縮できるようになってい る。容器20の壁はつねに張力を持った状態にある。じょうご状延長部と囲い1 2および容器20の中実壁構造物と2つのじょうご状延長部の間の密閉関係のた めに、容器20の内部32.2つのじょうご状延長部24および30それぞれの 内部34および36内にある物質あるいは気体から効果的に密閉的に隔絶されて いる。
囲い12の内部18内に、複数の通電された加熱コイルがある。これらのコイル はほぼ輪状の形をしており、容器20をとりまくように配置される。第1図に示 されているように、コイル38は容器20の下部区域に近接して取り付けられて いる。必要であれば、コイル38は容器20の高さ全体に沿って鐙かれてもよい 。コイル38は様々な電源に対応できるようにされたワイヤの回路構成40につ ながれており、それによってコイルの温度の制御が容易になる。図に示されてい るように該回路構成は被覆44によって断熱されており、該回路構成の熱的損傷 が防止されている。核、即ち不透性の区画部材48か容器20の内部32内に吊 されている。83図はこの区画部材48を詳しく表す。区画部材48は円筒形の 部分50.複数の下部区画部材52、複数の上部区画部材56、円すい状の閉鎖 部材58、および複数のフィン60を持つ。図に描かれているように、各々のフ ィン60は上部区画部材56と一体をなしている。上部56および下部52区画 部材は容器20の内部32において核48がほぼ垂直で軸に沿った状態を保つよ うにする。区画部材52.56は核48と容器20の両構造物が膨張あるいは収 縮するときに、核48が容器20に対して相対的に動くことを除いて、核の適切 な配置を保つ。
部分50は、一般的に直円柱状の外形を持つ中空の金属製部材である。部分50 の側壁62および円形の底面64は、中実な壁ててきている。部分50の直径6 6は、容器20の内部32の直径よりも小さな寸法をしており、そのことによっ て部分50を内部32内に置いたときに、容器20と部分50の間に輪状に立上 がった隙間68か形成される。ここにおいて部分50と容器20の両方は直円柱 状の形をしている0輪状の隙間68はその高さ全体にわたって実質的に同じ寸法 である。部分50は自身を伝わる高い熱伝導度を持つ金属でつくられる。
第1図および第3図に示されているように、上部区画部材52は部分50から外 側に伸びるうすい平なパネルである。各区画部材は垂直に伸び、上方から、即ち フィン60の方向から、見たそれぞれの区画部材の見かけが小さくなるようにな っている。この小さくされた見かけは、キルンて処理される物質か隙間68を下 方に流れていくことにおいて望ましいことである。該隙間に配された各区画部材 は上述の波れに対して障害となり得る。したがって、好適な実施例においては、 比較的少ない(典型的には3ないし4つ)の支持部材52が用いられる。
上部区画部材56は下部区画部材52と同様の構造をしている。部材56は部分 50の上方区域に接して位置し、そこから外側に伸びている。それらはうすい平 なパネルであり、容器20の側壁20に殆ど接するような長さて外側に伸びてい る。部材56も隙間68内に位置するので、隙間68内の流れを妨害しないよう に、たてに向けられることが望ましい。部材52および56は、溶接によって核 48の側壁に固定されているか、上部部材はフィン60とは独立して示されてい る。
複数の金属製支持フィン60は核58および核の延長部61に取り付けられてい る。各々のフィン60は平なパネルてあり、垂直に立てた向きを向いている。フ ィン60は部分50により吸収された熱を受け取るようになっておリ、その熱を 円すい状の供給室内にある粒状物質に向ける。
キルンはいくつかの温度モニター装置70を備えることかできる。典型的な実施 例ては、この装置70はありふれた熱電対でよい。第1の熱電対70Aは、キル ンの加熱域37の上方に置かれる。それは加熱域37内て処理される粒状物質3 9の温度を計るようにされている。第1の熱電対70Aは核の延長部61を通っ て、区画部材(核)48の中空の内部へと伸びるセンサ73を含む。センサ73 は区画部材48の中実の壁内の穴を通って伸びてもよい。センサ73は温度計測 したい場所に応じて、様々な所に置かれてもよい。たとえばセンサ73は部分部 材50に沿って置かれてもよいし、もしくは区画部材48の床64を貫いて伸び 、加熱域から出てきた粒子の温度を計るようにしてもよい。
そうでなければセンサ73は核48の内部に吊されている加熱用電熱線に対する 。温度限界センサとしてもよい。
熱電対70Bはコイル38のうちの1つの表面上にあるいはその近くに置かれた センサ75を持つようにできる。熱電対はそのようにして、コイル38の表面温 度をモニタし制御てきよう。
熱電対70Cは、中空の内部空間18内へと伸びるセンサ77を持つ。1つの実 施例では加熱域37を画成する壁22上ないしその近くにこれらのセンサが置か れ、該壁の温度のモニタおよび制御に利用することができる。
熱電対はそれぞれ電子制御パネル79につなぐようにでき、その電子制御パネル は、種々の熱電対の指度な受け取り、コイルに送る電流を制御して、加熱域37 内の所望の温度を保つようにつくられている。輪状の壁22が区画部材と共にそ れらの間に加熱域37を画成している。
セラミッククールの断熱材80がキルンからの熱損失を防止する必要性から配さ れている。
排出口28を通っての排出速度をモニタし、制御する様々な排出機構が考慮され る。図示された装置81は、底部プレート82上に集まった物質の静止角度を変 える。この手段により、排出速度は広い範囲で正確に制御できる。
第2図について述べると、複数の放射状の羽根85が容器20の壁30から内側 に出ているところが示されてし)る。これらの羽根85は、フィン60と同じよ うに壁30から供給室36の内部に熱を運ぶようになっている。
ここに描かれた実施例の細部への言及は、付随する請求の範囲の領域を限定する ことを意図するものではなしA。
Fig、/ Fig、2 Fig、3 手続補正書 平成 2年 5月25日

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.内部空間を突質的にとり囲み、それによって加熱域を画成する内壁を持つ金 属製の容器体と、前記内壁を前記内壁の軟化点より下の決められた温度まで加熱 するための加熱手段と、 前記内部空間内に往復自在に取り付けられ、前記内壁と連合しておよそ輪状の加 熱域をそれらの間に画成する区画部材と、 粒状の物質を前記容器の頂部から導入するための、および前記物質を前記容器体 底部から排出するための手段であり、そこにおいて頂部に導入された物質が決め られた時間で加熱域中を下降していくような手段と、 前記区画部材が前記内部空間内で、熱的な膨張ないし収縮に応じて動くことがで きるように取り付けられていること、 とを含むキルン。
  2. 2.前記加熱手段が前記容器体内の前記内壁付近に配置された、電力による加熱 コイルを含む請求項1によるキルン。
  3. 3.前記加熱コイルが前記内部空間の底部付近から、前記内部空間のおよそ3分 の2の高さまで上に伸びているような、請求項2によるキルン。
  4. 4.前記区画部材がその頂部付近に取り付けられた複数のフィンを持ち、前記フ ィンは前記区画部材から前記容器体の頂部付近に位置する粒状物質へと、前記粒 状物質の前記加熱域への導入に先立って、熱を伝えるような請求項1によるキル ン。
  5. 5.前記内壁から前記粒状物質へと熱を伝える手段となる、前記内壁から伸びる 複数のフィンを持つ請求項4によるキルン。
  6. 6.前記空間部材が前記内部空間内で上方にまた下方に往復自在に取り付けられ ている請求項1によるキルン。
  7. 7.前記内壁が熱的膨張に応じて下方に膨張できるように吊されている請求項6 によるキルン。
  8. 8.前記区画部材がその上に取り付けられた外側にのびる延長部材を持ち、前記 延長部材が前記壁に接するように位置して、前記区画部材を前記内部空間内で直 立するように支えるような請求項1によるキルン。
  9. 9.外壁および内壁を持ち、前記外壁と前記内壁が中空の囲われた室を画成し、 前記内壁が実質的に直立した円筒の上に逆さにした円すい台をのせた形を持つ内 部空間を画成するような、金属製の囲いと、前記室内に置かれた複数の電気的な 加熱コイルと、前記内部空間に吊された中心核で、前記核が円筒形の部分と、前 記円筒形部分の下部から外側にのびる複数の第1の区画部材と、前記円筒形部分 の上部から外側にのびる複数の第2の区画部材と、前記円筒形部分の頂部に取り 付けられ前記内部空間の前記円すい台形の部分内へと外側にのびるような寸法の 複数の平なフィンとを持ち、前記第1の区画部材および第2の区画部材が前記内 部空間内で前記核をほぼ垂直に保つための手段となり、前記円筒形領域と前記内 壁とが連合して輪状の加熱域を画成し、前記内部空間がその頂部付近に、粒状物 質を前記加熱域に導入するための第1の予備加熱域を含み、また前記内部空間は その底部付近に物質を加熱域から排出するための排出口を含む、ような中心核と 、 前記加熱コイルが、前記内部空間を加熱し、また前記核を間接的に加熱するよう に作られており、それによって熱が前記核から前記フィンヘと伝えられて、前記 内部空間の前記円すい台形の部分内にある粒状物質を、前記粒状物質の前記輪状 加熱域への導入に先立って予熱することと、 前記核が熱的に惹起された膨張に応じて前記内部空間内で垂直に往復するように 作られていること、より成るキルン。
  10. 10.複数の放射状のフィンが前記内壁から前記円すい台形の部分内へと内側に のび、それによって前記内壁から前記円すい台形の部分内にある粒子状の物質に 熱を伝えるような請求項9によるキルン。
  11. 11.前記核の前記円商状の部分が前記区画部材から前記内壁に向かって外側に のびる複数の第2の支持伸長部を含み、それにより前記核が前記内部空間で直立 する方向で安定するようにした請求項9によるキルン。
  12. 12.前記核の前記円筒状部分の高さが、前記内部空間の前記円筒状部分の高さ とほぼ等しいような請求項9によるキルン。
JP63509396A 1987-10-30 1988-10-28 低温キルン Pending JPH03500921A (ja)

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