JPH0345919A - 位置指示装置 - Google Patents
位置指示装置Info
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- JPH0345919A JPH0345919A JP1180854A JP18085489A JPH0345919A JP H0345919 A JPH0345919 A JP H0345919A JP 1180854 A JP1180854 A JP 1180854A JP 18085489 A JP18085489 A JP 18085489A JP H0345919 A JPH0345919 A JP H0345919A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 55
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 32
- 241000226585 Antennaria plantaginifolia Species 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 3
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ 産業上の利用分野
本発明は、光源から出力される光線を該光線の光軸と直
交する回転軸を有するＹ軸操作用のミラーにて反射し、
上記Ｙ軸操作用のミラーによる反射光を該反射光の光軸
と上記光線の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な
回転軸を有するＸ軸操作用の珈う−にて反射して、上記
Ｘ軸操作用のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸ
Ｙ平面上の基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示
するようにした位置指示装置に関し、例えばプリント基
板に電子部品を搭載するに際し、その電子部品のマウン
ト位置を光スポットにて指示する光学的なマウントロケ
ータ等に適用される。
交する回転軸を有するＹ軸操作用のミラーにて反射し、
上記Ｙ軸操作用のミラーによる反射光を該反射光の光軸
と上記光線の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な
回転軸を有するＸ軸操作用の珈う−にて反射して、上記
Ｘ軸操作用のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸ
Ｙ平面上の基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示
するようにした位置指示装置に関し、例えばプリント基
板に電子部品を搭載するに際し、その電子部品のマウン
ト位置を光スポットにて指示する光学的なマウントロケ
ータ等に適用される。
Ｂ 発明の概要
本発明は、光源から出力される光線を該光線の光軸と直
交する回転軸を有するＹ軸操作用のミラーにて反射し、
上記Ｙ軸操作用のミラーによる反射光を該反射光の光軸
と上記光線の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な
回転軸を有するＸ軸操作用のミラーにて反射して、上記
Ｘ軸操作用のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸ
Ｙ平面上の基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示
するようにした位置指示装置において、入力手段にて入
力される基板上の所望の位置を示す座標値（ｘ、 ｙ
’）を上記各ミラーの各反射角θつ、θＹに変換する際
に、上記光源から出力される光線を上記基板に導く光学
系における糸巻状の歪を補正する処理を行い、上記光学
系おける糸巻状の歪を補正した状態の各反射角θや、θ
、を示す回転制御データを得て、この回転制御データに
基づいて上記各ミラーの回転角度を制御することにより
、上記入力手段にて入力される座標値（ｘ、 ｙ）に
て示される上記基板上の所望の位置を正確に指示できる
ようにしたものである。
交する回転軸を有するＹ軸操作用のミラーにて反射し、
上記Ｙ軸操作用のミラーによる反射光を該反射光の光軸
と上記光線の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な
回転軸を有するＸ軸操作用のミラーにて反射して、上記
Ｘ軸操作用のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸ
Ｙ平面上の基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示
するようにした位置指示装置において、入力手段にて入
力される基板上の所望の位置を示す座標値（ｘ、 ｙ
’）を上記各ミラーの各反射角θつ、θＹに変換する際
に、上記光源から出力される光線を上記基板に導く光学
系における糸巻状の歪を補正する処理を行い、上記光学
系おける糸巻状の歪を補正した状態の各反射角θや、θ
、を示す回転制御データを得て、この回転制御データに
基づいて上記各ミラーの回転角度を制御することにより
、上記入力手段にて入力される座標値（ｘ、 ｙ）に
て示される上記基板上の所望の位置を正確に指示できる
ようにしたものである。
Ｃ従来の技術
本件出願人は、例えば特開昭６２−２０８８３８号公報
に示されているように、例えばプリント基板に電子部品
を搭載するに際し、その電子部品のマウント位置を光ス
ポットにて指示する光学的なマウントロケータとして、
光源からの光スポットを互いに回転軸が直交する第１の
ミラーと第２のミラーとに１噴次反射させ、この反射光
を被照射部材上に照射してマウント位置を指示するよう
にしたマウント位置指示装置を先に提供している。
に示されているように、例えばプリント基板に電子部品
を搭載するに際し、その電子部品のマウント位置を光ス
ポットにて指示する光学的なマウントロケータとして、
光源からの光スポットを互いに回転軸が直交する第１の
ミラーと第２のミラーとに１噴次反射させ、この反射光
を被照射部材上に照射してマウント位置を指示するよう
にしたマウント位置指示装置を先に提供している。
このマウント位置指示装置は、第６図に示すように、光
源４０から出力される光線を該光線の光軸Ａｔと直交す
る回転軸ＡＶを有するＹ軸操作用の駆動モータ４２にて
回転変位される第１のミラー４３にて反射し、上記第１
のミラーに４３よる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸Ａｘ
を有するＸ軸操作用のの駆動モータ４４にて回転変位さ
れる第２の珈う−４５にて反射して、上記第２のミラー
４５による反射光を上記平面と平ｆ〒なＸＹ平面上の基
板４６に導き、上記基板４６上の任意の位置を指示する
ようになっており、上記第１のミラー４３および第２の
ミラー４５の回転角を変えることにより任意のマウント
位置を指示することができる。
源４０から出力される光線を該光線の光軸Ａｔと直交す
る回転軸ＡＶを有するＹ軸操作用の駆動モータ４２にて
回転変位される第１のミラー４３にて反射し、上記第１
のミラーに４３よる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸Ａｘ
を有するＸ軸操作用のの駆動モータ４４にて回転変位さ
れる第２の珈う−４５にて反射して、上記第２のミラー
４５による反射光を上記平面と平ｆ〒なＸＹ平面上の基
板４６に導き、上記基板４６上の任意の位置を指示する
ようになっており、上記第１のミラー４３および第２の
ミラー４５の回転角を変えることにより任意のマウント
位置を指示することができる。
Ｄ 発明が解決しようとする課題
ところで、上述のように光源４０からの光スポットを互
いに回転軸が直交する第１のミラー４３と第２のミラー
４５とに順次反射させて基板４６上のマウント位置を指
示するようにしたマウント位置指示装置は、機構か簡単
で安価に提供することができるのであるが、上記光源４
０から基板４６上に導かれる光線の軌跡が直線ではなく
、第７図に示すように原点０から離れるほど歪量の大き
くなる糸巻状の歪を光学系で生じ、この歪による誤差が
問題となる。従来、上記歪の発生メカニズムが解析され
ていないために、ＣＡＤデータを利用してのオフライン
でのプログラム作成ができないので、基板４６上での学
習処理により、上記歪を考慮したブグラム作成を行って
いた。そのために、１枚の基板に電子部品をマウントす
るためのマウントロケータのプログラム作成に多大な工
数を要していた。
いに回転軸が直交する第１のミラー４３と第２のミラー
４５とに順次反射させて基板４６上のマウント位置を指
示するようにしたマウント位置指示装置は、機構か簡単
で安価に提供することができるのであるが、上記光源４
０から基板４６上に導かれる光線の軌跡が直線ではなく
、第７図に示すように原点０から離れるほど歪量の大き
くなる糸巻状の歪を光学系で生じ、この歪による誤差が
問題となる。従来、上記歪の発生メカニズムが解析され
ていないために、ＣＡＤデータを利用してのオフライン
でのプログラム作成ができないので、基板４６上での学
習処理により、上記歪を考慮したブグラム作成を行って
いた。そのために、１枚の基板に電子部品をマウントす
るためのマウントロケータのプログラム作成に多大な工
数を要していた。
そこで、本発明は、上述の如き実情に鑑み、マウントロ
ケータのプログラム作成を容易にすることを目的とし、
光源から出力される光線を該光線の光軸と直交する回転
軸を有するＹ軸操作用の第１のミラーにて反射し、上記
第１のミラーによる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有
するＸ軸操作用の第２のミラーにて反射して、上記第２
のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の
基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示するように
した位置指示装置において、上記基板上の所望の位置を
指示する入力座標値に対し、光学系で生じる糸巻状の歪
を補正した状態の第１および第２のミラーの各回転角度
を与える機能を備えるようにして、装置外部側で上記光
学系における糸巻状の歪を考慮する必要を無くした新規
な構成の位置指示装置を提供するものである。
ケータのプログラム作成を容易にすることを目的とし、
光源から出力される光線を該光線の光軸と直交する回転
軸を有するＹ軸操作用の第１のミラーにて反射し、上記
第１のミラーによる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有
するＸ軸操作用の第２のミラーにて反射して、上記第２
のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の
基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示するように
した位置指示装置において、上記基板上の所望の位置を
指示する入力座標値に対し、光学系で生じる糸巻状の歪
を補正した状態の第１および第２のミラーの各回転角度
を与える機能を備えるようにして、装置外部側で上記光
学系における糸巻状の歪を考慮する必要を無くした新規
な構成の位置指示装置を提供するものである。
Ｅ 課題を解決するための手段
本発明は、上述の目的を達成するために、光源から出力
される光線を該光線の光軸と直交する回転軸を有するＹ
軸操作用のミラーにて反射し、上記Ｙ軸操作用のミラー
による反射光を該反射光の光軸と上記光線の光軸とを含
む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有するＸ軸操作
用のミラーにて反射して、上記Ｘ軸操作用のミラーによ
る反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の基板に導き、
上記基板上の任意の位置を指示するようにした位置指示
装置において、上記基板上の位置の所望の位置の座標値
（ｘ、ｙ）を入力する入力手段と、上記基板上の座標値
（ｘ、 ｙ）から上記ＸＹ平面上の原点０位置に対す
る直交座標１ａＸＹ（ｄｘｄｙ）を求め、上記光源から
出力される光線の光軸と上記Ｘ軸操作用のミラーの回転
軸との間の距離 Ｌ＋および該Ｘ軸操作用のミラーの回
転軸と上記平板との間の距離Ｌ２に基づいて、 θ、１＝ｊａｎ−’ ｘ なる上記第１式および第２式にて示される変換式にて、
上記直交座標値ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用の
ミラーの反射角θにおよび上記Ｙ軸操作用のミラーの反
射角θ、を示す回転制御データに変換する変換手段と、
上記変換手段にて得られる回転制御データに基づいて上
記各ミラーの回転角度を制御する制御手段とを設けたこ
とを特徴としている。
される光線を該光線の光軸と直交する回転軸を有するＹ
軸操作用のミラーにて反射し、上記Ｙ軸操作用のミラー
による反射光を該反射光の光軸と上記光線の光軸とを含
む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有するＸ軸操作
用のミラーにて反射して、上記Ｘ軸操作用のミラーによ
る反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の基板に導き、
上記基板上の任意の位置を指示するようにした位置指示
装置において、上記基板上の位置の所望の位置の座標値
（ｘ、ｙ）を入力する入力手段と、上記基板上の座標値
（ｘ、 ｙ）から上記ＸＹ平面上の原点０位置に対す
る直交座標１ａＸＹ（ｄｘｄｙ）を求め、上記光源から
出力される光線の光軸と上記Ｘ軸操作用のミラーの回転
軸との間の距離 Ｌ＋および該Ｘ軸操作用のミラーの回
転軸と上記平板との間の距離Ｌ２に基づいて、 θ、１＝ｊａｎ−’ ｘ なる上記第１式および第２式にて示される変換式にて、
上記直交座標値ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用の
ミラーの反射角θにおよび上記Ｙ軸操作用のミラーの反
射角θ、を示す回転制御データに変換する変換手段と、
上記変換手段にて得られる回転制御データに基づいて上
記各ミラーの回転角度を制御する制御手段とを設けたこ
とを特徴としている。
Ｆ 作用
光源から出力される光線を該光線の光軸と直交する回転
軸を有するＹ軸操作用の第１のミラーにて反射し、上記
第１のミラーによる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有
するＸ軸操作用の第２のミラーにて反射して、上記第２
のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の
基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示するように
した位置指示装置では、上記光源から出力される光線を
上記各ミラーで順次反射した反射光による光スポットの
照射される上記ＸＹ平面上の位置は、上記ＸＹ平面の座
標原点０に対する直交座標位置ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）で第
４図の原理図のように示すことができる。すなわち、光
源から出力される光線の光軸ＡＬと直交する回転軸ＡＶ
を有するＹ軸操作用のミラーの回転角をθＶとし、上記
Ｙ軸操作用のミラーによる反射光の光軸と上記光線の光
軸とを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸穴〇
を有するＸ軸操作用のミラーの回転角をθχとし、上記
光線の光軸ＡＬと上記Ｘ軸操作用のミラーの回転軸Ａ、
との間の距離をＬｌとし、さらに、上記Ｘ軸操作用のミ
ラーの回転軸Ａ、ｌと上記ＸＹ平面との間の距離をり、
とすると、上記光スポットの照射される上記ＸＹ平面上
の座標原点０に対する直交座標位置ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）
は、上記Ｘ軸操作用のミラーの反射角θ８＝０の場合、
ｄｘ＝０ ｄｙ＝Ｌ１ｔａｎθＹ＋ Ｌ１ｔａｎθＶとなり、また
、上記Ｘ軸操作用のミラーの反射角θ８を固定とし、Ｙ
軸操作用のミラーの反射角θＹを変化させた場合、 ｄｘ＝Ｌｚ−ｔａｎθＸ ”’第３式％式％ ・・・第４式 となる。
軸を有するＹ軸操作用の第１のミラーにて反射し、上記
第１のミラーによる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有
するＸ軸操作用の第２のミラーにて反射して、上記第２
のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の
基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示するように
した位置指示装置では、上記光源から出力される光線を
上記各ミラーで順次反射した反射光による光スポットの
照射される上記ＸＹ平面上の位置は、上記ＸＹ平面の座
標原点０に対する直交座標位置ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）で第
４図の原理図のように示すことができる。すなわち、光
源から出力される光線の光軸ＡＬと直交する回転軸ＡＶ
を有するＹ軸操作用のミラーの回転角をθＶとし、上記
Ｙ軸操作用のミラーによる反射光の光軸と上記光線の光
軸とを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸穴〇
を有するＸ軸操作用のミラーの回転角をθχとし、上記
光線の光軸ＡＬと上記Ｘ軸操作用のミラーの回転軸Ａ、
との間の距離をＬｌとし、さらに、上記Ｘ軸操作用のミ
ラーの回転軸Ａ、ｌと上記ＸＹ平面との間の距離をり、
とすると、上記光スポットの照射される上記ＸＹ平面上
の座標原点０に対する直交座標位置ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ）
は、上記Ｘ軸操作用のミラーの反射角θ８＝０の場合、
ｄｘ＝０ ｄｙ＝Ｌ１ｔａｎθＹ＋ Ｌ１ｔａｎθＶとなり、また
、上記Ｘ軸操作用のミラーの反射角θ８を固定とし、Ｙ
軸操作用のミラーの反射角θＹを変化させた場合、 ｄｘ＝Ｌｚ−ｔａｎθＸ ”’第３式％式％ ・・・第４式 となる。
これは、上記第４図の原理図に斜線を施して示す上記Ｘ
軸操作用のミラーの反射角θ８−〇のときの三角形（ａ
、ｂ、ｃ）が、上記回転軸ＡＭを中心に反射角θ、だけ
回転するために、第５図に示すように、ＸＹ平面への到
達距離がＬ２よりも長いＬ２°になるためである。
軸操作用のミラーの反射角θ８−〇のときの三角形（ａ
、ｂ、ｃ）が、上記回転軸ＡＭを中心に反射角θ、だけ
回転するために、第５図に示すように、ＸＹ平面への到
達距離がＬ２よりも長いＬ２°になるためである。
したがって、上記Ｙ軸操作用のミラーの回転により、上
記ＸＹ平面上で上記光スポットをＹ軸方向に直線的に移
動させることができるが、上記Ｘ軸操作用のミラーを回
転させて、上記ＸＹ平面上でＸ軸方向に移動させと、上
記座標原点Ｏを通過するＸ軸上以外で上記光スポットを
移動させた場合に直線的に移動せず、その移動軌跡が円
弧を描く糸巻状の歪が発生する。
記ＸＹ平面上で上記光スポットをＹ軸方向に直線的に移
動させることができるが、上記Ｘ軸操作用のミラーを回
転させて、上記ＸＹ平面上でＸ軸方向に移動させと、上
記座標原点Ｏを通過するＸ軸上以外で上記光スポットを
移動させた場合に直線的に移動せず、その移動軌跡が円
弧を描く糸巻状の歪が発生する。
本発明に係る位置指示装置において、変換手段は、入力
手段により入力される基板上の座標値（ｘ、ｙ）から上
記ＸＹ平面上の原点０位置に対する直交座標値ＸＹ（ｄ
ｘ、ｄｙ）を求め、上記直交座標位置ＸＹ （ｄｘ、ｄ
ｙ）を示す上記第３式および第４式から得られる ｄｘ θＸ＝ｔａｎ−’ Ｌ。
手段により入力される基板上の座標値（ｘ、ｙ）から上
記ＸＹ平面上の原点０位置に対する直交座標値ＸＹ（ｄ
ｘ、ｄｙ）を求め、上記直交座標位置ＸＹ （ｄｘ、ｄ
ｙ）を示す上記第３式および第４式から得られる ｄｘ θＸ＝ｔａｎ−’ Ｌ。
なる変換式すなわち上述の第１式および第２式にて、上
記直交座標値ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用の
ミラーの反射角θ、および上記Ｙ軸操作用のミラーの反
射角θ、を示す回転制御データに変換する。
記直交座標値ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用の
ミラーの反射角θ、および上記Ｙ軸操作用のミラーの反
射角θ、を示す回転制御データに変換する。
そして、制御手段は、上記変換手段にて得られる回転制
御データに基づいて上記各ミラーの回転角度を制御する
。
御データに基づいて上記各ミラーの回転角度を制御する
。
なお、上記各ミラーの回転角と反射角との関係は、
θ、壬２・θ、゛
θ、＝２・θ、゛
にて示すことができる。
Ｇ 実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら詳
細に説明する。
細に説明する。
本発明を適用したマウントロケータの制御系の構成を第
１図のブロック図に示し、また、機械的な構成を第２図
の外観斜視図に示しである。
１図のブロック図に示し、また、機械的な構成を第２図
の外観斜視図に示しである。
この実施例のマウントロケータは、第２図に示すように
、下部ベース１に設けた取り付は枠２に取り付けた基Ｆ
ｉｓ上の部品位置を光学的に指示するもので、上記下部
ベース１に立設された支柱４の上端部分に設けた上部ベ
ース５上に位置指示用の光５６として）Ｉｅ−Ｎｅレー
ザ光源が設けられているともに、上記光源６から出力さ
れるレーザ光線を反射するＹ軸操作用のミラー７が上記
レーザ光線の光軸ＡＬと直交する回転軸に取り付けられ
たステッピングモータ８と、上記Ｙ軸操作用のミラー７
による反射光を反射して上記基板３上に照射するＸ軸操
作用のミラー９が上記Ｙ軸操作用のミラー７による反射
光の光軸と上記光源６から出力されるレーザ光線の光軸
ＡＬとを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸に
取り付けられたステッピングモータ１０とが上記上部ベ
ース５上に配設されている。
、下部ベース１に設けた取り付は枠２に取り付けた基Ｆ
ｉｓ上の部品位置を光学的に指示するもので、上記下部
ベース１に立設された支柱４の上端部分に設けた上部ベ
ース５上に位置指示用の光５６として）Ｉｅ−Ｎｅレー
ザ光源が設けられているともに、上記光源６から出力さ
れるレーザ光線を反射するＹ軸操作用のミラー７が上記
レーザ光線の光軸ＡＬと直交する回転軸に取り付けられ
たステッピングモータ８と、上記Ｙ軸操作用のミラー７
による反射光を反射して上記基板３上に照射するＸ軸操
作用のミラー９が上記Ｙ軸操作用のミラー７による反射
光の光軸と上記光源６から出力されるレーザ光線の光軸
ＡＬとを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸に
取り付けられたステッピングモータ１０とが上記上部ベ
ース５上に配設されている。
また、このマウントロケータは、第１図に示すように、
上記基板３上の位置の所望の位置の座標値（ｘ、 ｙ
）を入力する座標入力部１１と、上記座標入力部１１に
て入力される上記基板３上の座標値（ｘ、ｙ）から、こ
の装置の基準となるＸＹ平面上の原点０位置に対する直
交座標値ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を求め、直交座標値ＸＹ
（ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用のミラー９の反射角
θ、および上記Ｙ軸操作用のミラー８の反射角θ、を示
す制御データに変換する第１の変換処理部１２と、この
第１の変換処理部１２にて得られる制御データを上記各
反射角θ８．θ７に対応する上記各ステッピングモータ
１０．９の各ステップパルス数データに変換する第２の
変換処理部１３と、この第２の変換処理部１３にて得ら
れる上記各ステップパルス数データを記憶しておくメモ
リ部１４と、このメモリ部１°４から上記ステップパル
ス数デー夕を読み出して上記各ステッピングモータ１０
゜９の各駆動回路１７．１６に供給する駆動制御部１５
等にて構成されている。
上記基板３上の位置の所望の位置の座標値（ｘ、 ｙ
）を入力する座標入力部１１と、上記座標入力部１１に
て入力される上記基板３上の座標値（ｘ、ｙ）から、こ
の装置の基準となるＸＹ平面上の原点０位置に対する直
交座標値ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を求め、直交座標値ＸＹ
（ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用のミラー９の反射角
θ、および上記Ｙ軸操作用のミラー８の反射角θ、を示
す制御データに変換する第１の変換処理部１２と、この
第１の変換処理部１２にて得られる制御データを上記各
反射角θ８．θ７に対応する上記各ステッピングモータ
１０．９の各ステップパルス数データに変換する第２の
変換処理部１３と、この第２の変換処理部１３にて得ら
れる上記各ステップパルス数データを記憶しておくメモ
リ部１４と、このメモリ部１°４から上記ステップパル
ス数デー夕を読み出して上記各ステッピングモータ１０
゜９の各駆動回路１７．１６に供給する駆動制御部１５
等にて構成されている。
このマウントロケータは、第３図の原理図に示しである
ように、上記下部ベース１に設けた取り付は枠２に取り
付けた基板３上の部品位置を示す位置データとして、上
記基Ｖｉ３の位置基準穴３Ｐを基板原点ｐとする座標値
（ｘ、ｙ）が上記座標入力部１１にて入力されるように
なっている。
ように、上記下部ベース１に設けた取り付は枠２に取り
付けた基板３上の部品位置を示す位置データとして、上
記基Ｖｉ３の位置基準穴３Ｐを基板原点ｐとする座標値
（ｘ、ｙ）が上記座標入力部１１にて入力されるように
なっている。
ここで、この実施例において、上記Ｙ軸操作用のミラー
７は、上記光源６から出力されるレーザ光線の光軸Ａｔ
と直交する回転軸ＡＶを°有しており、その反射角をθ
、とし、また、上記Ｘ軸操作用のミラー９は、上記Ｙ軸
操作用のミラー７による反射光の光軸と上記光線の光軸
とを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸Ａ、を
有しており、その回転角をθ８とする。さらに、上記光
線の光軸ＡＬと上記Ｘ軸操作用のミラー９の回転軸Ａや
との間の距離をＬｌとし、上記Ｘ軸操作用のミラー９の
回転軸Ａｌｌと上記ＸＹ平面との間の距離をＬ！とじ、
さらに、上記ＸＹ平面上の指示原点０から上記取り付は
枠２との距離をり、とする。
７は、上記光源６から出力されるレーザ光線の光軸Ａｔ
と直交する回転軸ＡＶを°有しており、その反射角をθ
、とし、また、上記Ｘ軸操作用のミラー９は、上記Ｙ軸
操作用のミラー７による反射光の光軸と上記光線の光軸
とを含む平面に該光線の光軸ＡＬと平行な回転軸Ａ、を
有しており、その回転角をθ８とする。さらに、上記光
線の光軸ＡＬと上記Ｘ軸操作用のミラー９の回転軸Ａや
との間の距離をＬｌとし、上記Ｘ軸操作用のミラー９の
回転軸Ａｌｌと上記ＸＹ平面との間の距離をＬ！とじ、
さらに、上記ＸＹ平面上の指示原点０から上記取り付は
枠２との距離をり、とする。
またさらに、上記ＸＹ平面の原点０は、上記基板原点ｐ
とする座標値（Δχ、Δｙ）にて与えられるちとする。
とする座標値（Δχ、Δｙ）にて与えられるちとする。
さらにまた、上記基Ｆｉ３の厚みをＬとする。
上記第１の変換処理部１２は、上記座標入力部１１にて
入力される座標値（ｘ、ｙ）を上記ＸＹ平面の原点Ｏに
対する直交座標値ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ） ｄｘ＝ｘ−ΔＸ ａｙ−３’−ａｙ を求め、さらに、 Ｌ、−Ｌ ・・・第６式 なる第５式および第６式の変換式にて、上記直交座標値
ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用のミラー９の反
射角θ８および上記Ｙ軸操作用のミラー７の反射角θ、
を示す回転制御データに変換する。
入力される座標値（ｘ、ｙ）を上記ＸＹ平面の原点Ｏに
対する直交座標値ＸＹ（ｄｘ、ｄｙ） ｄｘ＝ｘ−ΔＸ ａｙ−３’−ａｙ を求め、さらに、 Ｌ、−Ｌ ・・・第６式 なる第５式および第６式の変換式にて、上記直交座標値
ＸＹ （ｄｘ、ｄｙ）を上記Ｘ軸操作用のミラー９の反
射角θ８および上記Ｙ軸操作用のミラー７の反射角θ、
を示す回転制御データに変換する。
上記第２の変換処理部１３は、上記第１の変換処理部１
２にて得られる上記各ミラー９．７の反射角θ８．θ７
を示す制御データから、Ｐ、＝θＸ／２α ＰＶ＝θ７／２α にて、上記反射角θ８．θ、に上記各ミラー９゜７を設
定するための回転角度に対応する上記各ステッピングモ
ータ１０．８のステップパルス数データＰ、、Ｐ、に変
換する。ここで、上記αは、上記各ステップモータｔＯ
，Ｓの分解能を示している。
２にて得られる上記各ミラー９．７の反射角θ８．θ７
を示す制御データから、Ｐ、＝θＸ／２α ＰＶ＝θ７／２α にて、上記反射角θ８．θ、に上記各ミラー９゜７を設
定するための回転角度に対応する上記各ステッピングモ
ータ１０．８のステップパルス数データＰ、、Ｐ、に変
換する。ここで、上記αは、上記各ステップモータｔＯ
，Ｓの分解能を示している。
上記メモリ部１４には、上記座標入力部１１にて入力さ
れる上記基板３の位置基準穴３Ｐを基板原点ｐとする座
標値（ｘ、 ｙ）について、上記第１の変換処理部１
２にて、ＸＹ平面上の原点０位置に対する直交座標値Ｘ
Ｙ （ｄ ｘ、ｄ ｙ）を求め、この直交座標値ＸＹ（
ｄｘ、ｄｙ）を上記第５式および第６式の変換式にて上
記各ミラー９７の各反射角θえ、θ７を示す回転制御デ
ータに変換し、さらに、上記第２の変換処理部１３にて
上記各反射角θ、、θ７を示す回転制御データを変換し
た上記各ステッピングモータ１０，８のステップパルス
数データＰ、、Ｐｖが記憶される。
れる上記基板３の位置基準穴３Ｐを基板原点ｐとする座
標値（ｘ、 ｙ）について、上記第１の変換処理部１
２にて、ＸＹ平面上の原点０位置に対する直交座標値Ｘ
Ｙ （ｄ ｘ、ｄ ｙ）を求め、この直交座標値ＸＹ（
ｄｘ、ｄｙ）を上記第５式および第６式の変換式にて上
記各ミラー９７の各反射角θえ、θ７を示す回転制御デ
ータに変換し、さらに、上記第２の変換処理部１３にて
上記各反射角θ、、θ７を示す回転制御データを変換し
た上記各ステッピングモータ１０，８のステップパルス
数データＰ、、Ｐｖが記憶される。
上記駆動制御部１５は、上記メモリ部１４に記憶された
上記ステップパルス数データＰｗ、Ｐｖを読み出して上
記各駆動回路１７．１６に供給し、上記駆動回路１７．
１６より上記データＰ、、Ｐｖにて示されるステップパ
ルス数の各駆動パルスで上記各ステッピングモータ１０
，８を駆動することにより、上記各ミラー９．７の回転
角度を制御して各反射角θ８．θ７を設定する。
上記ステップパルス数データＰｗ、Ｐｖを読み出して上
記各駆動回路１７．１６に供給し、上記駆動回路１７．
１６より上記データＰ、、Ｐｖにて示されるステップパ
ルス数の各駆動パルスで上記各ステッピングモータ１０
，８を駆動することにより、上記各ミラー９．７の回転
角度を制御して各反射角θ８．θ７を設定する。
このようにして、上記各ミラー９．７の各反射角θつ、
θ、を設定することにより、上記光源６から出力される
レーザ光線は、上記各ミラー７゜９にて順次反射されて
、上記座標入力部１１にて入力された座標値（ｘ、ｙ）
−にて示される上記基板３上の部品挿入位置を照射指示
する。上記各ミラー７．９にて順次反射されて上記基板
３上に照射されるレーザ光線の光スポットは、上述の第
１の変換処理部１１による変換処理にて光学系における
糸巻状の歪が補正されており、上記座標人力部１１にて
入力される座標値（ｘ、 ｙ）にて示される部品挿入
位置を正確に指示することができる。
θ、を設定することにより、上記光源６から出力される
レーザ光線は、上記各ミラー７゜９にて順次反射されて
、上記座標入力部１１にて入力された座標値（ｘ、ｙ）
−にて示される上記基板３上の部品挿入位置を照射指示
する。上記各ミラー７．９にて順次反射されて上記基板
３上に照射されるレーザ光線の光スポットは、上述の第
１の変換処理部１１による変換処理にて光学系における
糸巻状の歪が補正されており、上記座標人力部１１にて
入力される座標値（ｘ、 ｙ）にて示される部品挿入
位置を正確に指示することができる。
そして、この実施例のマウントロケータでは、上記ステ
ップパルス数データＰ、、ＰＹをマウントロケータプロ
グラムのＸＹデータとして上記メモリ部１４に記憶する
ことによりプログラム作成を行うことができ、プログラ
ムされた上記ステップパルス数データＰｘ、Ｐｖを上記
メモリ部１４から順次に読み出して、基板３上の部品挿
入位置を上記プログラムに従って順次に指示することが
できる。
ップパルス数データＰ、、ＰＹをマウントロケータプロ
グラムのＸＹデータとして上記メモリ部１４に記憶する
ことによりプログラム作成を行うことができ、プログラ
ムされた上記ステップパルス数データＰｘ、Ｐｖを上記
メモリ部１４から順次に読み出して、基板３上の部品挿
入位置を上記プログラムに従って順次に指示することが
できる。
Ｈ発明の効果
本発明に係る位置指示装置では、入力手段にて入力され
る基板上の所望の位置を示す座標値（ｘ。
る基板上の所望の位置を示す座標値（ｘ。
ｙ）が、変換手段において、光源から出力される光線を
ＸＹ平面上の基板に導くための光学系の各ミラーの各反
射角θ８．θ、を示す回転制御データに変換される。上
記変換手段は、上述の第１式および第２式にて示される
変換式にて、上記座標値（ｘ、 ｙ）を上記各ミラー
の各反射角θ８．θ７に変換することにより、上記光学
系において発生する糸巻状の歪を補正した状態の各反射
角θに。
ＸＹ平面上の基板に導くための光学系の各ミラーの各反
射角θ８．θ、を示す回転制御データに変換される。上
記変換手段は、上述の第１式および第２式にて示される
変換式にて、上記座標値（ｘ、 ｙ）を上記各ミラー
の各反射角θ８．θ７に変換することにより、上記光学
系において発生する糸巻状の歪を補正した状態の各反射
角θに。
θ、を示す回転制御データを与える。
従って、上記変換手段にて得られる回転制御ｎデータに
基づいて制御手段にて上記各ミラーの回転角度を制御す
ることにより、光源から出力される光線を上記各ミラー
で順次反射して基板上に照射される光スボントにて、上
記入力手段にて入力される座標値（ｘ、ｙ）にて示され
る上記基板上の所望の位置を上記光学系における糸巻状
の歪による誤差を伴うことなく極めて正確に指示するこ
とができる。
基づいて制御手段にて上記各ミラーの回転角度を制御す
ることにより、光源から出力される光線を上記各ミラー
で順次反射して基板上に照射される光スボントにて、上
記入力手段にて入力される座標値（ｘ、ｙ）にて示され
る上記基板上の所望の位置を上記光学系における糸巻状
の歪による誤差を伴うことなく極めて正確に指示するこ
とができる。
このように、本発明に係る位置指示装置では、上記光学
系における糸巻状の歪による誤差を補正する機能を備え
ているので、マウントロケータ等プログラム作成を行う
ことができる。しかも、そのプログラムデータは、本発
明に係る位置指示装置間で互換性をもたせることができ
る。
系における糸巻状の歪による誤差を補正する機能を備え
ているので、マウントロケータ等プログラム作成を行う
ことができる。しかも、そのプログラムデータは、本発
明に係る位置指示装置間で互換性をもたせることができ
る。
第１図は本発明を適用したマウントロケータの一夕の動
作原理を説明するための原理図、第４図は本発明が適用
される位置指示装置の光学系において発生する糸巻状の
歪の発生プロセスを解析した原理図、第５図は上記第４
図の一部展開図、第６図は従来の位置指示装置の外観斜
視図、第７図は上記従来の位置指示装置の光学系におい
て発生する糸巻状の歪を示す模式図である。 （３）・・・・・・・・・・・基板 （６）・・・・・・・・・・・光源 （７） 、 （９）・・・・・・・ ミラー（８）、（
１０） ・・、・・・・ （１１）・・・・・・・・・・ （１２）、 （１３）・・・・・・ （１４）・・・・・・・・・・ （１５）・・・・・・・・・・ （１６）、 （１７）・・・・・・ ステッピングモータ 座標人力部 変換処理部 メモリ部 駆動制御部 駆動部
作原理を説明するための原理図、第４図は本発明が適用
される位置指示装置の光学系において発生する糸巻状の
歪の発生プロセスを解析した原理図、第５図は上記第４
図の一部展開図、第６図は従来の位置指示装置の外観斜
視図、第７図は上記従来の位置指示装置の光学系におい
て発生する糸巻状の歪を示す模式図である。 （３）・・・・・・・・・・・基板 （６）・・・・・・・・・・・光源 （７） 、 （９）・・・・・・・ ミラー（８）、（
１０） ・・、・・・・ （１１）・・・・・・・・・・ （１２）、 （１３）・・・・・・ （１４）・・・・・・・・・・ （１５）・・・・・・・・・・ （１６）、 （１７）・・・・・・ ステッピングモータ 座標人力部 変換処理部 メモリ部 駆動制御部 駆動部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光源から出力される光線を該光線の光軸と直交する回転
軸を有するＹ軸操作用のミラーにて反射し、上記Ｙ軸操
作用のミラーによる反射光を該反射光の光軸と上記光線
の光軸とを含む平面に該光線の光軸と平行な回転軸を有
するＸ軸操作用のミラーにて反射して、上記Ｘ軸操作用
のミラーによる反射光を上記平面と平行なＸＹ平面上の
基板に導き、上記基板上の任意の位置を指示するように
した位置指示装置において、 上記基板上の位置の所望の位置の座標値（ｘ，ｙ）を入
力する入力手段と、 上記基板上の座標値（ｘ，ｙ）から上記ＸＹ平面上の原
点Ｏ位置に対する直交座標値ＸＹ（ｄｘ，ｄｙ）を求め
、上記光源から出力される光線の光軸と上記Ｘ軸操作用
のミラーの回転軸との間の距離Ｌ＿１および該Ｘ軸操作
用のミラーの回転軸と上記平板との間の距離Ｌ＿２に基
づいて、 θ＿ｘ＝ｔａｎ＾−＾１（ｄｘ／Ｌ＿２）…第１式θ＿
ｙ＝ｔａｎ＾−＾１［ｄｙ／｛Ｌ＿１＋√（Ｌ＿２＾２
＋ｄｘ＾２）｝］…第２式 なる変換式にて、上記直交座標値ＸＹ（ｄｘ，ｄｙ）を
上記Ｘ軸操作用のミラーの反射角θ＿ｘおよび上記Ｙ軸
操作用のミラーの反射角θ＿ｙを示す回転制御データに
変換する変換手段と、 上記変換手段にて得られる回転制御データに基づいて上
記各ミラーの回転角度を制御する制御手段とを設けたこ
とを特徴とする位置指示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1180854A JPH0345919A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 位置指示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1180854A JPH0345919A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 位置指示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0345919A true JPH0345919A (ja) | 1991-02-27 |
Family
ID=16090523
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1180854A Pending JPH0345919A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 位置指示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0345919A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE38025E1 (en) | 1991-02-22 | 2003-03-11 | Cyberoptics Corporation | High precision component alignment sensor system |
-
1989
- 1989-07-13 JP JP1180854A patent/JPH0345919A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE38025E1 (en) | 1991-02-22 | 2003-03-11 | Cyberoptics Corporation | High precision component alignment sensor system |
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