JPH0347143A - 光学活性なフェノール類およびその製造法 - Google Patents
光学活性なフェノール類およびその製造法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は有機電子材料の中間体として有用である光学活
性なフェノール類およびその製造法に関する。とりわけ
、液晶材料、特に強誘電性液晶材料等の中間体として有
用である光学活性なフェノール類およびその製造法に関
する。
性なフェノール類およびその製造法に関する。とりわけ
、液晶材料、特に強誘電性液晶材料等の中間体として有
用である光学活性なフェノール類およびその製造法に関
する。
〈従来の技術〉
従来から液晶化合物として種々の化合物が開発されてい
るが、高速応答性等の特性が優れた強誘電性液晶材料は
極めて少なく、該液晶化合物およびその中間体の開発が
望まれていた。
るが、高速応答性等の特性が優れた強誘電性液晶材料は
極めて少なく、該液晶化合物およびその中間体の開発が
望まれていた。
〈発明が解決しようとする課題〉
本発明の目的は、上記特性に優れた強誘電性液晶材料の
中間体として有用である光学活性なフェノール類および
その製造法を提供し、さらには該化合物の中間体および
その製造法をも提供することにある。
中間体として有用である光学活性なフェノール類および
その製造法を提供し、さらには該化合物の中間体および
その製造法をも提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉
すなわち、本発明は、一般式(1)
一般式Rは炭素数1〜20のハロゲン原キを含んでいて
もよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を、Zは
水素原子またはハロゲン原子を、SはOまたは1を、 *
*をそれぞれ表わす、こ
こでnは1〜5の整数を、*印は不斉炭素原子であるこ
とを表わす、)で示される光学活性なフェノール類およ
びその製造法に関するものである。
もよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を、Zは
水素原子またはハロゲン原子を、SはOまたは1を、 *
*をそれぞれ表わす、こ
こでnは1〜5の整数を、*印は不斉炭素原子であるこ
とを表わす、)で示される光学活性なフェノール類およ
びその製造法に関するものである。
以下、本発明について詳細に説明する。
上記一般式(1)で示される光学活性なフェノール類は
、一般式(n) 一般式Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
ル基またはハロゲン原子を表わし、RlZ、WおよびS
は前記と同じ意味を表わす、)で示される光学活性なベ
ンジルエーテル誘導体を、水添触媒および水素の存在下
に脱ベンジル化することにより製造することができる。
、一般式(n) 一般式Aは水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ
ル基またはハロゲン原子を表わし、RlZ、WおよびS
は前記と同じ意味を表わす、)で示される光学活性なベ
ンジルエーテル誘導体を、水添触媒および水素の存在下
に脱ベンジル化することにより製造することができる。
上記一般式(II)において、SがOである光学活性な
ベンジルエーテル誘導体は、一般式([1)一般式A、
ZおよびWは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なアルコール類と、一般式() %式%() 一般式Rは前記と同じ意味を表わし、Xはハロゲン原子
または一03O!I?”基を表わす。ここでRzは低級
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
わす、) で示されるアルキル化剤とを、塩基性物質の存在下に縮
合させることにより製造することができる。
ベンジルエーテル誘導体は、一般式([1)一般式A、
ZおよびWは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なアルコール類と、一般式() %式%() 一般式Rは前記と同じ意味を表わし、Xはハロゲン原子
または一03O!I?”基を表わす。ここでRzは低級
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表
わす、) で示されるアルキル化剤とを、塩基性物質の存在下に縮
合させることにより製造することができる。
前記一般式(U)においてSが1である光学活性なベン
ジルエーテル誘導体は、前記一般式(III)で示され
る光学活性なアルコール類と、一般式(V) R−COR’ (V) 一般式Rは前記と同じ意味を表わし、Bsはハロゲン原
子または水酸基を表わす、) で示されるアシル化剤またはその誘導体とを、触媒また
は縮合剤の存在下に縮合させることにより製造すること
ができる。
ジルエーテル誘導体は、前記一般式(III)で示され
る光学活性なアルコール類と、一般式(V) R−COR’ (V) 一般式Rは前記と同じ意味を表わし、Bsはハロゲン原
子または水酸基を表わす、) で示されるアシル化剤またはその誘導体とを、触媒また
は縮合剤の存在下に縮合させることにより製造すること
ができる。
光学活性なベンジルエーテル誘導体(II)の脱ベンジ
ル化による光学活性なフェノール類(1)の製造におい
て、該反応における水添触媒としてはラネーニッケルや
パラジウム系の金属触媒が好ましく用いられ、その具体
例としてはパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジ
ウム黒または塩化パラジウム等があげられる。
ル化による光学活性なフェノール類(1)の製造におい
て、該反応における水添触媒としてはラネーニッケルや
パラジウム系の金属触媒が好ましく用いられ、その具体
例としてはパラジウム−炭素、酸化パラジウム、パラジ
ウム黒または塩化パラジウム等があげられる。
かかる水添触媒は、光学活性なベンジルエーテル誘導体
(II)に対して通常0.001〜0.5重量倍、好ま
しくはo、oos〜0.3重量倍使用される。
(II)に対して通常0.001〜0.5重量倍、好ま
しくはo、oos〜0.3重量倍使用される。
この反応は通常、溶媒中で行われ、溶媒としては水、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノー
ル、n−プロピルアルコール、アセトン、ジメチルホル
ムアミド、トルエン、ジクロルメタン、酢酸エチル等の
炭化水素、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、
ハロゲン化炭化水素またはアミド等の反応に不活性な溶
媒が例示され、これらは単独または混合して使用される
。
オキサン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノー
ル、n−プロピルアルコール、アセトン、ジメチルホル
ムアミド、トルエン、ジクロルメタン、酢酸エチル等の
炭化水素、アルコール、エーテル、ケトン、エステル、
ハロゲン化炭化水素またはアミド等の反応に不活性な溶
媒が例示され、これらは単独または混合して使用される
。
反応温度は−10〜100°C1好ましくは10〜60
℃である。
℃である。
上記反応は通常、常圧または加圧下に行われ、原料であ
る光学活性なベンジルエーテル誘導体〔■]を反応系か
ら検出しなくなったとき、または水素の吸収量が光学活
性なベンジルエーテル誘導体(n)に対して1〜1.2
当量倍となったときを反応終点とすることができる。
る光学活性なベンジルエーテル誘導体〔■]を反応系か
ら検出しなくなったとき、または水素の吸収量が光学活
性なベンジルエーテル誘導体(n)に対して1〜1.2
当量倍となったときを反応終点とすることができる。
反応終了後、反応混合物から触媒をろ過処理等により除
去したのち、濃縮等の操作により目的とする一般式〔!
〕で示される光学活性なフェノール類を得ることができ
、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ
ー等により精製することができる。
去したのち、濃縮等の操作により目的とする一般式〔!
〕で示される光学活性なフェノール類を得ることができ
、必要に応じて再結晶あるいはカラムクロマトグラフィ
ー等により精製することができる。
光学活性なアルコール[(III)と、アルキル化剤(
IV)との縮合によるSがOであるベンジルエーテル誘
導体(II)の製造において、該反応に用いられる塩基
性物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
アルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ金属もしく
は水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等の炭酸アルカリ金属、ブチルリチウム等の有機リ
チウムまたはリチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属などが例示される。
IV)との縮合によるSがOであるベンジルエーテル誘
導体(II)の製造において、該反応に用いられる塩基
性物質としては水素化ナトリウム、水素化カリウム等の
アルカリ金属水素化物、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ金属もしく
は水酸化アルカリ土類金属、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム等の炭酸アルカリ金属、ブチルリチウム等の有機リ
チウムまたはリチウム、ナトリウム、カリウム等のアル
カリ金属などが例示される。
かかる塩基性物質は光学活性なアルコール類〔■〕に対
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは1〜5当量倍使用される。
して1当量倍以上必要であり、上限については特に制限
されないが、好ましくは1〜5当量倍使用される。
この反応で使用されるアルキル化剤とは、以下に例示さ
れるような炭素数1〜20のハロゲン原子をふくんでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を有す
るクロリド、プロミド、ヨーシト等のハロゲン化物ある
いは硫酸エステル類(メタンスルホン酸エステル、エタ
ンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステル、
トルエンスルホン酸エステル等)である、これらのアル
キル化剤は、必要により相当するアルコールから容易に
合成することができる。
れるような炭素数1〜20のハロゲン原子をふくんでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を有す
るクロリド、プロミド、ヨーシト等のハロゲン化物ある
いは硫酸エステル類(メタンスルホン酸エステル、エタ
ンスルホン酸エステル、ベンゼンスルホン酸エステル、
トルエンスルホン酸エステル等)である、これらのアル
キル化剤は、必要により相当するアルコールから容易に
合成することができる。
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシヘ
プチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポ
キシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル
、プロボキシヘキシル、プロポキシへブチル、プロポキ
シオクチル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、ブ
トキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、ブ
トキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキシヘキシル、
ブトキシヘプチル、ブトキシオクチル、ブトキシノニル
、ブトキシデシル、ペンチルオキシメチル、ペンチルオ
キシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオキシ
ブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシヘキ
シル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデシル
、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘキ
シルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキシル
オキシペンチル、ヘキシルオキシへキシル、ヘキシルオ
キシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシルオキシ
デシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシエチル
、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシブチル、ヘ
プチルオキシペンチル、オクチルオキシメチル、オクチ
ルオキシエチル、オクチルオキシプロピル、デシルオキ
シメチル、デシルオキシエチル、デシルオキシプロビル
、1−メチルエチル、1−メチルプロピル、1−メチル
ブチル、1−メチルペンチル、1−メチルヘキシル、1
−メチルヘプチル、1−メチルオクチル、2−メチルエ
チル、2−メチルブチル、2−トリハロメチルペンチル
、2−トリハロメチルヘキシル、2−トリハロメチルへ
ブチル、2−ハロエチル、2−ハロプロピル、3−ハロ
プロピル、3ハロー2−メチルプロピル、2,3−ジハ
ロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチル、4−ハ
ロブチル、2.3−ジハロブチル、24−ジハロブチル
、3. 4−’;ハロブチル、2−ハロー3−メチルブ
チル、2−ハロー3.3−ジメチルブチル、2−ハロペ
ンチル、3−ハロヘンチル、4−ハロペンチル、5−ハ
ロペンチル、2.4−ジハロペンチル、2. 5−’;
ハロペンチル、2−ハロー3−メチルペンチル、2−ハ
ロー4−メチルペンチル、2−ハロー3−モノハロメチ
ル−4−メチルペンチル、2−ハロヘキシル、3−ハロ
ヘキシル、4−ハロヘキシル、5−ハロヘキシル、6−
ハロヘキシル、2−ハロヘンチル、2−ハロオクチル(
但し上記アルキル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素を表わす)等。
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル
、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル
、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデ
シル、エイコシル、メトキシメチル、メトキシエチル、
メトキシプロピル、メトキシブチル、メトキシペンチル
、メトキシヘキシル、メトキシヘプチル、メトキシオク
チル、メトキシノニル、メトキシデシル、エトキシメチ
ル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチ
ル、エトキシペンチル、エトキシヘキシル、エトキシヘ
プチル、エトキシオクチル、エトキシノニル、エトキシ
デシル、プロポキシメチル、プロポキシエチル、プロポ
キシプロピル、プロポキシブチル、プロポキシペンチル
、プロボキシヘキシル、プロポキシへブチル、プロポキ
シオクチル、プロポキシノニル、プロポキシデシル、ブ
トキシメチル、ブトキシエチル、ブトキシプロピル、ブ
トキシブチル、ブトキシペンチル、ブトキシヘキシル、
ブトキシヘプチル、ブトキシオクチル、ブトキシノニル
、ブトキシデシル、ペンチルオキシメチル、ペンチルオ
キシエチル、ペンチルオキシプロピル、ペンチルオキシ
ブチル、ペンチルオキシペンチル、ペンチルオキシヘキ
シル、ペンチルオキシオクチル、ペンチルオキシデシル
、ヘキシルオキシメチル、ヘキシルオキシエチル、ヘキ
シルオキシプロピル、ヘキシルオキシブチル、ヘキシル
オキシペンチル、ヘキシルオキシへキシル、ヘキシルオ
キシオクチル、ヘキシルオキシノニル、ヘキシルオキシ
デシル、ヘプチルオキシメチル、ヘプチルオキシエチル
、ヘプチルオキシプロピル、ヘプチルオキシブチル、ヘ
プチルオキシペンチル、オクチルオキシメチル、オクチ
ルオキシエチル、オクチルオキシプロピル、デシルオキ
シメチル、デシルオキシエチル、デシルオキシプロビル
、1−メチルエチル、1−メチルプロピル、1−メチル
ブチル、1−メチルペンチル、1−メチルヘキシル、1
−メチルヘプチル、1−メチルオクチル、2−メチルエ
チル、2−メチルブチル、2−トリハロメチルペンチル
、2−トリハロメチルヘキシル、2−トリハロメチルへ
ブチル、2−ハロエチル、2−ハロプロピル、3−ハロ
プロピル、3ハロー2−メチルプロピル、2,3−ジハ
ロプロピル、2−ハロブチル、3−ハロブチル、4−ハ
ロブチル、2.3−ジハロブチル、24−ジハロブチル
、3. 4−’;ハロブチル、2−ハロー3−メチルブ
チル、2−ハロー3.3−ジメチルブチル、2−ハロペ
ンチル、3−ハロヘンチル、4−ハロペンチル、5−ハ
ロペンチル、2.4−ジハロペンチル、2. 5−’;
ハロペンチル、2−ハロー3−メチルペンチル、2−ハ
ロー4−メチルペンチル、2−ハロー3−モノハロメチ
ル−4−メチルペンチル、2−ハロヘキシル、3−ハロ
ヘキシル、4−ハロヘキシル、5−ハロヘキシル、6−
ハロヘキシル、2−ハロヘンチル、2−ハロオクチル(
但し上記アルキル基中ハロとは、フッ素、塩素、臭素ま
たはヨウ素を表わす)等。
尚、これらの炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基は光学
活性基であってもよい。
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基は光学
活性基であってもよい。
これらの光学活性基を有するアルキル化剤(ハロゲン化
物あるいは硫酸エステル類)は必要により相当する光学
活性アルコールから合成される。
物あるいは硫酸エステル類)は必要により相当する光学
活性アルコールから合成される。
該光学活性アルコールのうちのあるものは、対応するケ
トンの不斉金属触媒または@往動もしくは酵素による不
斉還元により容易に得られる。またあるものは、天然に
存在するか、または分割により得られる次のような光学
活性アミノ酸もしくは光学活性オキシ酸から誘導できる
。
トンの不斉金属触媒または@往動もしくは酵素による不
斉還元により容易に得られる。またあるものは、天然に
存在するか、または分割により得られる次のような光学
活性アミノ酸もしくは光学活性オキシ酸から誘導できる
。
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、
スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイソロ
イシン、tert−ロイシン、2−アミノ醋酸、ノルバ
リン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロキシ
リジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
スレオニン、アロスレオニン、ホモセリン、アロイソロ
イシン、tert−ロイシン、2−アミノ醋酸、ノルバ
リン、ノルロイシン、オルニチン、リジン、ヒドロキシ
リジン、フェニルグリシン、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸、マンデル酸、トロパ酸、3−ヒドロキシ酪酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、イソプロピルリンゴ酸等。
このようなアルキル化剤(IV)は、光学活性なアルコ
ール類(III)に対して1当量倍以上任意であるが、
通常は1〜5当量倍使用される。
ール類(III)に対して1当量倍以上任意であるが、
通常は1〜5当量倍使用される。
該反応は通常、溶媒中で行われ、溶媒としてはテトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、アセトン、メチルエチル
ケトン、トルエン、ベンゼン、゛クロロホルム、クロロ
ベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、四塩化炭
素、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、ケト
ン、エーテルまたはハロゲン化炭化水素等の反応に不活
性な溶媒が例示される。これらの溶媒は単独あるいは混
合して使用され、その使用量については特に制限されな
い。
ドロフラン、エチルエーテル、アセトン、メチルエチル
ケトン、トルエン、ベンゼン、゛クロロホルム、クロロ
ベンゼン、ジクロルメタン、ジクロルエタン、四塩化炭
素、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族炭化水素、ケト
ン、エーテルまたはハロゲン化炭化水素等の反応に不活
性な溶媒が例示される。これらの溶媒は単独あるいは混
合して使用され、その使用量については特に制限されな
い。
また、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、
ヘキサメチルホスホリルアミドまたはN−メチルピロリ
ドン等の非プロトン性掘性溶媒を使用することもできる
。
ヘキサメチルホスホリルアミドまたはN−メチルピロリ
ドン等の非プロトン性掘性溶媒を使用することもできる
。
反応温度は、通常、−50〜120°C1好ましくは−
30℃〜100°Cである。
30℃〜100°Cである。
反応時間は特に制限されず、光学活性なベンジルエーテ
ル誘導体を反応系から検出しなくなったときを反応終点
とする。
ル誘導体を反応系から検出しなくなったときを反応終点
とする。
反応終了後、通常の分離手段、例えば、抽出、分液また
は濃縮等の操作を加えることにより、般式(n)におい
てSがOである光学活性なベンジルエーテル誘導体を収
率よく得ることができ、必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィーまたは再結晶等により精製することができるが
、次工程へは反応混合物のままで使用することもできる
。
は濃縮等の操作を加えることにより、般式(n)におい
てSがOである光学活性なベンジルエーテル誘導体を収
率よく得ることができ、必要に応じてカラムクロマトグ
ラフィーまたは再結晶等により精製することができるが
、次工程へは反応混合物のままで使用することもできる
。
光学活性なアルコール類(I[I)とアシル化剤〔■〕
との縮合によるSが1である光学活性なベンジルエーテ
ル誘導体の製造において、該反応は溶媒の存在もしくは
非存在下に行われる。
との縮合によるSが1である光学活性なベンジルエーテ
ル誘導体の製造において、該反応は溶媒の存在もしくは
非存在下に行われる。
溶媒を使用する場合、その溶媒としてはテトラヒドロフ
ラン、エチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン
、トルエン、ベンゼン、クロルベンゼン、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメ
チルボルムアミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、エーテル、ケトン、非プロトン性橿性溶媒ま
たはハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒が単独
あるいは混合して使用され、その使用量は特に制限され
ない。
ラン、エチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン
、トルエン、ベンゼン、クロルベンゼン、ジクロルメタ
ン、ジクロルエタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジメ
チルボルムアミド、ヘキサン等の脂肪族もしくは芳香族
炭化水素、エーテル、ケトン、非プロトン性橿性溶媒ま
たはハロゲン化炭化水素等の反応に不活性な溶媒が単独
あるいは混合して使用され、その使用量は特に制限され
ない。
この反応で使用されるアシル化剤〔v〕においてRは前
記アルキル化剤(IV)で用いたRまたはハロメチル、
1−ハロエチル、1−ハロプロピルl−八口フチル、1
−ハロペンチル、1−ハロヘキシル、1−ハロへブチル
、■−ハロオクチル(但し上記アルキル基中ハロとは、
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わす)等が例示さ
れる。
記アルキル化剤(IV)で用いたRまたはハロメチル、
1−ハロエチル、1−ハロプロピルl−八口フチル、1
−ハロペンチル、1−ハロヘキシル、1−ハロへブチル
、■−ハロオクチル(但し上記アルキル基中ハロとは、
フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わす)等が例示さ
れる。
尚、これらのアルキル基もしくはアルコキシアルキル基
は光学活性基であってもよい。
は光学活性基であってもよい。
これらの光学活性基を有する光学活性カルボン酸のうち
のあるものは、対応するアルコールの酸化、アミノ酸の
還元的脱アミノ化により得られる。
のあるものは、対応するアルコールの酸化、アミノ酸の
還元的脱アミノ化により得られる。
またあるものは天然に存在するか、または分割により得
られる前記光学活性アミノ酸もしくは光学活性オキシ酸
から誘導することができる。
られる前記光学活性アミノ酸もしくは光学活性オキシ酸
から誘導することができる。
また、アシル化剤としては、−a式(V)で示″される
脂肪族カルボン酸およびその酸ハライドの他に、上記に
例示したアルキル基またはアルコキシアルキル基を有す
る脂肪族カルボン酸の誘導体、すなわち酸無水物も挙げ
られる。
脂肪族カルボン酸およびその酸ハライドの他に、上記に
例示したアルキル基またはアルコキシアルキル基を有す
る脂肪族カルボン酸の誘導体、すなわち酸無水物も挙げ
られる。
該反応において、上記脂肪族カルボン酸無水物もしくは
酸ハライドを用いる場合、その使用量は、光学活性なア
ルコール類(III)に対して1当量倍以上必要であり
、上限については特に制限されないが、好ましくは4当
量倍以下である。
酸ハライドを用いる場合、その使用量は、光学活性なア
ルコール類(III)に対して1当量倍以上必要であり
、上限については特に制限されないが、好ましくは4当
量倍以下である。
触媒としては、たとえばジメチルアミノピリジン、トリ
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、コリジン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナ
トリウムメチラートもしくは炭酸水素カリウム等の有機
あるいは無機塩基性物質があげられる。また、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機あるい
は無機酸を触媒として用いることもできる。
エチルアミン、トリーn−ブチルアミン、ピリジン、ピ
コリン、コリジン、イミダゾール、炭酸ナトリウム、ナ
トリウムメチラートもしくは炭酸水素カリウム等の有機
あるいは無機塩基性物質があげられる。また、トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの有機あるい
は無機酸を触媒として用いることもできる。
かかる触媒としてはたとえばアシル化剤(V)として脂
肪族カルボン酸の酸ハライドを使用する場合には、ピリ
ジンもしくはトリエチルアミンが特に好ましく使用され
る。
肪族カルボン酸の酸ハライドを使用する場合には、ピリ
ジンもしくはトリエチルアミンが特に好ましく使用され
る。
触媒の使用量は脂肪族カルボン酸無水物もしくは酸ハラ
イドの種類と使用する触媒の組合わせ等によっても異な
り、必ずしも特定されないが、たとえば酸ハライドを使
用する場合には、酸ハライドに対して1当量倍以上必要
である。
イドの種類と使用する触媒の組合わせ等によっても異な
り、必ずしも特定されないが、たとえば酸ハライドを使
用する場合には、酸ハライドに対して1当量倍以上必要
である。
また、該反応において、アシル化剤(V)として脂肪族
カルボン酸を用いる場合は、縮合剤の存在下に行われ、
該カルボン酸は光学活性なアルコール類([[l)に対
して通常、1〜2当量倍用いられる。
カルボン酸を用いる場合は、縮合剤の存在下に行われ、
該カルボン酸は光学活性なアルコール類([[l)に対
して通常、1〜2当量倍用いられる。
縮合剤としてはN、N’ −ジシクロへキシルカルボジ
イミドのごときカルボジイミド類が好ましく用いられ、
また必要により4−ピロリジノピリジン、とリジンもし
くはトリエチルアミン等の打機塩基が併用される。
イミドのごときカルボジイミド類が好ましく用いられ、
また必要により4−ピロリジノピリジン、とリジンもし
くはトリエチルアミン等の打機塩基が併用される。
縮合剤は、通常、脂肪族カルボン酸に対して1〜1.2
当量倍、塩基を使用する場合には、かかる塩基は縮合剤
に対して通常0.01〜0.2当量倍使用される。
当量倍、塩基を使用する場合には、かかる塩基は縮合剤
に対して通常0.01〜0.2当量倍使用される。
反応温度は通常−30°C〜120°C1好ましくは一
25°C〜80″Cである。
25°C〜80″Cである。
反応時間は特に制限されず、原料の光学活性なアルコー
ル類(III)が消失したときを反応終点とすることが
できる。
ル類(III)が消失したときを反応終点とすることが
できる。
反応終了後、反応混合物に通常の分離手段、例えば抽出
、分液または濃縮等の操作を加えることにより、一般式
(If)においてSが1である光学活性なベンジルエー
テル誘導体を収率よく得ることができ、必要によりカラ
ムクロマトグラフィー等による精製を行うことができる
。
、分液または濃縮等の操作を加えることにより、一般式
(If)においてSが1である光学活性なベンジルエー
テル誘導体を収率よく得ることができ、必要によりカラ
ムクロマトグラフィー等による精製を行うことができる
。
一般式(1)で示される光学活性なアルコール類は下記
のルートにより合成することができる。
のルートにより合成することができる。
(以下余白)
)
Wが−3Hi(−CHz+、−の場合
*
■
還元
(以下余白)
↓
還元
アシル化
不斉氷解
加水分解
(A、Z、nおよび*印は前記と同じ意味を表わし、R
4およびRSは同一または異なる低級アルキル基を表わ
す、) 以上の工程により得られる一般式(1)で示される光学
活性なフェノール類としては、4−(1−メチル−2−
アルキルオキシエチル)フェノール、 4−(1−メチル−3−アルキルオキシプロピル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−4−アルキルオキシブチル)フェノ
ール、 4−(1−メチル−5−アルキルオキシペンチル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−6−アルキルオキシへキシル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−2−アルキルカルボニルオキシエチ
ル)フェノール、 4− (1−メチル−3−アルキルカルボニルオキシプ
ロピル)フェノール、 4−(1−メチル−4−アルキル力ルボニルオキシブチ
ル)フェノール、 4−(1−メチル−5−アルキルカルボニルオキシペン
チル)フェノール、 4−(1−メチル−6−アルキルカルボニルオキシヘキ
シル)フェノール、 4−(l−メチル−2−アルコキシアルキルオキシエチ
ル)フェノール、 4−(l−メチル−3−アルコキシアルキルオキシプロ
ピル)フェノール、 4−(1−メチル−4−アルコキシアルキルオキシブチ
ル)フェノール、 4−(1−メチル−5−アルコキシアルキルオキシペン
チル)フェノール、 4−(1−メチル−6−アルコキシアルキルオキシヘキ
シル)フェノール、 4−(1−メチル−2−アルコキシアルキルカルボニル
オキシエチル)フェノール 4−(l−メチル−3−アルコキシアルキルカルボニル
オキシプロビル)フェノール 4− (1−メチル−4−アルコキシアルキルカルボニ
ルオキシブチル)フェノール 4−(l−メチル−5−アルコキシアルキルカルボニル
オキシペンチル)フェノール 4−(1−メチル−6−アルコキシアルキルカルボニル
オキシヘキシル)フェノール 4−(2−アルキルオキシプロピル)フェノール、 4−(3−アルキルオキシブチル)フェノール、4−(
4−アルキルオキシペンチル)フェノール、 4−(5−アルキルオキシヘキシル)フェノール、 4−(6−アルキルオキシヘプチル)フェノール、 4−(2−アルキルカルボニルオキシプロピル)フェノ
ール、 4−(3−アルキルカルボニルオキシブチル〕フェノー
ル、 4−(4−アルキルカルボニルオキシペンチル)フェノ
ール、 4−(5−アルキルカルボニルオキシヘキシル)フェノ
ール、 4−(6−アルキルカルボニルオキシヘプチル)フェノ
ール、 4−(2−アルコキシアルキルオキシプロピル)フェノ
ール、 4−(3−アルコキシアルキルオキシブチル)フェノー
ル、 4−(4−アルコキシアルキルオキシペンチル)フェノ
ール、 4−(5−アルコキシアルキルオキシヘキシル)フェノ
ール、 4−(6−アルコキシアルキルオキシヘプチル)フェノ
ール、 4−(2−アルコキシアルキルカルボニルオキシプロビ
ル)フェノール、 4−(3−アルコキシアルキルカルボニルオキシブチル
)フェノール、 4−(4−アルコキシアルキルカルボニルオキシペンチ
ル)フェノール、 4−(5−アルコキシアルキルカルボニルオキシヘキシ
ル)フェノール、 4−(6−アルコキシアルキルカルボニルオキシへブチ
ル)フェノール、 (ここで名称中、アルキルとは炭素数1〜20のハロゲ
ン原子を含んでいてもよいアルキル基を表わし、アルコ
キシアルキルとは炭素数2〜20のハロゲン原子を含ん
でいてもよいアルコキシアルキル基を表わす、これらは
前記Rとして例示したものがあげられる。また、フェノ
ールとは、2位あるいは3位がハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェノールを表わす、)などが例示される
。
4およびRSは同一または異なる低級アルキル基を表わ
す、) 以上の工程により得られる一般式(1)で示される光学
活性なフェノール類としては、4−(1−メチル−2−
アルキルオキシエチル)フェノール、 4−(1−メチル−3−アルキルオキシプロピル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−4−アルキルオキシブチル)フェノ
ール、 4−(1−メチル−5−アルキルオキシペンチル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−6−アルキルオキシへキシル)フェ
ノール、 4−(1−メチル−2−アルキルカルボニルオキシエチ
ル)フェノール、 4− (1−メチル−3−アルキルカルボニルオキシプ
ロピル)フェノール、 4−(1−メチル−4−アルキル力ルボニルオキシブチ
ル)フェノール、 4−(1−メチル−5−アルキルカルボニルオキシペン
チル)フェノール、 4−(1−メチル−6−アルキルカルボニルオキシヘキ
シル)フェノール、 4−(l−メチル−2−アルコキシアルキルオキシエチ
ル)フェノール、 4−(l−メチル−3−アルコキシアルキルオキシプロ
ピル)フェノール、 4−(1−メチル−4−アルコキシアルキルオキシブチ
ル)フェノール、 4−(1−メチル−5−アルコキシアルキルオキシペン
チル)フェノール、 4−(1−メチル−6−アルコキシアルキルオキシヘキ
シル)フェノール、 4−(1−メチル−2−アルコキシアルキルカルボニル
オキシエチル)フェノール 4−(l−メチル−3−アルコキシアルキルカルボニル
オキシプロビル)フェノール 4− (1−メチル−4−アルコキシアルキルカルボニ
ルオキシブチル)フェノール 4−(l−メチル−5−アルコキシアルキルカルボニル
オキシペンチル)フェノール 4−(1−メチル−6−アルコキシアルキルカルボニル
オキシヘキシル)フェノール 4−(2−アルキルオキシプロピル)フェノール、 4−(3−アルキルオキシブチル)フェノール、4−(
4−アルキルオキシペンチル)フェノール、 4−(5−アルキルオキシヘキシル)フェノール、 4−(6−アルキルオキシヘプチル)フェノール、 4−(2−アルキルカルボニルオキシプロピル)フェノ
ール、 4−(3−アルキルカルボニルオキシブチル〕フェノー
ル、 4−(4−アルキルカルボニルオキシペンチル)フェノ
ール、 4−(5−アルキルカルボニルオキシヘキシル)フェノ
ール、 4−(6−アルキルカルボニルオキシヘプチル)フェノ
ール、 4−(2−アルコキシアルキルオキシプロピル)フェノ
ール、 4−(3−アルコキシアルキルオキシブチル)フェノー
ル、 4−(4−アルコキシアルキルオキシペンチル)フェノ
ール、 4−(5−アルコキシアルキルオキシヘキシル)フェノ
ール、 4−(6−アルコキシアルキルオキシヘプチル)フェノ
ール、 4−(2−アルコキシアルキルカルボニルオキシプロビ
ル)フェノール、 4−(3−アルコキシアルキルカルボニルオキシブチル
)フェノール、 4−(4−アルコキシアルキルカルボニルオキシペンチ
ル)フェノール、 4−(5−アルコキシアルキルカルボニルオキシヘキシ
ル)フェノール、 4−(6−アルコキシアルキルカルボニルオキシへブチ
ル)フェノール、 (ここで名称中、アルキルとは炭素数1〜20のハロゲ
ン原子を含んでいてもよいアルキル基を表わし、アルコ
キシアルキルとは炭素数2〜20のハロゲン原子を含ん
でいてもよいアルコキシアルキル基を表わす、これらは
前記Rとして例示したものがあげられる。また、フェノ
ールとは、2位あるいは3位がハロゲン原子で置換され
ていてもよいフェノールを表わす、)などが例示される
。
そして、中間体である光学活性なベンジルエーテル誘導
体(It)としては、次の化合物が例示される。
体(It)としては、次の化合物が例示される。
4−(1−メチル−2−アルコキシエチル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−3−アルコキシプロピル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−4−アルコキシブチル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−5−アルコキシペンチル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−6−アルコキシヘキシル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(2−アルコキシプロピル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(3−アルコキシブチル)フェニル ベンジルエー
テル、 4−(4−アルコキシペンチル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(5−アルコキシへキシル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(6−アルコキシへブチル)フェニル ベンジルエ
ーテル等。
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−3−アルコキシプロピル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−4−アルコキシブチル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−5−アルコキシペンチル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(1−メチル−6−アルコキシヘキシル)フェニル
ベンジルエーテル、 4−(2−アルコキシプロピル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(3−アルコキシブチル)フェニル ベンジルエー
テル、 4−(4−アルコキシペンチル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(5−アルコキシへキシル)フェニル ベンジルエ
ーテル、 4−(6−アルコキシへブチル)フェニル ベンジルエ
ーテル等。
その他、上記ベンジルエーテル誘導体のベンジル側ヘン
ゼン環の水素がメチル、エチル、プロピル、ブチル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、フルオロ、
クロロ、ブロモ、またはヨードのいずれかで置換された
化合物、そして、化合物中、アルコキシ基が、アルコキ
シアルキルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ま
たはアルコキシアルキルカルボニルオキシ基のいずれか
に置きかわった化合物、(ここで名称中、アルコキシ及
びアルコキシアルキルは前記と同じ意味を表わし、フェ
ニルとは2位あるいは3位がハロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニル基を表わす。) 〈発明の効果〉 本発明化合物である光学活性なフェノール類〔1〕は、
下記に示す方法により、−S式(Vl)で示される強m
11性化合物へと導くことができる。
ゼン環の水素がメチル、エチル、プロピル、ブチル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、フルオロ、
クロロ、ブロモ、またはヨードのいずれかで置換された
化合物、そして、化合物中、アルコキシ基が、アルコキ
シアルキルオキシ基、アルキルカルボニルオキシ基、ま
たはアルコキシアルキルカルボニルオキシ基のいずれか
に置きかわった化合物、(ここで名称中、アルコキシ及
びアルコキシアルキルは前記と同じ意味を表わし、フェ
ニルとは2位あるいは3位がハロゲン原子で置換されて
いてもよいフェニル基を表わす。) 〈発明の効果〉 本発明化合物である光学活性なフェノール類〔1〕は、
下記に示す方法により、−S式(Vl)で示される強m
11性化合物へと導くことができる。
(ここでR11はアルキル基、アルコキシル基等をAr
は1.4−フェニレン基、4,4°−ビフェニレン基等
を、Yはハロゲン原子をそれぞれ表わし、Z、W、sお
よびRは前記と同じ意味を表わす。) 上記一般式(Vl)で示される液晶化合物は強誘電性化
合物として高速応答性、自発分極性、温度範囲の広範性
等の点ですぐれた特性を有している。
は1.4−フェニレン基、4,4°−ビフェニレン基等
を、Yはハロゲン原子をそれぞれ表わし、Z、W、sお
よびRは前記と同じ意味を表わす。) 上記一般式(Vl)で示される液晶化合物は強誘電性化
合物として高速応答性、自発分極性、温度範囲の広範性
等の点ですぐれた特性を有している。
また、本発明の製造法により、該フェノール類(1)を
工業的に有利に製造することができる。
工業的に有利に製造することができる。
さらに該フェノール類(1)は農薬、医薬等の中間体と
しても利用することができる。
しても利用することができる。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
(下記実施例中における収率とは特に注釈ない場合、各
単一反応の収率を表わす、) 実施例1 温度計、撹拌装置を装着した4ツロフラスコに(+)−
3−メチル−3−(4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸メチル38.8g (0,2モル)と無水炭酸カリ
ウム70gおよびジメチルホルムアミド400dを仕込
み、塩化ベンジル30.4g (0,24モル)を添加
して、50〜60°Cで6時間反応させた。
単一反応の収率を表わす、) 実施例1 温度計、撹拌装置を装着した4ツロフラスコに(+)−
3−メチル−3−(4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ン酸メチル38.8g (0,2モル)と無水炭酸カリ
ウム70gおよびジメチルホルムアミド400dを仕込
み、塩化ベンジル30.4g (0,24モル)を添加
して、50〜60°Cで6時間反応させた。
反応終了後、反応混合物を水12中に注ぎ込み、クロロ
ホルム500dを加えて抽出処理した。有機層はよく水
洗したのち、減圧下に溶媒を留去して、(+)−3−メ
チル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)プロピオン
酸メチル(1−a)55.1g (収率97%)を得た
。
ホルム500dを加えて抽出処理した。有機層はよく水
洗したのち、減圧下に溶媒を留去して、(+)−3−メ
チル−3−(4−ベンジルオキシフェニル)プロピオン
酸メチル(1−a)55.1g (収率97%)を得た
。
上で得た( 1− a 354g (0,19モル)を
テトラヒドロフラン300d中に溶かした後、水素化リ
チウムアルミニウム7.2g (0,19モル)を懸濁
させたテトラヒドロフラン30M中に滴下し、30〜4
0°Cで3時間撹拌した0反応混合物中に注意深くエタ
ノールを加え、水II!、中に注ぎ出した後、塩酸でp
H2〜3に調整し、その後、トルエン300dを加えて
抽出処理した。有機層は5%重曹水で洗浄したのち、減
圧下に溶媒を留去して(+)−3−メチル−3−(4−
ベンジルオキシフェニル)プロパツール(In −1)
46.7g (収率96%)を得た。
テトラヒドロフラン300d中に溶かした後、水素化リ
チウムアルミニウム7.2g (0,19モル)を懸濁
させたテトラヒドロフラン30M中に滴下し、30〜4
0°Cで3時間撹拌した0反応混合物中に注意深くエタ
ノールを加え、水II!、中に注ぎ出した後、塩酸でp
H2〜3に調整し、その後、トルエン300dを加えて
抽出処理した。有機層は5%重曹水で洗浄したのち、減
圧下に溶媒を留去して(+)−3−メチル−3−(4−
ベンジルオキシフェニル)プロパツール(In −1)
46.7g (収率96%)を得た。
上で得られた(+)−3−メチル−3−(4ベンジルオ
キシフエニル)プロパツール(III−1)2.56g
(10ミリモル)をジメチルホルムアミド2oId中
にとかした後、25〜30°Cにて60%水素化ナトリ
ウム0.48 g (12ミリモル)を加えて2時間
撹拌した。その後、パラトルエンスルホン酸プロピルエ
ステル3.0 g (14ミリモル)を加えて30〜4
0°Cで4時間反応させた0反応終了後、反応混合物を
水300d中に注ぎ出し、トルエン300dで抽出、分
液した後、有機層はさらに水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。減圧下に溶媒を留去したのち、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液
:トルエン)で精製することにより、(+)−1−プロ
ポキシ3−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(I
t−1) 2.86g (収率96%)([α]ll”
+17.7゜(c−1、CHCl3)、 n!’=1
.5222)を得た。
キシフエニル)プロパツール(III−1)2.56g
(10ミリモル)をジメチルホルムアミド2oId中
にとかした後、25〜30°Cにて60%水素化ナトリ
ウム0.48 g (12ミリモル)を加えて2時間
撹拌した。その後、パラトルエンスルホン酸プロピルエ
ステル3.0 g (14ミリモル)を加えて30〜4
0°Cで4時間反応させた0反応終了後、反応混合物を
水300d中に注ぎ出し、トルエン300dで抽出、分
液した後、有機層はさらに水洗し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥させた。減圧下に溶媒を留去したのち、得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液
:トルエン)で精製することにより、(+)−1−プロ
ポキシ3−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(I
t−1) 2.86g (収率96%)([α]ll”
+17.7゜(c−1、CHCl3)、 n!’=1
.5222)を得た。
ここで得た(II−1)1.49g (5ミリモル)を
メタノール20d中にとかした後、5%Pd/C0,1
gを加えて、水素雰囲気中で脱ベンジル化反応を行った
。計算量の水素(約110affi )が消費されたと
ころで原料(II−,1)が完全に消失していることを
確認したうえでPd/Cを濾別し、メタノール溶液を減
圧下に濃縮して、(+)−4−(1−メチル3−プロポ
キシプロピル)フェノール(1−131,04g (収
率100%)([α]!・=+28.2゜(c=1.C
HClz)、n6°=1.5011)を得た。
メタノール20d中にとかした後、5%Pd/C0,1
gを加えて、水素雰囲気中で脱ベンジル化反応を行った
。計算量の水素(約110affi )が消費されたと
ころで原料(II−,1)が完全に消失していることを
確認したうえでPd/Cを濾別し、メタノール溶液を減
圧下に濃縮して、(+)−4−(1−メチル3−プロポ
キシプロピル)フェノール(1−131,04g (収
率100%)([α]!・=+28.2゜(c=1.C
HClz)、n6°=1.5011)を得た。
実施例2〜7
実施例1で得た(+)−3−メチル−3−(4−ベンジ
ルオキシフェニル)プロパツール(I[l−1)2.5
6g (10ミリモル)を用い、表−1に示すアルキル
化剤(rV)を使用する以外は実施例1と同様に縮合、
脱ベンジル化反応および後処理を行って表−1に示す結
果を得た。
ルオキシフェニル)プロパツール(I[l−1)2.5
6g (10ミリモル)を用い、表−1に示すアルキル
化剤(rV)を使用する以外は実施例1と同様に縮合、
脱ベンジル化反応および後処理を行って表−1に示す結
果を得た。
(以下余白)
実施例8
温度計、撹拌装置を装着した4ツロフラスコに(−)−
2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸エチル7
7.6g (0,4モル)、p−メチルベンジルアル
コール54.9g (0,45モル)、トリフェニルホ
スフィン108g (0,41モル)およびテトラヒド
ロフラン300dを仕込み、O′Cでジエチルアゾジカ
ルボキシレート71.4 g (0,41モル)を滴下
した。20°Cに昇温後、同温度で1日間撹拌したのち
、反応混合物をif!I縮した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して()−2−f
4−(p−メチルベンジルオキシフェニル))プロピオ
ン酸エチル(2−a ) 85.9g(収率72%)を
得た。
2−(4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸エチル7
7.6g (0,4モル)、p−メチルベンジルアル
コール54.9g (0,45モル)、トリフェニルホ
スフィン108g (0,41モル)およびテトラヒド
ロフラン300dを仕込み、O′Cでジエチルアゾジカ
ルボキシレート71.4 g (0,41モル)を滴下
した。20°Cに昇温後、同温度で1日間撹拌したのち
、反応混合物をif!I縮した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して()−2−f
4−(p−メチルベンジルオキシフェニル))プロピオ
ン酸エチル(2−a ) 85.9g(収率72%)を
得た。
ここで得た( 2− a ) 56.6g (0,19
モル)を、実施例1に準じて還元、縮合、脱ベンジル化
反応および後処理を行って(+)−4−(1−メチル2
−プロポキシエチル)フェノール(1−8)0.96g
(収率99.5%)を得た。
モル)を、実施例1に準じて還元、縮合、脱ベンジル化
反応および後処理を行って(+)−4−(1−メチル2
−プロポキシエチル)フェノール(1−8)0.96g
(収率99.5%)を得た。
[a ] Ro= +23.0° (C”’ 1 、
CHCl s)実施例9 実施例1で得た(+)−3−メチル−3−(4−ベンジ
ルオキシフェニル)プロパツール([ll−132,5
6g (10ミリモル)をピリジン20d中にとかし、
30〜40°Cにてブチリルクロリド1.38 g(1
3ミリモル)を加えて2時間反応させた。反応混合物を
水200d中に注ぎ出し、トルエン200dで抽出、分
液後、IN塩酸水、水、5%重曹水、水の順に洗浄した
のち、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下に溶
媒を留去したのち、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:トルエンー酢酸エチル)で
精製することにより(+)−4−ベンジルオキシ−1−
(1−メチル−3−ブチリルオキシプロピル)ベンゼン
(II−9) 3.1g (収率95%)を得た。
CHCl s)実施例9 実施例1で得た(+)−3−メチル−3−(4−ベンジ
ルオキシフェニル)プロパツール([ll−132,5
6g (10ミリモル)をピリジン20d中にとかし、
30〜40°Cにてブチリルクロリド1.38 g(1
3ミリモル)を加えて2時間反応させた。反応混合物を
水200d中に注ぎ出し、トルエン200dで抽出、分
液後、IN塩酸水、水、5%重曹水、水の順に洗浄した
のち、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。減圧下に溶
媒を留去したのち、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:トルエンー酢酸エチル)で
精製することにより(+)−4−ベンジルオキシ−1−
(1−メチル−3−ブチリルオキシプロピル)ベンゼン
(II−9) 3.1g (収率95%)を得た。
[α]8°−+11.3’ (C=1.CHCl、)
ここで得た(If−9)1.63g (5ミリモル)を
メタノール201dにとかし、5%Pd/CO,1gを
加えて、水素雰囲気中で脱ベンジル化反応を行った。
ここで得た(If−9)1.63g (5ミリモル)を
メタノール201dにとかし、5%Pd/CO,1gを
加えて、水素雰囲気中で脱ベンジル化反応を行った。
計算量の水素(約100ad )が消費されたところで
、原料(n−9)が完全に消失していることを確認した
うえでPd/Cを濾別し、得られたメタノール溶液を減
圧下に濃縮して(+)−4−(1−メチル−3−ブチリ
ルオキシプロピル)フェノール(1−9) 1.18g
(収率99.5%) ([α] n’=+18.0
’(c=l、CHCl3)lを得た。
、原料(n−9)が完全に消失していることを確認した
うえでPd/Cを濾別し、得られたメタノール溶液を減
圧下に濃縮して(+)−4−(1−メチル−3−ブチリ
ルオキシプロピル)フェノール(1−9) 1.18g
(収率99.5%) ([α] n’=+18.0
’(c=l、CHCl3)lを得た。
実施例10〜12
実施例1で得た(、+)−3−メチル−3−(4ベンジ
ルオキシフエニル)プロパツール([11) 2.56
g (10ミリモル)を用い、表−2に示すアシル化剤
(V)を用いる以外は実施例9に準じて縮合、脱ヘンシ
ル化反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
ルオキシフエニル)プロパツール([11) 2.56
g (10ミリモル)を用い、表−2に示すアシル化剤
(V)を用いる以外は実施例9に準じて縮合、脱ヘンシ
ル化反応および後処理して表−2に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例13
温度計、撹拌装置を装着した4つロフラスコに4−(4
−ベンジルオキシ)フェニルブタン−2−オン50.8
g (0,2モル)とエタノール200dおよびクロロ
ホルム200dを仕込み、30〜40°Cにて水素化ホ
ウ素ナトリウム5.7g (0,15モル)を約30分
間で加えた。同温度で3時間撹拌したのち、反応混合物
を水500dに注ぎ込み、クロロホルム200dを加え
て抽出した。有機層は水でよく水洗したのち、減圧下に
溶媒を留去して、4−(4−ベンジルオキシ)フェニル
−2−ブタノール(3−a)を白色結晶として51.0
g (収率99.5%)得た。
−ベンジルオキシ)フェニルブタン−2−オン50.8
g (0,2モル)とエタノール200dおよびクロロ
ホルム200dを仕込み、30〜40°Cにて水素化ホ
ウ素ナトリウム5.7g (0,15モル)を約30分
間で加えた。同温度で3時間撹拌したのち、反応混合物
を水500dに注ぎ込み、クロロホルム200dを加え
て抽出した。有機層は水でよく水洗したのち、減圧下に
溶媒を留去して、4−(4−ベンジルオキシ)フェニル
−2−ブタノール(3−a)を白色結晶として51.0
g (収率99.5%)得た。
上で得た( 3− a 348.7g (0,19モル
)をトルエン200 adとピリジン100dの混合溶
媒に溶かし、無水酢酸29g (0,285モル)と4
−ジメチルアミノピリジン1gを加えて、40〜50゛
Cで6時間撹拌した。
)をトルエン200 adとピリジン100dの混合溶
媒に溶かし、無水酢酸29g (0,285モル)と4
−ジメチルアミノピリジン1gを加えて、40〜50゛
Cで6時間撹拌した。
反応終了後、反応混合物を4N塩酸500jd中に注ぎ
出し、抽出、分液した。得られた有機層はlN塩酸水、
水、5%重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、2−アセトキ
シ−4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(3−
b)を白色結晶として56.1g (収率99%)得た
。
出し、抽出、分液した。得られた有機層はlN塩酸水、
水、5%重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、減圧下に溶媒を留去し、2−アセトキ
シ−4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(3−
b)を白色結晶として56.1g (収率99%)得た
。
さらに(3−b)50gを3Nリン酸バッファー500
−に懸濁させ、リパーゼ(「アマノP J ”) 2.
5gを加えて、36±2°Cで24時間激しく撹拌した
0反応終了後、反応液に酢酸エチル500dを加えて、
濾過したのち、抽出、分液し得られた有機層を水洗した
。有機層を減圧上溶媒留去し、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエンー酢酸
エチル)で分離し、()−2−アセトキシ−4−(4−
ベンジルオキシ)フェニルブタン25.4g (収率5
0.8%)[α] J’=−7,8@ (c−1,CH
Cl5)と(−)−4(4−ベンジルオキシ)フェニル
−2−ブタノール(I[l−3)20.6g (収率4
8%)([α]轟0=−9,3’ (c−1,CHC
l5))を得た。
−に懸濁させ、リパーゼ(「アマノP J ”) 2.
5gを加えて、36±2°Cで24時間激しく撹拌した
0反応終了後、反応液に酢酸エチル500dを加えて、
濾過したのち、抽出、分液し得られた有機層を水洗した
。有機層を減圧上溶媒留去し、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出液:トルエンー酢酸
エチル)で分離し、()−2−アセトキシ−4−(4−
ベンジルオキシ)フェニルブタン25.4g (収率5
0.8%)[α] J’=−7,8@ (c−1,CH
Cl5)と(−)−4(4−ベンジルオキシ)フェニル
−2−ブタノール(I[l−3)20.6g (収率4
8%)([α]轟0=−9,3’ (c−1,CHC
l5))を得た。
上で得た(DI −3) 2.56g (10ミリモル
)をジメチルホルムアミド20dにとかし、25〜30
゛Cにて、60%水素化ナトリウム0.48g (12
ミリモル)を加えて2時間撹拌した。その後、パラトル
エンスルホン酸プロピルエステル3.0g (14ミリ
モル)を加えて30〜40°Cで4時間反応させた。反
応終了後、反応混合物を水300mj!に注ぎ出し、ト
ルエン300dで抽出、分液し、有機層はさらに水洗し
たのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
)をジメチルホルムアミド20dにとかし、25〜30
゛Cにて、60%水素化ナトリウム0.48g (12
ミリモル)を加えて2時間撹拌した。その後、パラトル
エンスルホン酸プロピルエステル3.0g (14ミリ
モル)を加えて30〜40°Cで4時間反応させた。反
応終了後、反応混合物を水300mj!に注ぎ出し、ト
ルエン300dで抽出、分液し、有機層はさらに水洗し
たのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。
減圧下に溶媒を留去したのち、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(?容出ン夜:トルエン)
で精製することにより、(−)−2プロポキシ−4−(
4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(II−13)2
.86g (収率96%)([α]6°=−8.5°
(c = 1 、 CHCI 3)、06°=1.5
2311を得た。
ルカラムクロマトグラフィー(?容出ン夜:トルエン)
で精製することにより、(−)−2プロポキシ−4−(
4−ベンジルオキシ)フェニルブタン(II−13)2
.86g (収率96%)([α]6°=−8.5°
(c = 1 、 CHCI 3)、06°=1.5
2311を得た。
ここで得た(II−13)1.49g (5ミリモル)
をメタノール20dにとかし、5%Pd/CO,1gを
加えて、水素雰囲気下、脱ベンジル化反応を行った。
をメタノール20dにとかし、5%Pd/CO,1gを
加えて、水素雰囲気下、脱ベンジル化反応を行った。
計yr、mの水素(約110d)が消費されたところで
原料が完全に消失していることを確認したうえ、Pd/
Cを濾別し、メタノール溶液を減圧下に濃縮して、(−
)−4−(3−プロポキシブチル)フェノール1.04
g (I−13) (収率100%)+ [α] j
°=−9,9° (c=1.CHCl、)、n g。
原料が完全に消失していることを確認したうえ、Pd/
Cを濾別し、メタノール溶液を減圧下に濃縮して、(−
)−4−(3−プロポキシブチル)フェノール1.04
g (I−13) (収率100%)+ [α] j
°=−9,9° (c=1.CHCl、)、n g。
=1.49681得た。
実施例14〜16
実施例13で得た(I[[−3) 2.56g (10
ミリモル)を用い、表−3に示すアルキル化剤(TV)
を用いる以外は実施例13に準拠して反応、後処理を行
い、表−3に示す結果を得た。
ミリモル)を用い、表−3に示すアルキル化剤(TV)
を用いる以外は実施例13に準拠して反応、後処理を行
い、表−3に示す結果を得た。
実施例17〜18
実施例13で得た(−)−2−アセトキシ−4(4−ベ
ンジルオキシ)フェニルブタン25gをメタノール1o
odとテトラヒドロフラン50−の溶液に溶かし、20
%水酸化ナトリウム水溶液50dを加えて、30〜40
°Cで6時間反応させた0反応終了後、4N塩酸でpH
9に調整したのち、トルエン300dで抽出、分液し、
有機層は水洗したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。有機層は減圧下に41ifLで(+)−4−(4−
ヘンシルオキシ)フェニル−2−ブタノール〔■−3°
]21.2g (収率98.7%)([α]6°−+9
.0° (C−1CHCl3)lを得た。
ンジルオキシ)フェニルブタン25gをメタノール1o
odとテトラヒドロフラン50−の溶液に溶かし、20
%水酸化ナトリウム水溶液50dを加えて、30〜40
°Cで6時間反応させた0反応終了後、4N塩酸でpH
9に調整したのち、トルエン300dで抽出、分液し、
有機層は水洗したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。有機層は減圧下に41ifLで(+)−4−(4−
ヘンシルオキシ)フェニル−2−ブタノール〔■−3°
]21.2g (収率98.7%)([α]6°−+9
.0° (C−1CHCl3)lを得た。
ここで得た〔■−3°)2.56g (10ミリモル)
を用い、表−4に示すアルキル化剤([V)を用いる以
外は実施例13と同様のモル数、容量の試薬、78媒を
用いて、表−4に示す結果を得た。
を用い、表−4に示すアルキル化剤([V)を用いる以
外は実施例13と同様のモル数、容量の試薬、78媒を
用いて、表−4に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例19
4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン−2−オン
(0,2モル)に代えて1−(4−ベンジルオキシ)フ
ェニルプロパン−2−オン48.1g (0,2モル)
を用いる以外は実施例14に準じて反応、後処理および
精製して(=)−4−(2−ペンチルオキシプロピル)
フェノール(1−19)1.05g (収率94.5%
)を得た。[a ] no= 15.6゜(c=1.
CHCl3) 実施例20 4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン2−オン(
0,2モル)に代えて5−(4−、ベンジルオキシ)フ
ェニルペンタン−2−オン53.7g (0,2モル)
を用いる以外は実施例14に準じて反応、後処理および
精製をおこない、(−)−4(4−ペンチルオキシペン
チル)フェノール(120) 1.18g (収率94
.5%)を得た。
(0,2モル)に代えて1−(4−ベンジルオキシ)フ
ェニルプロパン−2−オン48.1g (0,2モル)
を用いる以外は実施例14に準じて反応、後処理および
精製して(=)−4−(2−ペンチルオキシプロピル)
フェノール(1−19)1.05g (収率94.5%
)を得た。[a ] no= 15.6゜(c=1.
CHCl3) 実施例20 4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン2−オン(
0,2モル)に代えて5−(4−、ベンジルオキシ)フ
ェニルペンタン−2−オン53.7g (0,2モル)
を用いる以外は実施例14に準じて反応、後処理および
精製をおこない、(−)−4(4−ペンチルオキシペン
チル)フェノール(120) 1.18g (収率94
.5%)を得た。
[α]志’= 6.0” (c=1.CHCIs)
実施例21〜24 実施例13で得た(−)−4−(4−ベンジルオキシ)
フェニル−2−ブタノール(I[I−312,56g(
10ミリモル)を用いて表−5に示すアルキル化剤(■
)でアルキル化反応および後処理を行う以外は実施例1
3と同様に脱ベンジル化および後処理を行って表−5に
示す結果を得た。
実施例21〜24 実施例13で得た(−)−4−(4−ベンジルオキシ)
フェニル−2−ブタノール(I[I−312,56g(
10ミリモル)を用いて表−5に示すアルキル化剤(■
)でアルキル化反応および後処理を行う以外は実施例1
3と同様に脱ベンジル化および後処理を行って表−5に
示す結果を得た。
実施例25
4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン2−オン(
0,2モル)に代えて6−(4−ベンジルオキシ)フェ
ニルヘキサン−2−オン56.5g (0,2モル)を
用いる以外は実施例13に準じて反応および後処理をお
こない、(−) −4−(5プロピルオキシヘキシル)
フェノール(1−25) 1.08g (収率91.5
%)([α]P=−3,1° (c=1.CHCl3)
lを得た。
0,2モル)に代えて6−(4−ベンジルオキシ)フェ
ニルヘキサン−2−オン56.5g (0,2モル)を
用いる以外は実施例13に準じて反応および後処理をお
こない、(−) −4−(5プロピルオキシヘキシル)
フェノール(1−25) 1.08g (収率91.5
%)([α]P=−3,1° (c=1.CHCl3)
lを得た。
実施例26
4−(4−ベンジルオキシ)フェニルブタン2−オン(
0,2モル)に代えて4−(3−フルオロ−4−ベンジ
ルオキシ)フェニルブタン−2オン54.5g(0,2
モル)を用いる以外は実施例13に準じて反応および後
処理をおこない、(−)−3−フルオロ−4−(3−プ
ロピルオキシブチル)フェノール(1−26)1.1g
(収率97%)([α]P= 17.1° (c−1
,CHCl5)、n!’−1,50051を得た。
0,2モル)に代えて4−(3−フルオロ−4−ベンジ
ルオキシ)フェニルブタン−2オン54.5g(0,2
モル)を用いる以外は実施例13に準じて反応および後
処理をおこない、(−)−3−フルオロ−4−(3−プ
ロピルオキシブチル)フェノール(1−26)1.1g
(収率97%)([α]P= 17.1° (c−1
,CHCl5)、n!’−1,50051を得た。
実施例27
温度計、撹拌装置を装着した4つ目フラスコに4−(4
−(p−メチルベンジルオキシ))フェニルブタン−2
−オン53.7 g (0,2モル)、エタノール20
0dおよびクロロホルム200 dを仕込み、30〜4
0°Cにて水素化ホウ素ナトリウム5.7g(0,15
モル)を約30分間で加えた。同温度で3時間撹拌した
のち、反応混合物を水500 d中に注ぎ込み、クロロ
ホルム200dを加えて抽出処理した。有機層は水でよ
く水洗したのち、減圧下に溶媒を留去して、4−(4−
(p−メチルベンジルオキシ))フェニル−2−ブタノ
ール(4−a)を白色結晶として53.6g (収率9
9.2%)得た。
−(p−メチルベンジルオキシ))フェニルブタン−2
−オン53.7 g (0,2モル)、エタノール20
0dおよびクロロホルム200 dを仕込み、30〜4
0°Cにて水素化ホウ素ナトリウム5.7g(0,15
モル)を約30分間で加えた。同温度で3時間撹拌した
のち、反応混合物を水500 d中に注ぎ込み、クロロ
ホルム200dを加えて抽出処理した。有機層は水でよ
く水洗したのち、減圧下に溶媒を留去して、4−(4−
(p−メチルベンジルオキシ))フェニル−2−ブタノ
ール(4−a)を白色結晶として53.6g (収率9
9.2%)得た。
上で得た( 4− a ) 51.4g (0,19モ
ル)をトルエン200−とピリジン100dの混合溶媒
に溶かし、無水酢酸29 g (0,285モル)と4
−ジメチルアミノピリジン1gを加えて、40〜50℃
に反応温度を保ちながら6時間反応させた。
ル)をトルエン200−とピリジン100dの混合溶媒
に溶かし、無水酢酸29 g (0,285モル)と4
−ジメチルアミノピリジン1gを加えて、40〜50℃
に反応温度を保ちながら6時間反応させた。
反応終了後、反応混合物を4N塩酸500d中に注ぎ出
し、抽出、分液した。得られた有機層はlN塩酸水、水
、5%重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して2−アセトキシ
−4−(4−(p−メチルベンジルオキシ))フェニル
ブタン〔4−b〕を白色結晶として58.8g (収率
99%)得た。
し、抽出、分液した。得られた有機層はlN塩酸水、水
、5%重曹水、水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した後、減圧下に溶媒を留去して2−アセトキシ
−4−(4−(p−メチルベンジルオキシ))フェニル
ブタン〔4−b〕を白色結晶として58.8g (収率
99%)得た。
さらに(4−b)50gを3Nリン酸バツフブー 50
0d中に懸濁させ、その後、リパーゼ(「アマノP」)
2.5gを加えて、36±2℃で24時間激しく撹拌し
た0反応終了後、反応液に酢酸エチル500dを加えて
、濾過したのち、抽出、分液して得られた有機層を水洗
した。有機層を減圧下に溶媒留去したのち、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマチグラフィー(溶出液量ト
ルエンー酢酸エチル)で分離して(−)−2−アセトキ
シ−4−(4−(p−メチルベンジルオキシ))フェニ
ルブタン25.5g (収率51%)([α]6°=7
.8°(c=1. CHCIs ) )と(−)−4−
(4−p−メチルベンジルオキシ)フェニル−2−ブタ
ノール(I[[−4) 20.7g (収率48%)(
[α] xa=−9,0° (c=1.CHC13))
を得た。
0d中に懸濁させ、その後、リパーゼ(「アマノP」)
2.5gを加えて、36±2℃で24時間激しく撹拌し
た0反応終了後、反応液に酢酸エチル500dを加えて
、濾過したのち、抽出、分液して得られた有機層を水洗
した。有機層を減圧下に溶媒留去したのち、得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマチグラフィー(溶出液量ト
ルエンー酢酸エチル)で分離して(−)−2−アセトキ
シ−4−(4−(p−メチルベンジルオキシ))フェニ
ルブタン25.5g (収率51%)([α]6°=7
.8°(c=1. CHCIs ) )と(−)−4−
(4−p−メチルベンジルオキシ)フェニル−2−ブタ
ノール(I[[−4) 20.7g (収率48%)(
[α] xa=−9,0° (c=1.CHC13))
を得た。
上で得た( m −4) 2.70g (10ミリモル
)をピリジン20dにとかして30〜40’Cにて、ブ
チリルクロリド1.38 g (13ミリモル)を加え
て2時間反応させた0反応部合物を水20Od中に注ぎ
出し、トルエン200dで抽出、分液後、lN塩酸水、
水、5%重曹水、水の順に洗浄したのち、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた。減圧下に溶媒を留去したのち、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液:トルエン)で精製することにより、(+)−2
−ブチリルオキシ−4−(4−(p−メチルベンジルオ
キシ))フェニルブタン(II−27) 3.3g
(収率97%)([α コ i’=+ 3.5 @
(c−1,CHCIz) 、n P−1,5272
1を得た。
)をピリジン20dにとかして30〜40’Cにて、ブ
チリルクロリド1.38 g (13ミリモル)を加え
て2時間反応させた0反応部合物を水20Od中に注ぎ
出し、トルエン200dで抽出、分液後、lN塩酸水、
水、5%重曹水、水の順に洗浄したのち、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥させた。減圧下に溶媒を留去したのち、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(
溶出液:トルエン)で精製することにより、(+)−2
−ブチリルオキシ−4−(4−(p−メチルベンジルオ
キシ))フェニルブタン(II−27) 3.3g
(収率97%)([α コ i’=+ 3.5 @
(c−1,CHCIz) 、n P−1,5272
1を得た。
ここで得た(II−27) 1.7g (5ミリモル
)をメタノール20dにとかし、5%Pd/G O,1
gを加えて、水素雰囲気下に脱ベンジル化反応を行った
。
)をメタノール20dにとかし、5%Pd/G O,1
gを加えて、水素雰囲気下に脱ベンジル化反応を行った
。
計算量の水素(約110m)が消費されたところで原料
が完全に消失していることを確認した後、Pd/Cを濾
別し、濾液のメタノール溶液を減圧下に濃縮して、(+
)−4−(3−ブチリルオキシブチル)フェノール1.
18g (1−27)(収率100%) ([α]
B@=+ 3.4° (c=1.CHCl3)fl P
−1,4970)を得た。
が完全に消失していることを確認した後、Pd/Cを濾
別し、濾液のメタノール溶液を減圧下に濃縮して、(+
)−4−(3−ブチリルオキシブチル)フェノール1.
18g (1−27)(収率100%) ([α]
B@=+ 3.4° (c=1.CHCl3)fl P
−1,4970)を得た。
実施例28
実施例27で得た(−)−2−アセトキシ−4−(4−
(p−メチルベンジルオキシ))フェニルブタン3.1
2g (10ミリモル)をテトラヒドロフラン20dに
溶かして5%Pd/C0,3gを加えて、水素雰囲気下
に脱ベンジル化した。計算量の水素(約220m)が消
費されたところで、原料が完全に消失していることを確
認した後、Pd/Cを濾別し、溶媒を減圧下に留去して
、(−) −4−(3−アセトキシブチル)フェノール
(1−28)2.1g(収率99.5%)([α]乙’
=−8,3゜(c= 1.CHC13)、n i’ −
1,50521を得た。
(p−メチルベンジルオキシ))フェニルブタン3.1
2g (10ミリモル)をテトラヒドロフラン20dに
溶かして5%Pd/C0,3gを加えて、水素雰囲気下
に脱ベンジル化した。計算量の水素(約220m)が消
費されたところで、原料が完全に消失していることを確
認した後、Pd/Cを濾別し、溶媒を減圧下に留去して
、(−) −4−(3−アセトキシブチル)フェノール
(1−28)2.1g(収率99.5%)([α]乙’
=−8,3゜(c= 1.CHC13)、n i’ −
1,50521を得た。
実施例29〜31
(−) −4−(4−p−メチルベンジルオキシ)フェ
ニル−2−ブタノール(ml −4) 2.70g (
10ミリモル)を使用し、表−6に示すアシル化剤(V
)を用いる以外は実施例27と同様に反応おび後処理を
行って表−6に示す結果を得た。
ニル−2−ブタノール(ml −4) 2.70g (
10ミリモル)を使用し、表−6に示すアシル化剤(V
)を用いる以外は実施例27と同様に反応おび後処理を
行って表−6に示す結果を得た。
(以下余白)
実施例8,19,20,25.および26において、中
間体として得られた光学活性なベンジルエーテル誘導体
(n)の物性値を表−7に示す。
間体として得られた光学活性なベンジルエーテル誘導体
(n)の物性値を表−7に示す。
(以下余白)
実施例32〜36
実施例20および実施例25において得られる光学活性
なアルコール類(DI)を用いて、表−8に示すアシル
化剤(V)を用いる以外は実施例27と同様に反応およ
び後処理を行って表−8に示す結果を得た。
なアルコール類(DI)を用いて、表−8に示すアシル
化剤(V)を用いる以外は実施例27と同様に反応およ
び後処理を行って表−8に示す結果を得た。
実施例37〜40
実施例20および実施例25において得られる光学活性
なアルコール類(III)を用いて、表−8に示すアル
キル化剤(TV)を用いる以外は実施例13と同様に反
応および後処理を行って表−8に示す結果を得た。
なアルコール類(III)を用いて、表−8に示すアル
キル化剤(TV)を用いる以外は実施例13と同様に反
応および後処理を行って表−8に示す結果を得た。
(以下余白)
参考例
(液晶化合物製造例1)
撹拌装置、温度計を装着した4ツロフラスコに実施例8
で得た(+)−4−(1−メチル−2−プロピルオキシ
エチル)フェノール(1−8)0.49 g (2,5
ミリモル)とピリジン20mを仕込み、20〜25°C
で、4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド1.1g(3ミリモル)を加え、同温度で1時間
、その後、40°Cで4時間撹拌した。
で得た(+)−4−(1−メチル−2−プロピルオキシ
エチル)フェノール(1−8)0.49 g (2,5
ミリモル)とピリジン20mを仕込み、20〜25°C
で、4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸ク
ロリド1.1g(3ミリモル)を加え、同温度で1時間
、その後、40°Cで4時間撹拌した。
反応終了後、4N塩酸中に注ぎ出し、トルエン200−
で抽出した。有機層は、水、5%重曹水、水の順に洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(
溶出液:トルエンー酢酸エチル)することにより(+)
−4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸 4
−(1−メチル−2−プロピルオキシエチル)フェニル
エステル(Vl −1) 1.27g (収率96%)
を得た。
で抽出した。有機層は、水、5%重曹水、水の順に洗浄
したのち、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上濃縮
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト精製(
溶出液:トルエンー酢酸エチル)することにより(+)
−4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸 4
−(1−メチル−2−プロピルオキシエチル)フェニル
エステル(Vl −1) 1.27g (収率96%)
を得た。
この化合物は下記の相転移を有する強誘電性液晶化合物
であり、そのS;における自発分極値は5nC/ai
(T−T c = −10°C)であった。
であり、そのS;における自発分極値は5nC/ai
(T−T c = −10°C)であった。
40°C60°C104°C131°CK
S、 S: S^
1(液晶化合物製造例2) 撹拌装置、温度計を装着した4つロフラスコに実施例1
3で得た(−)−4−(3−プロポキシブチル)フェノ
ール(1−13)1.04g (5ミリモル)、4−デ
シルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸2.2g(6
ミリモル)と無水ジクロルメタン30dを仕込み、N、
N’ −ジシクロへキシルカルボジイミド1.22g(
6ミリモル)と4−ピロリジノピリジンO,1gを加え
て、室h1、−昼夜撹拌した。
S、 S: S^
1(液晶化合物製造例2) 撹拌装置、温度計を装着した4つロフラスコに実施例1
3で得た(−)−4−(3−プロポキシブチル)フェノ
ール(1−13)1.04g (5ミリモル)、4−デ
シルオキシ−4°−ビフェニルカルボン酸2.2g(6
ミリモル)と無水ジクロルメタン30dを仕込み、N、
N’ −ジシクロへキシルカルボジイミド1.22g(
6ミリモル)と4−ピロリジノピリジンO,1gを加え
て、室h1、−昼夜撹拌した。
反応終了後、生じた沈澱を濾別し、トルエン200−で
希釈した。有機層は、水、5%酢酸水、水、5%重曹水
、水の順に洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマト精製(熔出液:トルエンー酢酸エチル)すること
により(−)−4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカ
ルボン酸4−(3−プロポキシブチル)フェニルエステ
ル(Vl −2) 2.95g (収率89%)を得た
。
希釈した。有機層は、水、5%酢酸水、水、5%重曹水
、水の順に洗浄したのち無水硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマト精製(熔出液:トルエンー酢酸エチル)すること
により(−)−4−デシルオキシ−4°−ビフェニルカ
ルボン酸4−(3−プロポキシブチル)フェニルエステ
ル(Vl −2) 2.95g (収率89%)を得た
。
この化合物は下記相転移を有する強誘電性液晶化合物で
あり、そのSt相の温度範囲は極めて広い。なおそのS
さ相における自発分極値は119°Cで15.7nc/
cdであった。
あり、そのSt相の温度範囲は極めて広い。なおそのS
さ相における自発分極値は119°Cで15.7nc/
cdであった。
40°C132°C141,5°C
K S、 S: SA
1(以下余白)
1(以下余白)
Claims (5)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは炭素数1〜20のハロゲン原子を含んでい
てもよいアルキル基またはアルコキシアルキル基を、Z
は水素原子またはハロゲン原子を、Aは水素原子、低級
アルキル基、低級アルコキシル基またはハロゲン原子を
、sは0または1を、Wは▲数式、化学式、表等があり
ます▼または▲数式、化学式、表等があります▼ をそれぞれ表わす、ここでnは1〜5の整数を、*印は
不斉原子であることを表わす。)で示される光学活性な
ベンジルエーテル誘導体を、水添触媒および水素の存在
下に脱ベンジル化することを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R、Z、sおよびWは前記と同じ意味を表わす
。) で示される光学活性なフェノール類の製造法。 - (2)sが1である請求項1記載の光学活性なフェノー
ル類。 - (3)請求項1記載の光学活性なベンジルエーテル誘導
体。 - (4)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、A、ZおよびWは前記と同じ意味を表わす。) で示される光学活性なアルコール類と、一般式R−X (式中、Rは前記と同じ意味を表わし、Xはハロゲン原
子または−OSO_2R^2基を表わす、ここでR^2
は低級アルキル基または置換されていても良いフェニル
基を表わす。) で示されるアルキル化剤とを、塩基性物質の存在下に縮
合させてsが0である請求項1記載の光学活性なベンジ
ルエーテル誘導体を得ることを特徴とする請求項1記載
の光学活性なフェノール類の製造法。 - (5)請求項4記載の光学活性なアルコール類と、一般
式 R−COR^3 (式中、Rは前記と同じ意味を表わし、R^3はハロゲ
ン原子または水酸基を表わす、)で示されるアシル化剤
またはその誘導体とを、触媒または縮合剤の存在下に縮
合させてsが1である請求項1記載の光学活性なベンジ
ルエーテル誘導体を得ることを特徴とする請求項1記載
の光学活性なフェノール類の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1261376A JP2797527B2 (ja) | 1988-10-11 | 1989-10-05 | 光学活性なフェノール類およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-256773 | 1988-10-11 | ||
JP25677388 | 1988-10-11 | ||
JP11041789 | 1989-04-27 | ||
JP1-110417 | 1989-04-27 | ||
JP11041689 | 1989-04-27 | ||
JP1-110416 | 1989-04-27 | ||
JP1261376A JP2797527B2 (ja) | 1988-10-11 | 1989-10-05 | 光学活性なフェノール類およびその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0347143A true JPH0347143A (ja) | 1991-02-28 |
JP2797527B2 JP2797527B2 (ja) | 1998-09-17 |
Family
ID=27469821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1261376A Expired - Fee Related JP2797527B2 (ja) | 1988-10-11 | 1989-10-05 | 光学活性なフェノール類およびその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2797527B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
WO2011126098A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2011-10-13 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01121246A (ja) * | 1987-11-02 | 1989-05-12 | Hamari Yakuhin Kogyo Kk | 新規な液晶化合物およびそれを含む液晶組成物 |
-
1989
- 1989-10-05 JP JP1261376A patent/JP2797527B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01121246A (ja) * | 1987-11-02 | 1989-05-12 | Hamari Yakuhin Kogyo Kk | 新規な液晶化合物およびそれを含む液晶組成物 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6624112B2 (en) | 2001-03-06 | 2003-09-23 | N.E. Chemcat Corporation | Hydrogenolysis catalyst |
WO2011126098A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2011-10-13 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
TWI391147B (zh) * | 2010-04-08 | 2013-04-01 | Kao Corp | Skin external preparations |
JPWO2011126098A1 (ja) * | 2010-04-08 | 2013-07-11 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
JP5778134B2 (ja) * | 2010-04-08 | 2015-09-16 | 花王株式会社 | 皮膚外用剤 |
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---|---|
JP2797527B2 (ja) | 1998-09-17 |
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