JPH0345580A - 陶器瓦用釉薬及び陶器瓦の製造方法 - Google Patents
陶器瓦用釉薬及び陶器瓦の製造方法Info
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- JPH0345580A JPH0345580A JP18001889A JP18001889A JPH0345580A JP H0345580 A JPH0345580 A JP H0345580A JP 18001889 A JP18001889 A JP 18001889A JP 18001889 A JP18001889 A JP 18001889A JP H0345580 A JPH0345580 A JP H0345580A
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Landscapes
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、瓦表面に質量感のあるザラ感やイラボ、鮫肌
、縮緬(ちぢみ)、シぼ等積々な凹凸を現出し且つ任意
の色に仕上げる新規な釉薬、及び該釉薬を用いて陶器瓦
を製造する新規な方法に関する。
、縮緬(ちぢみ)、シぼ等積々な凹凸を現出し且つ任意
の色に仕上げる新規な釉薬、及び該釉薬を用いて陶器瓦
を製造する新規な方法に関する。
[従来の技術]
現在市販されている陶器瓦の紬調は、色彩的には豊富で
あるが一般的に平面的な仕上がり効果しかない。即ち、
陶器瓦は釉薬の主成分たる珪酸(シリカ)とアルミナが
加熱溶融してガラス状表面をなすのが大きな特徴であり
、アルミナ・シリカバランスがアルミナ側に寄った艶消
し釉もガラス状平面をなす。ただ、銀黒等結晶釉のもの
は一部「ザラ感」を示すが、これは着色剤等による特異
的な作用の結果物であり、他の任意の色調のものに応用
することはできない。
あるが一般的に平面的な仕上がり効果しかない。即ち、
陶器瓦は釉薬の主成分たる珪酸(シリカ)とアルミナが
加熱溶融してガラス状表面をなすのが大きな特徴であり
、アルミナ・シリカバランスがアルミナ側に寄った艶消
し釉もガラス状平面をなす。ただ、銀黒等結晶釉のもの
は一部「ザラ感」を示すが、これは着色剤等による特異
的な作用の結果物であり、他の任意の色調のものに応用
することはできない。
ところで、陶芸の分野では「イラポ」と言う凹凸を現出
する技法がある。これは鉄分の多い小石混じりの荒い素
地に釉を薄くかけたもので、ロクロ跡が際立っており、
小石が爆ぜて釉面が荒れた紬調を示し、突条や玉の形に
隆起して雅趣に富んだ外観を与える。しかし、この技法
は釉を厚塗りすると流れるし、釉の厚みにより色が変わ
り一定の色を出すことが困難で、瓦のように画一的な工
業製品には利用できないものである。
する技法がある。これは鉄分の多い小石混じりの荒い素
地に釉を薄くかけたもので、ロクロ跡が際立っており、
小石が爆ぜて釉面が荒れた紬調を示し、突条や玉の形に
隆起して雅趣に富んだ外観を与える。しかし、この技法
は釉を厚塗りすると流れるし、釉の厚みにより色が変わ
り一定の色を出すことが困難で、瓦のように画一的な工
業製品には利用できないものである。
一方、建築の世界においては、保守的な中にも従来にな
かった様々なデザイン・外観や機能を備えた素材を求め
る動きが近来特に大きくなってきている。この動きは瓦
に対しても同様であり、軽量化、安定化、安全化、防水
の完全性算機能面はもとより、形状、色調、外観におい
て新規なものが求められている。
かった様々なデザイン・外観や機能を備えた素材を求め
る動きが近来特に大きくなってきている。この動きは瓦
に対しても同様であり、軽量化、安定化、安全化、防水
の完全性算機能面はもとより、形状、色調、外観におい
て新規なものが求められている。
・[発明が解決しようとする課題]
本発明は上記要請に基づいてなされたもので、陶器瓦(
袖瓦)の表面に質量窓のあるザラ感やイラポ様、鮫肌模
様、縮緬、しぼその他種々な凹凸模様を任意の色調の釉
により現出することにより、従来見られなかった外観の
陶器瓦を提供することを目的とする。
袖瓦)の表面に質量窓のあるザラ感やイラポ様、鮫肌模
様、縮緬、しぼその他種々な凹凸模様を任意の色調の釉
により現出することにより、従来見られなかった外観の
陶器瓦を提供することを目的とする。
ところで、陶器瓦の表面にザラ感や凹凸を表わす技術は
前記結晶軸以外に従来から幾つか提案されている。例え
ば、瓦表面に第一の塗装膜層を形威しこの塗装膜層上に
固体粒子を付着させ、その上から第二の塗装膜層を形成
するものく実開昭54−210)や、瓦表面に釉薬を吹
付て無数の点状隆起模様を設け、その間の素面に透明な
極薄のガラス質被膜を形成するもの(実公昭60−12
8■7)等がある。これらはいずれも色調に限定はない
が、単に表面に凸部や隆起模様が散在しているに過ぎず
、単調で凹凸状態に変化がない。しかも、いずれも製造
に手間がかかり、且つ均一な製品を大量に製造すること
は困難であった。
前記結晶軸以外に従来から幾つか提案されている。例え
ば、瓦表面に第一の塗装膜層を形威しこの塗装膜層上に
固体粒子を付着させ、その上から第二の塗装膜層を形成
するものく実開昭54−210)や、瓦表面に釉薬を吹
付て無数の点状隆起模様を設け、その間の素面に透明な
極薄のガラス質被膜を形成するもの(実公昭60−12
8■7)等がある。これらはいずれも色調に限定はない
が、単に表面に凸部や隆起模様が散在しているに過ぎず
、単調で凹凸状態に変化がない。しかも、いずれも製造
に手間がかかり、且つ均一な製品を大量に製造すること
は困難であった。
また、陶器瓦の素材表面に当初から細かな凹凸を形成し
たものを用いたところ、凹凸が微細であればfm薬に覆
われて平滑になり従来品との差は見られないし、大きい
凹凸では頂部に釉薬が殆ど付着せずその周囲に釉薬が集
中してリング模様を作り、極めて見栄えの悪いものにな
った。
たものを用いたところ、凹凸が微細であればfm薬に覆
われて平滑になり従来品との差は見られないし、大きい
凹凸では頂部に釉薬が殆ど付着せずその周囲に釉薬が集
中してリング模様を作り、極めて見栄えの悪いものにな
った。
そこで、釉薬中に凹凸形成素材として各種の無機材料の
粒状物を混入し、これを施釉して焼成したみたが、粒状
物の種類や粒度によっては釉自体或いは焼成結果に種々
な問題が生した。
粒状物を混入し、これを施釉して焼成したみたが、粒状
物の種類や粒度によっては釉自体或いは焼成結果に種々
な問題が生した。
即ち、粒状物として焼成瓦の破砕粉末(シャモット)を
用いた場合、フジッボのようなハジケを生しく発泡現象
)、商品価値のないものが得られ易い。これは、シャモ
ットに含まれる空気に起因するとも思われるが、外観が
悪い上にこのギザギザの凹凸部に汚れが定着しやすい欠
点がある。その他塗布むらが生し易いとか、シャモー/
)を製造する為に余分なコストがかかる等の欠点もあ
った。
用いた場合、フジッボのようなハジケを生しく発泡現象
)、商品価値のないものが得られ易い。これは、シャモ
ットに含まれる空気に起因するとも思われるが、外観が
悪い上にこのギザギザの凹凸部に汚れが定着しやすい欠
点がある。その他塗布むらが生し易いとか、シャモー/
)を製造する為に余分なコストがかかる等の欠点もあ
った。
また、アルカリ (Na、に、Ca等の塩基性成分やA
Iりをある程度以上含む?!!細な破砕品にあっては、
これらが釉成分となって反応するため軸式バランスを崩
し、従来の釉薬調合物にそのまま混合すると、所定の焼
成温度では良好な焼成結果が得られなくなる。また金属
を含む場合には釉の色調も変化する。そのため、混入す
る粒状物の素材、粒度その他に応して個々に新たな釉薬
調合物を開発する手間がかかり、場合によっては釉薬と
して使いものにならないケースも生じる。また、微細な
破砕品を得るために余分なコストがかかる欠点もある。
Iりをある程度以上含む?!!細な破砕品にあっては、
これらが釉成分となって反応するため軸式バランスを崩
し、従来の釉薬調合物にそのまま混合すると、所定の焼
成温度では良好な焼成結果が得られなくなる。また金属
を含む場合には釉の色調も変化する。そのため、混入す
る粒状物の素材、粒度その他に応して個々に新たな釉薬
調合物を開発する手間がかかり、場合によっては釉薬と
して使いものにならないケースも生じる。また、微細な
破砕品を得るために余分なコストがかかる欠点もある。
これに対し、殆ど純粋なシリカからなる珪砂は熔融温度
が高く、釉焼底温度(1150〜1250℃)程度では
殆ど熔融しないため、釉薬調合物のアルミナ・シリカバ
ランスを崩すおそれもあまりない。従って、従来用いら
れている釉薬にそのまま混入して使用できる。
が高く、釉焼底温度(1150〜1250℃)程度では
殆ど熔融しないため、釉薬調合物のアルミナ・シリカバ
ランスを崩すおそれもあまりない。従って、従来用いら
れている釉薬にそのまま混入して使用できる。
但し、珪砂も産地によってはシリカ以外にNaやAJを
含むものも多い。これらは、耐火度(溶融温度)が低く
釉薬成分、との反応も起こすので、できるだけ不純物の
少ない珪砂を選ぶことが好ましい。
含むものも多い。これらは、耐火度(溶融温度)が低く
釉薬成分、との反応も起こすので、できるだけ不純物の
少ない珪砂を選ぶことが好ましい。
更に、珪砂に限らず粒状物全般に言えることであるが、
混入した粒状物は沈降して釉薬の均一な塗布を阻害する
。即ち、普通に調整した釉薬に比重の大きな粒状物を混
合しただけでは保管時や施釉機内で確実に沈降(沈澱)
を起こし、作業性が悪くなるだけでなく装置の故障の原
因となる。また、施釉(浸漬或いは掛は流しによる塗布
)時に粒状物が瓦面上で下方へ移動してムラやバラツキ
を生し、目的とする紬調が得られなくなる。特に、珪砂
は比重が大きいためこれらの程度が甚だしい。
混入した粒状物は沈降して釉薬の均一な塗布を阻害する
。即ち、普通に調整した釉薬に比重の大きな粒状物を混
合しただけでは保管時や施釉機内で確実に沈降(沈澱)
を起こし、作業性が悪くなるだけでなく装置の故障の原
因となる。また、施釉(浸漬或いは掛は流しによる塗布
)時に粒状物が瓦面上で下方へ移動してムラやバラツキ
を生し、目的とする紬調が得られなくなる。特に、珪砂
は比重が大きいためこれらの程度が甚だしい。
かといって、むやみに釉薬の粘度を増大させれば施釉機
での攪拌が十分できず、また流動性を失って施釉不能に
陥る。
での攪拌が十分できず、また流動性を失って施釉不能に
陥る。
[課題を解決するための手段]
そこで、本発明者は更に研究を続け、以下に述べる実験
に基づいて上記欠点がなく各種の釉薬がそのまま利用で
き、しかも任意の色調で表面状態に様々な変化を与える
釉薬を開発した。即ち本発明は、通常の釉薬に凹凸形成
材料として珪砂、より好ましくはシリカ純度の高い珪砂
を種々な割合で混入し、且つ珪砂の粒度(粒度分布)ご
とに最適な粘度を決定して完成したものである。
に基づいて上記欠点がなく各種の釉薬がそのまま利用で
き、しかも任意の色調で表面状態に様々な変化を与える
釉薬を開発した。即ち本発明は、通常の釉薬に凹凸形成
材料として珪砂、より好ましくはシリカ純度の高い珪砂
を種々な割合で混入し、且つ珪砂の粒度(粒度分布)ご
とに最適な粘度を決定して完成したものである。
(実験)
珪砂として、鋳型用珪砂を用いた。粒度は、35号(1
8〜70メツシユ、主として36〜30メ・7シユ)、
48号(36〜140メツシユ、主として50〜70メ
ツシユ)、65号(50〜281メソシユ、主として5
0〜145メソシユ)、■00号(50〜281メツシ
ユ、主として70〜200メツシユ)の4種類を用い、
夫々泥漿中の軸間合物100重量部に対して5.10,
20.30.40及び50重量部混合して釉薬(釉泥漿
〉とした。
8〜70メツシユ、主として36〜30メ・7シユ)、
48号(36〜140メツシユ、主として50〜70メ
ツシユ)、65号(50〜281メソシユ、主として5
0〜145メソシユ)、■00号(50〜281メツシ
ユ、主として70〜200メツシユ)の4種類を用い、
夫々泥漿中の軸間合物100重量部に対して5.10,
20.30.40及び50重量部混合して釉薬(釉泥漿
〉とした。
尚、本発明で釉調合物とは長石その他釉薬素材鉱物の粉
砕品混合物を言う。また本発明では泥漿と釉泥漿(釉薬
)を区別し、後者は前者に珪砂を混合したものとして用
いる。即ち、本発明で言う泥漿とは一般に言う釉泥漿(
釉薬)を意味し、これに珪砂を混合したものを釉泥漿(
釉薬)として使用する。モして泥漿としては、焼成温度
が1150〜1250℃程度のものであれば、光沢釉、
マット釉(艶消釉)、結晶軸等殆ど全てのものが使用可
能である。
砕品混合物を言う。また本発明では泥漿と釉泥漿(釉薬
)を区別し、後者は前者に珪砂を混合したものとして用
いる。即ち、本発明で言う泥漿とは一般に言う釉泥漿(
釉薬)を意味し、これに珪砂を混合したものを釉泥漿(
釉薬)として使用する。モして泥漿としては、焼成温度
が1150〜1250℃程度のものであれば、光沢釉、
マット釉(艶消釉)、結晶軸等殆ど全てのものが使用可
能である。
製造の仕方は、釉調合物と所定量の増粘剤とに水を加え
て固形分がほぼ70%になるようにし、ボールミルで湿
式粉砕して泥漿を作る。次いで、この泥漿に所定量の鋳
型用珪砂と水を加えて全体の固形分が所定割合になるよ
うにし、珪砂が粉砕されない程度に十分攪拌混合して行
なう。
て固形分がほぼ70%になるようにし、ボールミルで湿
式粉砕して泥漿を作る。次いで、この泥漿に所定量の鋳
型用珪砂と水を加えて全体の固形分が所定割合になるよ
うにし、珪砂が粉砕されない程度に十分攪拌混合して行
なう。
増粘剤としては、CMCと普通市販のベントナイトを用
いた。CMCは、メーカー粘度表示が700〜1000
CP、1200〜1800CP、2500〜3000C
Pの3種を用いた。そして釉薬の粘度は、CMCとヘン
トナイトの添加量の相関関係から、釉泥漿(釉薬)が一
定期間(10日前後)沈澱を起こさず、施釉が容易であ
る組合せを捜して決定した。
いた。CMCは、メーカー粘度表示が700〜1000
CP、1200〜1800CP、2500〜3000C
Pの3種を用いた。そして釉薬の粘度は、CMCとヘン
トナイトの添加量の相関関係から、釉泥漿(釉薬)が一
定期間(10日前後)沈澱を起こさず、施釉が容易であ
る組合せを捜して決定した。
得られた釉泥IM(釉薬)を、平瓦1枚当たり80g〜
200g程度塗布し、乾燥する。塗布量が80g程度以
下だと釉本来の色が表出できない。
200g程度塗布し、乾燥する。塗布量が80g程度以
下だと釉本来の色が表出できない。
また200g程度を越えると乾燥に時間がかかるしコス
ト高になる。より好ましくは90g〜130g程度であ
る。焼成は、電気炉で1150〜1250 ’Cの試験
焼成を行なった後、稼働中の異なるトンネル窯4本で試
験焼成した。
ト高になる。より好ましくは90g〜130g程度であ
る。焼成は、電気炉で1150〜1250 ’Cの試験
焼成を行なった後、稼働中の異なるトンネル窯4本で試
験焼成した。
(A)100号鋳型用珪砂を用いた場合■釉泥漿の状態
鋳型用珪砂と釉調合物との合計重量に対し、粘度700
〜100OCPのCMCを0.4%(重量%以下同じ)
とベントナイトを4.0%用い、固形分68〜71%の
釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は2500〜3200CP
を示し、沈澱は観察されなかった。
〜100OCPのCMCを0.4%(重量%以下同じ)
とベントナイトを4.0%用い、固形分68〜71%の
釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は2500〜3200CP
を示し、沈澱は観察されなかった。
このような状態が10日間維持され、それ以降わずかず
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
釉泥漿が2500〜3200CPの粘度を示すときには
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
■焼成結果
珪砂の混入割合が5%と10%のものは、凹凸の状態は
疎であり、粒度が小さいため凹凸は余り目立たない。
疎であり、粒度が小さいため凹凸は余り目立たない。
同しく20%と30%のものでは、凹凸が適当な密度で
釉面全体にほぼ均等に配置されていて、目が細かで緻密
なザラ感を示す。
釉面全体にほぼ均等に配置されていて、目が細かで緻密
なザラ感を示す。
同じく40%と50%のものでは、珪砂が重なり合って
凹凸が明瞭でなく、”しぼ”の様な平滑さを欠く釉面を
呈する。
凹凸が明瞭でなく、”しぼ”の様な平滑さを欠く釉面を
呈する。
しかして、三者三様の従来にない紬調のものが得られる
。
。
(B)65号鋳型用珪砂を用いた場合
■釉泥漿の状態
鋳型用珪砂と釉調合物との合計重量に対し、粘度700
〜100OCPのCMCを0.5%(重量%以下同じ)
とベントナイトを5.0%用い、固形分69〜73%の
釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は3100〜3600CP
を示し、沈澱は観察されなかった。
〜100OCPのCMCを0.5%(重量%以下同じ)
とベントナイトを5.0%用い、固形分69〜73%の
釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は3100〜3600CP
を示し、沈澱は観察されなかった。
このような状態が10日間維持され、それ以降わずかず
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
釉泥漿が3100〜3600CPの粘度を示すときには
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
■焼成結果
珪砂の混入割合が5%と10%のものは、凹凸の状態は
疎で、幾分目立つ凹凸を示す。
疎で、幾分目立つ凹凸を示す。
同じく20%と30%のちは、凹凸が適当な密度で釉面
全体にほぼ均等に配置されてとり、幾分荒いザラ感を示
す。
全体にほぼ均等に配置されてとり、幾分荒いザラ感を示
す。
同しく40%と50%のものは、珪砂が重なり合って小
さな凹凸は明瞭でなくなるが、珪砂の重なりあいが別の
大きな凹凸を作る。平滑さを欠く幾分イラボ様の釉面を
呈する。
さな凹凸は明瞭でなくなるが、珪砂の重なりあいが別の
大きな凹凸を作る。平滑さを欠く幾分イラボ様の釉面を
呈する。
しかして、三者三様の従来にない紬調のものが得られる
。
。
(C)48号鋳型用珪砂を用いた場合
■釉泥漿の状態
鋳型用珪砂と釉調合物との合計重量に対し、粘度120
0〜1800CPのCMCを0.5%(重量%以下同じ
)とベントナイトを4.5%用い、固形分71〜73%
の釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は4300〜4600C
Pを示し、沈澱は観察されなかった。
0〜1800CPのCMCを0.5%(重量%以下同じ
)とベントナイトを4.5%用い、固形分71〜73%
の釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は4300〜4600C
Pを示し、沈澱は観察されなかった。
このような状態が10日間維持され、それ以降わずかず
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
釉泥漿が4300〜4600CPの粘度を示すときには
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
■焼成結果
珪砂の混入割合が5%と10%のものは、凹凸の状態は
疎である。凹凸はかなり目立つ。
疎である。凹凸はかなり目立つ。
同しく20%と30%のものは、凹凸が適当な密度で釉
面全体にほぼ均等に配置されており、サメ肌或いは綿様
外観を呈する。
面全体にほぼ均等に配置されており、サメ肌或いは綿様
外観を呈する。
同じく40%と50%のものは、珪砂が重なり合って凹
凸は明瞭でないが、平均粒径の大きさが、他と異なった
イラポ様紬調を示す。
凸は明瞭でないが、平均粒径の大きさが、他と異なった
イラポ様紬調を示す。
しかして、三者三様の従来にない紬調のものが得られる
。
。
(D)35号鋳型用珪砂を用いた場合
■釉泥漿の状態
鋳型用珪砂と釉調合物との合計N量に対し、粘度250
0〜3500CPのCMCを0.4%(重量%以下同じ
)とベントナイトを4.0%用い、固形分71〜73%
の釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は4400〜4700C
Pを示し、沈澱は観察されなかった。
0〜3500CPのCMCを0.4%(重量%以下同じ
)とベントナイトを4.0%用い、固形分71〜73%
の釉泥漿を得た。釉泥漿の粘度は4400〜4700C
Pを示し、沈澱は観察されなかった。
このような状態が10日間維持され、それ以降わずかず
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
つ沈澱を起こし、13〜15日を経過した時点では施釉
が不可能な状態となった。
釉泥漿が4400〜4700CPの粘度を示すときには
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
、施釉作業も通常と変わらない状態で行なうことができ
た。むしろ、珪砂を混合することによってできる施釉面
の凹凸が施釉面上の表面積を増し、釉の乾燥速度が促進
された。
■焼戒結果
珪砂の混入割合が5%と10%のものは、凹凸の状態は
疎であり鮫肌様に目立つ。
疎であり鮫肌様に目立つ。
同しく20%と30%のものは、凹凸が適当な密度で釉
面全体にほぼ均等に配置されており、鮫肌或いは縮緬状
を示す。
面全体にほぼ均等に配置されており、鮫肌或いは縮緬状
を示す。
同じく40%と50%のものは、珪砂が重なり合って小
さな凹凸は明瞭でないが、平均粒径の大きさが他と異な
ったイラボ様紬調を呈する。
さな凹凸は明瞭でないが、平均粒径の大きさが他と異な
ったイラボ様紬調を呈する。
しかして、三者三様の従来にない紬調のものが得られる
。
。
上記実験において珪砂として鋳型用珪砂を用いたが、こ
れは鋳型用珪砂の耐熱温度(熔融温度〉が1通の珪砂に
比べて高く、釉薬焼成温度である1150〜1250℃
程度の範囲では殆ど熔融せず元の形状が保たれることに
よる。また、粒度(粒度分布)がJIS−(、−590
1で10号(ビーク10メソシュ:1680μ、70%
以上が8〜14メソシユのもの)から200号(ビーク
200メソジユニア4μ、70%以上が150〜270
メ・ノシュのもの)までloIG階のものが規定されて
いる。従って、管理が十分で、望みの粒度(粒度分布)
の比較的揃った粒子のものが容易に入手できる利点があ
ることによる。
れは鋳型用珪砂の耐熱温度(熔融温度〉が1通の珪砂に
比べて高く、釉薬焼成温度である1150〜1250℃
程度の範囲では殆ど熔融せず元の形状が保たれることに
よる。また、粒度(粒度分布)がJIS−(、−590
1で10号(ビーク10メソシュ:1680μ、70%
以上が8〜14メソシユのもの)から200号(ビーク
200メソジユニア4μ、70%以上が150〜270
メ・ノシュのもの)までloIG階のものが規定されて
いる。従って、管理が十分で、望みの粒度(粒度分布)
の比較的揃った粒子のものが容易に入手できる利点があ
ることによる。
尚、前記実験では鋳型用珪砂は35号〜100弓のもの
を用いたが、これ以外のもの例えば10号、14号(ビ
ーク14メツシュ:1190μ)、20号(ビーク20
メツシュ:840μ)、28号(ビーク28メソシュ:
590μ)、或いは1soq(ビーク150メツシュ:
105μ)、200号(ビーク100メツジユニア4μ
)なども勿論使用可能である。ただ、粒度があまり大き
いと余程粘度を高くしないと沈降し易いし釉面が汚くな
る虞があるし、あまりに小さ過ぎると凹凸を現出しにく
くなるうえ焼成時に溶融してアルミナ・シリカバランス
を崩す虞があり、35〜100号程度のものがどちらか
と言えば好ましい。
を用いたが、これ以外のもの例えば10号、14号(ビ
ーク14メツシュ:1190μ)、20号(ビーク20
メツシュ:840μ)、28号(ビーク28メソシュ:
590μ)、或いは1soq(ビーク150メツシュ:
105μ)、200号(ビーク100メツジユニア4μ
)なども勿論使用可能である。ただ、粒度があまり大き
いと余程粘度を高くしないと沈降し易いし釉面が汚くな
る虞があるし、あまりに小さ過ぎると凹凸を現出しにく
くなるうえ焼成時に溶融してアルミナ・シリカバランス
を崩す虞があり、35〜100号程度のものがどちらか
と言えば好ましい。
この珪砂の粒度及びそのバラツキ(粒度分布)の程度は
、釉泥漿粘度との関係で極めて重要である。即ち、粒度
の大小によって沈降の度合が異なり、粒度と粘度のバラ
ンスが取れれば比較的長期間(例えば10日前後)安定
であるが、粒度のバラツキが大きいと釉薬内で粒度によ
って階層分離する。また、粒度の大きいものを含む釉薬
は比較的攪拌がしやすいが、そこに粒度の細かなものが
混ざると攪拌しにくくなる。
、釉泥漿粘度との関係で極めて重要である。即ち、粒度
の大小によって沈降の度合が異なり、粒度と粘度のバラ
ンスが取れれば比較的長期間(例えば10日前後)安定
であるが、粒度のバラツキが大きいと釉薬内で粒度によ
って階層分離する。また、粒度の大きいものを含む釉薬
は比較的攪拌がしやすいが、そこに粒度の細かなものが
混ざると攪拌しにくくなる。
もっとも、本発明で用いる珪砂は鋳型用珪砂に限定され
るわけではなく、一般の珪砂も用いうるが、その場合は
出来るだけ不純物が少ないものを選ぶことが望ましい。
るわけではなく、一般の珪砂も用いうるが、その場合は
出来るだけ不純物が少ないものを選ぶことが望ましい。
また粒度を揃えることが望ましい。
尚、本発明に用いる泥漿は、1150℃〜1250℃程
度の温度で焼成できる普通一般の釉薬を意味することは
前記した通りである。この泥漿は、釉調合物に増粘剤と
水を加え湿式粉砕したもので、従来一般に用いられてい
る釉薬、例えば光沢釉(各色)、結晶軸(銀黒〉、マッ
ト釉(各色)等がそのまま用いられる。
度の温度で焼成できる普通一般の釉薬を意味することは
前記した通りである。この泥漿は、釉調合物に増粘剤と
水を加え湿式粉砕したもので、従来一般に用いられてい
る釉薬、例えば光沢釉(各色)、結晶軸(銀黒〉、マッ
ト釉(各色)等がそのまま用いられる。
但し、珪砂の混合割合が多いとか粒度の細かいものが多
く含まれているとか、釉焼底温度が高いとか、珪砂の熔
融温度が低いような場合には、釉薬の化学組成、特にア
ルミナ・シリカのバランスが崩れて釉の発泡やチヂレ現
象が観察されることがある。このような場合には、適宜
量のアルミナ分を添加するとよい。
く含まれているとか、釉焼底温度が高いとか、珪砂の熔
融温度が低いような場合には、釉薬の化学組成、特にア
ルミナ・シリカのバランスが崩れて釉の発泡やチヂレ現
象が観察されることがある。このような場合には、適宜
量のアルミナ分を添加するとよい。
釉調合物に対する珪砂の混合割合は、現出する凹凸模様
にもよるが、釉調合物100重量部に対し5〜50重量
部程度である。5%程度以下だと珪砂がまばらになり釉
面が汚れた感じになり、50%を越えるとまともな施釉
ができなくなる。また、前記実験及び他の実験結果によ
れば20%程度以下では凹凸の状態が疎になり、20〜
40%前後の範囲では凹凸が適当な密度で釉面全体にほ
ぼ均一に配置された状態にり、40〜50%程度では珪
砂の重なりが別の大きな凹凸を作る。従って、珪砂の混
入割合を変えることにより望みの凹凸状態を表出しうる
が、釉面状態を勘案して10〜45%程度が好ましく、
より好ましくは25〜40%程度の範囲のものである。
にもよるが、釉調合物100重量部に対し5〜50重量
部程度である。5%程度以下だと珪砂がまばらになり釉
面が汚れた感じになり、50%を越えるとまともな施釉
ができなくなる。また、前記実験及び他の実験結果によ
れば20%程度以下では凹凸の状態が疎になり、20〜
40%前後の範囲では凹凸が適当な密度で釉面全体にほ
ぼ均一に配置された状態にり、40〜50%程度では珪
砂の重なりが別の大きな凹凸を作る。従って、珪砂の混
入割合を変えることにより望みの凹凸状態を表出しうる
が、釉面状態を勘案して10〜45%程度が好ましく、
より好ましくは25〜40%程度の範囲のものである。
尚、釉泥漿の固形分は釉調合物の種類や珪砂の割合、粒
度等にもよるが、65〜75重量%程度が好ましい。珪
砂を混合しても、釉泥漿(釉薬)の色調はもとの泥漿と
殆ど同じであるところが本発明の特徴である。もっとも
、紬調は珪砂の混合割合、粒度等により種々な凹凸状態
を示し、多面的を効果与えるものである。
度等にもよるが、65〜75重量%程度が好ましい。珪
砂を混合しても、釉泥漿(釉薬)の色調はもとの泥漿と
殆ど同じであるところが本発明の特徴である。もっとも
、紬調は珪砂の混合割合、粒度等により種々な凹凸状態
を示し、多面的を効果与えるものである。
一方、本発明釉薬の粘度や粘稠性は混合する珪砂の粒度
(粒度分布)に応して大きく増加する。
(粒度分布)に応して大きく増加する。
好ましい粘度は、珪砂の粒度や混合割合、釉調合物の種
類等にもよるが、100号〜32号珪砂を用いる場合は
2500〜5000CP程度である。
類等にもよるが、100号〜32号珪砂を用いる場合は
2500〜5000CP程度である。
200号珪砂では2000cp、10号珪砂では6QO
Ocp程度が好適である。
Ocp程度が好適である。
通常一般の釉薬の粘度は、保管時には2000cp程度
のものもあるが、施釉時は殆どが1000cp程度であ
り、本発明釉薬の粘度の高さが際立っていることがわか
る。このように高粘度でも問題なく施釉することができ
るのは驚くべきことである。これは、珪砂粒が施釉時に
泥漿全体を引っ張り下ろす役目をするため、高粘度でも
薄く均一に施釉できることによるものと思われる。
のものもあるが、施釉時は殆どが1000cp程度であ
り、本発明釉薬の粘度の高さが際立っていることがわか
る。このように高粘度でも問題なく施釉することができ
るのは驚くべきことである。これは、珪砂粒が施釉時に
泥漿全体を引っ張り下ろす役目をするため、高粘度でも
薄く均一に施釉できることによるものと思われる。
増粘剤としては、CMCやベントナイト、その他各種の
ものが単独或いは組み合わして用いられる。実験によれ
ばCMCとベントナイトの併用が最も効果があった。こ
れは、CMC0増粘作用とベントナイトの珪砂分散作用
が相乗的に作用したものと思われる。尚、この釉薬(釉
泥漿)は通常の釉薬に比べて若干チキソトロピー現象が
観察されるが、むしろこれが静置状態で珪砂の沈降(沈
澱)を防止に役立っているものと思われる。
ものが単独或いは組み合わして用いられる。実験によれ
ばCMCとベントナイトの併用が最も効果があった。こ
れは、CMC0増粘作用とベントナイトの珪砂分散作用
が相乗的に作用したものと思われる。尚、この釉薬(釉
泥漿)は通常の釉薬に比べて若干チキソトロピー現象が
観察されるが、むしろこれが静置状態で珪砂の沈降(沈
澱)を防止に役立っているものと思われる。
[作用]
各種釉薬に粒度の比較的揃った珪砂を混合し、粒度く粒
度分布〉に応して粘度を2000〜6000cp特に2
500〜5000CP程度、固形分を65〜75%程度
に調整して陶器瓦用の釉薬を得る。
度分布〉に応して粘度を2000〜6000cp特に2
500〜5000CP程度、固形分を65〜75%程度
に調整して陶器瓦用の釉薬を得る。
この釉薬は、殆ど希釈せずに瓦素地に施釉したl&11
50〜1250℃で酸化焼成して、瓦表面に粒状物の粒
度、混合割合に応して様々な凹凸模様と各種任意の色調
の釉面を形成する。
50〜1250℃で酸化焼成して、瓦表面に粒状物の粒
度、混合割合に応して様々な凹凸模様と各種任意の色調
の釉面を形成する。
[実施例コ
次に、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 緑色セミマット釉(100号珪砂)長石、石
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マクネサイト、
蛙目粘土、珪石、酸化銅、酸化コバルト、ルチルを用い
て、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これにCMC(700〜1000C
P) 0.4%、ベントナイl−4%(増粘剤の割合は
、釉調合物と珪砂の合計に対するもの、以下間し、)を
加え、更に固形分70%になるように水を加えて、ボー
ルミルで湿式粉砕して泥漿を得る。この泥漿に、100
号珪砂を軸間合物lOO重量部に対し30部の割合で添
加し、全体の固形分が70%になるように水を追加する
。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行
なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マクネサイト、
蛙目粘土、珪石、酸化銅、酸化コバルト、ルチルを用い
て、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これにCMC(700〜1000C
P) 0.4%、ベントナイl−4%(増粘剤の割合は
、釉調合物と珪砂の合計に対するもの、以下間し、)を
加え、更に固形分70%になるように水を加えて、ボー
ルミルで湿式粉砕して泥漿を得る。この泥漿に、100
号珪砂を軸間合物lOO重量部に対し30部の割合で添
加し、全体の固形分が70%になるように水を追加する
。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行
なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり120gの付着量で
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃
で酸化焼成し、釉面に滑らかな凹凸が生した良好な緑色
セミマット釉瓦を得た。
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃
で酸化焼成し、釉面に滑らかな凹凸が生した良好な緑色
セミマット釉瓦を得た。
而、添加する珪砂中の微粉物が、釉成分に働いて良い状
態のアルミナ・シリカバランスを壊し、釉面に発泡状態
を来すことがある。このような場合には、アルミナを状
態に応して2〜8%(外%:釉調合物100重量部に対
し2〜8重量部)程度添加してバランスの回復をはかる
ことで求める紬調は容易に維持できる。このアルミナの
添加は、以下の各実施例においでも同様である。
態のアルミナ・シリカバランスを壊し、釉面に発泡状態
を来すことがある。このような場合には、アルミナを状
態に応して2〜8%(外%:釉調合物100重量部に対
し2〜8重量部)程度添加してバランスの回復をはかる
ことで求める紬調は容易に維持できる。このアルミナの
添加は、以下の各実施例においでも同様である。
実施例2 灰色セ主マント釉(100号珪砂)長石、石
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マクネサイト、
蛙目粘土、珪石及び灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、実施例1と同様に100号
珪砂を加え同様に処理して灰色セミマ・7ト釉泥漿を得
た。次いでこの釉泥漿を実施例1と同様に桟瓦素地に施
釉乾燥後、焼成して、釉面に滑らかな凹凸が生じた良好
な灰色セミマント袖瓦を得た。
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マクネサイト、
蛙目粘土、珪石及び灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、実施例1と同様に100号
珪砂を加え同様に処理して灰色セミマ・7ト釉泥漿を得
た。次いでこの釉泥漿を実施例1と同様に桟瓦素地に施
釉乾燥後、焼成して、釉面に滑らかな凹凸が生じた良好
な灰色セミマント袖瓦を得た。
実施例3 茶色セミマント釉(100号珪砂)長石、石
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛マクネサ・イト、
蛙目粘土、珪石、及び酸化鉄を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、実施例1と同様に100号
珪砂を加え同様に処理して茶色セミマット釉泥漿を得た
。次いでこの釉泥漿を実施例1と同様に桟瓦素地に施釉
乾燥後、焼成して、釉面に滑らかな凹凸が生じた良好な
茶色セミマット釉瓦を得た。
灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛マクネサ・イト、
蛙目粘土、珪石、及び酸化鉄を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、実施例1と同様に100号
珪砂を加え同様に処理して茶色セミマット釉泥漿を得た
。次いでこの釉泥漿を実施例1と同様に桟瓦素地に施釉
乾燥後、焼成して、釉面に滑らかな凹凸が生じた良好な
茶色セミマット釉瓦を得た。
実施例4 緑色セミマット釉(65号珪砂)実施例1の
釉調合物を用い、これにCMC(700〜1000CP
) 0.5%、ベントナイト5%を加え、更に固形分7
0%になるように水を加えて、ボールミルで湿式粉砕し
て泥漿を得る。この泥漿に、65号珪砂を釉調合物to
oiii部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分
が70%になるように水を追加する。次いで、珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉
薬)を得る。
釉調合物を用い、これにCMC(700〜1000CP
) 0.5%、ベントナイト5%を加え、更に固形分7
0%になるように水を加えて、ボールミルで湿式粉砕し
て泥漿を得る。この泥漿に、65号珪砂を釉調合物to
oiii部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分
が70%になるように水を追加する。次いで、珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉
薬)を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり120gの付着量で
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で開口1230℃で酸
化焼成し、釉面に凹凸が緻密に配置された良好な灰色セ
ミマット釉釉瓦を得た。
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で開口1230℃で酸
化焼成し、釉面に凹凸が緻密に配置された良好な灰色セ
ミマット釉釉瓦を得た。
実施例5 灰色セミマント釉(48号珪砂)実施例2の
釉調合物を用い、これにCMC(1200〜1800C
P) 0.5%、ベントナイト4.5%を加え、更に固
形分70%になるように水を加えて、ボールミルで湿式
粉砕して泥漿を得る。
釉調合物を用い、これにCMC(1200〜1800C
P) 0.5%、ベントナイト4.5%を加え、更に固
形分70%になるように水を加えて、ボールミルで湿式
粉砕して泥漿を得る。
この泥漿に、48号珪砂を釉調合物100重量部に対し
30部の割合で添加し、全体の固形分が70%になるよ
うに水を追加する。次いで:珪砂が粉砕に到らない程度
に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
30部の割合で添加し、全体の固形分が70%になるよ
うに水を追加する。次いで:珪砂が粉砕に到らない程度
に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり120gの付着量で
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃で酸
化焼成し、釉面に凹凸が粗く配置されたザラザラ感のあ
る良好な灰色セ主マット袖瓦を得た。
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃で酸
化焼成し、釉面に凹凸が粗く配置されたザラザラ感のあ
る良好な灰色セ主マット袖瓦を得た。
実施例6 茶色セミマット釉(35号珪砂)実施例3の
釉調合物を用い、これにCMC(2500〜3500C
P) 0.4%、ベントナイト4%を加え、更に固形分
70%になるように水を加えて、ボールミルで湿式粉砕
して泥漿を得る。この泥漿に、35号珪砂を釉調合物1
00重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分
が70%になるように水を追加する。次いで、珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉
薬)を得る。
釉調合物を用い、これにCMC(2500〜3500C
P) 0.4%、ベントナイト4%を加え、更に固形分
70%になるように水を加えて、ボールミルで湿式粉砕
して泥漿を得る。この泥漿に、35号珪砂を釉調合物1
00重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分
が70%になるように水を追加する。次いで、珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿(釉
薬)を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり120gの付着量で
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃で酸
化焼成し、釉面の凹凸の規模が大きい良好な茶色セミマ
ント釉袖瓦を得た。
施釉乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1200℃で酸
化焼成し、釉面の凹凸の規模が大きい良好な茶色セミマ
ント釉袖瓦を得た。
実施例7 顔料による色釉(100号珪砂)長石、亜鉛
華、石灰石、蛙目粘土、珪石、炭酸バリウム、及び市販
されている顔料(V−ZrSi系)、(F e −Z
r系)、(Pr−Zr系〉を用いて、ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これにCMC(700〜1000C
P) 0.4%、ベントナイl−4%(対軸調合物と珪
砂の合計)を加え、更に固形分70%になるように水を
加えて、ボールミルで湿式粉砕して泥漿を得る。この泥
漿に、100号珪砂を釉調合物100重量部に対し35
部の割合で添加し、全体の固形分が70%になるように
水を追加する。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十
分な混合を行なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
華、石灰石、蛙目粘土、珪石、炭酸バリウム、及び市販
されている顔料(V−ZrSi系)、(F e −Z
r系)、(Pr−Zr系〉を用いて、ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これにCMC(700〜1000C
P) 0.4%、ベントナイl−4%(対軸調合物と珪
砂の合計)を加え、更に固形分70%になるように水を
加えて、ボールミルで湿式粉砕して泥漿を得る。この泥
漿に、100号珪砂を釉調合物100重量部に対し35
部の割合で添加し、全体の固形分が70%になるように
水を追加する。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十
分な混合を行なって、釉泥漿(釉薬)を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり130gの付着量で
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持った
良好な紬調の色釉陶器瓦を得た。
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持った
良好な紬調の色釉陶器瓦を得た。
ここで得られた釉面の色調は、珪砂を混入するまえの釉
から得られる色調と同しであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
から得られる色調と同しであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
更に、顔料をこのように三系統用い系統だてて混合する
と、その混合割合によって、「緑色」、「茶色」、「灰
色」などが自由に求められることは周知のことであるが
、上記珪砂を混入した釉も、釉泥漿の管理を十分行なえ
ばこのような技法で多数の色を得ることができる。
と、その混合割合によって、「緑色」、「茶色」、「灰
色」などが自由に求められることは周知のことであるが
、上記珪砂を混入した釉も、釉泥漿の管理を十分行なえ
ばこのような技法で多数の色を得ることができる。
実施例8 銀黒色
長石、石灰石、二酸化マンガン、蛙目粘土、珪石、酸化
鉄、ジルコニット、及びルチルを用いて、ゼーゲル表示
で の釉調合物を作る。これに、CMC(700〜1000
CP) 0.45%、ヘキサメタ燐酸ソーダ0,45%
、ベントナイト4.5%(対軸調合物と珪砂の合計)を
加えて固形分70%になるように水を加え、ボールくル
で湿式粉砕して泥漿とする。ミル中の泥漿に100号珪
砂を釉調合物100電量部に対し35部の割合で添加し
、全体の固形分が65%になるように水を追加する。次
いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行なっ
て、釉泥漿を得る。
鉄、ジルコニット、及びルチルを用いて、ゼーゲル表示
で の釉調合物を作る。これに、CMC(700〜1000
CP) 0.45%、ヘキサメタ燐酸ソーダ0,45%
、ベントナイト4.5%(対軸調合物と珪砂の合計)を
加えて固形分70%になるように水を加え、ボールくル
で湿式粉砕して泥漿とする。ミル中の泥漿に100号珪
砂を釉調合物100電量部に対し35部の割合で添加し
、全体の固形分が65%になるように水を追加する。次
いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行なっ
て、釉泥漿を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり100gの付着量で
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持ち、
金属光沢のある良好な紬調の娘黒釉陶器瓦を得た。
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持ち、
金属光沢のある良好な紬調の娘黒釉陶器瓦を得た。
ここで得られた釉面の色調は、珪砂を混入するまえの釉
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
実施例9 茶色ラスター釉
長石、珪酸鉛、マグネサイト、蛙目粘土、珪石、酸化鉄
、骨灰、パナジュウム及びルチルを用いて、ゼーゲル表
示で + 骨灰 10.0% ” V2O53,0% の釉調合物を作る。これに、CMC(700−1000
CP) 0.4%、ヘキサメタ燐酸ソーダ0.4%、ベ
ントナイト4%〈対軸調合物と珪砂の合計〉を加えて固
形分70%になるように水を加え、ボールミルで湿式粉
砕して泥漿とする。ミル中の泥漿に100号珪砂を釉調
合物lOO重量部に対し35部の割合で添加し、全体の
固形分が70%になるように水を追加する。次いで、珪
砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥
漿を得る。
、骨灰、パナジュウム及びルチルを用いて、ゼーゲル表
示で + 骨灰 10.0% ” V2O53,0% の釉調合物を作る。これに、CMC(700−1000
CP) 0.4%、ヘキサメタ燐酸ソーダ0.4%、ベ
ントナイト4%〈対軸調合物と珪砂の合計〉を加えて固
形分70%になるように水を加え、ボールミルで湿式粉
砕して泥漿とする。ミル中の泥漿に100号珪砂を釉調
合物lOO重量部に対し35部の割合で添加し、全体の
固形分が70%になるように水を追加する。次いで、珪
砂が粉砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥
漿を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり100gの付着量で
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持ち、
金属光沢のある良好な紬調の茶色ラスター調釉陶器瓦を
得た。
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持ち、
金属光沢のある良好な紬調の茶色ラスター調釉陶器瓦を
得た。
ここで得られた釉面の色調は、珪砂を混入するまえの釉
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える釉面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
実施例IO茶色光沢釉
長石、亜鉛華、石灰石、蛙目粘土、珪石、酸化鉄、及び
酸化クロムを用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(700〜1000
CP) 0.4%、ベントナイト4%(対軸調合物と珪
砂の合計〉を加えて固形分70%になるように水を加え
、ボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。ミル中の゛泥
漿に100号珪砂を釉調合物100M量部に対し35部
の割合で添加し、全体の固形分が70%になるように水
を追加する。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分
な混合を行なって、釉泥漿を得る。
酸化クロムを用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(700〜1000
CP) 0.4%、ベントナイト4%(対軸調合物と珪
砂の合計〉を加えて固形分70%になるように水を加え
、ボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。ミル中の゛泥
漿に100号珪砂を釉調合物100M量部に対し35部
の割合で添加し、全体の固形分が70%になるように水
を追加する。次いで、珪砂が粉砕に到らない程度に十分
な混合を行なって、釉泥漿を得る。
この釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり120gの付着量で
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持った
良好な紬調の茶色光沢釉陶器瓦を得た。
施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高1230℃
で酸化焼成し、釉面に縮緬状で密度の高い凹凸を持った
良好な紬調の茶色光沢釉陶器瓦を得た。
ここで得られた釉面の色調は、珪砂を混入するまえの釉
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える細面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
から得られる色調と同じであるが、珪砂を混入すること
によって与える細面の変化は、元の釉の調子を想像させ
ない異質の良好な釉面となる。
実施例11 灰色セミマット釉(35号珪砂を30部
使用)−固形分を上げ、釉泥漿粘度 を上げる− 長石、石灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マグネ
サイト、蛙目粘土、珪石、灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(1200〜180
0CP) 0.4%、ベントナイト4%(対軸調合物と
珪砂の合計)を加え、更に固形分75%になるように水
を加えてからボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。粉
砕終了後、ミル中の泥漿に35号珪砂を釉調合物100
重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分が7
5%になるように水を追加する。ここで更に珪砂が粉砕
に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿を得る
。
使用)−固形分を上げ、釉泥漿粘度 を上げる− 長石、石灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マグネ
サイト、蛙目粘土、珪石、灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(1200〜180
0CP) 0.4%、ベントナイト4%(対軸調合物と
珪砂の合計)を加え、更に固形分75%になるように水
を加えてからボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。粉
砕終了後、ミル中の泥漿に35号珪砂を釉調合物100
重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分が7
5%になるように水を追加する。ここで更に珪砂が粉砕
に到らない程度に十分な混合を行なって、釉泥漿を得る
。
得られた釉泥漿を、桟瓦素地1枚当たり90〜130g
の付着量で施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高
1230℃で酸化焼成して釉面に凹凸のある良好な灰色
セミマット釉瓦を得た。
の付着量で施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高
1230℃で酸化焼成して釉面に凹凸のある良好な灰色
セミマット釉瓦を得た。
他の実施例で示した固形分70%を維持した釉泥漿を、
このように釉の固形分を75%まで上げ、更に釉泥漿自
体の粘性をも上げると、施釉重量に巾をもたせても釉面
中の珪砂の密度を高く維持することができ、製品の安定
化につながる。
このように釉の固形分を75%まで上げ、更に釉泥漿自
体の粘性をも上げると、施釉重量に巾をもたせても釉面
中の珪砂の密度を高く維持することができ、製品の安定
化につながる。
実施例12 灰色セミマット釉(35号珪砂を30部
使用)−固形分を下げ、釉泥漿粘度 を上げる 長石、石灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マグネ
サイト、蛙目粘土、珪石、灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(2500〜350
0CP) 0.4%、ヘンl−ナイト4%〈対軸調合物
と珪砂の合計〉を加え、更に固形分70%になるように
水を加えてからボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。
使用)−固形分を下げ、釉泥漿粘度 を上げる 長石、石灰石、亜鉛華、炭酸バリウム、珪酸鉛、マグネ
サイト、蛙目粘土、珪石、灰色顔料を用いて、 ゼーゲル表示で の釉調合物を作る。これに、CMC(2500〜350
0CP) 0.4%、ヘンl−ナイト4%〈対軸調合物
と珪砂の合計〉を加え、更に固形分70%になるように
水を加えてからボールミルで湿式粉砕して泥漿とする。
粉砕終了後、ミル中の泥漿に35号珪砂を釉調合物10
0重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分が
65%になるように水を追加する。ここで更に珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉宛漿を得
る。
0重量部に対し30部の割合で添加し、全体の固形分が
65%になるように水を追加する。ここで更に珪砂が粉
砕に到らない程度に十分な混合を行なって、釉宛漿を得
る。
得られた釉苑漿を、桟瓦素地1枚当たり90〜130g
の付着量で施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高
1230℃で酸化焼成して釉面に凹凸のある良好な灰色
セミマット釉瓦を得た。
の付着量で施釉し、乾燥後、稼働中のトンネル窯で最高
1230℃で酸化焼成して釉面に凹凸のある良好な灰色
セミマット釉瓦を得た。
他の実施例で示した固形分70%を維持した釉泥漿を、
このように釉の固形分を65%まで下げ、逆に釉泥漿自
体の粘性を上げると、施釉重量に巾を持たせることで釉
面中の珪砂の密度を操作することができる。
このように釉の固形分を65%まで下げ、逆に釉泥漿自
体の粘性を上げると、施釉重量に巾を持たせることで釉
面中の珪砂の密度を操作することができる。
[発明の効果]
本発明の釉薬は、以上詳述したように通常の陶器瓦の釉
薬に、凹凸形成材料としてシリカ純度が高く且つ粒度の
比較的揃った珪砂を種々な割合で混入し、且つ珪砂の粒
度ごとに最適な粘度に調製したものである。
薬に、凹凸形成材料としてシリカ純度が高く且つ粒度の
比較的揃った珪砂を種々な割合で混入し、且つ珪砂の粒
度ごとに最適な粘度に調製したものである。
従って、珪砂の粒度及び混合割合に応して、従来見られ
なかった様々な凹[ワ1模様を再現性良く且つ均一に釉
面に現出できる。しかも、従来の釉薬配合がそのまま利
用でき、色も任意であり、色と凹凸の組合せにより釉面
に大きな変化を付けることができる。また、比較的長時
間珪砂が沈澱することもなく安定で、特別な技術も不要
で従来と同様の施釉装置で簡単に施釉でき、コストもか
からない等の利点がある。
なかった様々な凹[ワ1模様を再現性良く且つ均一に釉
面に現出できる。しかも、従来の釉薬配合がそのまま利
用でき、色も任意であり、色と凹凸の組合せにより釉面
に大きな変化を付けることができる。また、比較的長時
間珪砂が沈澱することもなく安定で、特別な技術も不要
で従来と同様の施釉装置で簡単に施釉でき、コストもか
からない等の利点がある。
また、本発明方法は本発明釉薬を用いて陶器瓦を製造す
るものであるが、珪砂を混合した故に釉泥漿中の釉調合
物換算でみればかえって薄掛けになり低コスト化が図れ
るとともに、基本となる釉薬と全く同様の条件で焼成で
き、珪砂混入による不良品の発生も殆どなくて管理が容
易である。
るものであるが、珪砂を混合した故に釉泥漿中の釉調合
物換算でみればかえって薄掛けになり低コスト化が図れ
るとともに、基本となる釉薬と全く同様の条件で焼成で
き、珪砂混入による不良品の発生も殆どなくて管理が容
易である。
しかも、得られた瓦は珪砂に起因する様々な凹凸と基礎
釉に基づく任意の色調が渾然一体となり、従来にない美
的な紬調を示すものである。また、釉面に生しる凹凸は
、滑り止めの働きをするので施工時等に安全であるし、
シャモット使用の場合と異なりはしけ等のギザギザを有
さないので汚れが付着することもないなど、優れたもの
である。
釉に基づく任意の色調が渾然一体となり、従来にない美
的な紬調を示すものである。また、釉面に生しる凹凸は
、滑り止めの働きをするので施工時等に安全であるし、
シャモット使用の場合と異なりはしけ等のギザギザを有
さないので汚れが付着することもないなど、優れたもの
である。
旨1≧巾1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、釉調合物100部を含む泥漿に、粒度の比較的揃っ
た珪砂を5〜50部混合し、且つ粘度を2000〜60
00CPに調整したことを特徴とする陶器瓦用釉薬。 2、釉調合物100部を含む泥漿に粒度の比較的揃った
珪砂5〜50部を混合して得た粘度2000〜6000
CP、固形分65〜75%の釉薬を、瓦素地に施釉した
後1150〜1250℃で酸化焼成して表面に凹凸模様
を形成することを特徴とする陶器瓦の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18001889A JP2802347B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 陶器瓦用釉薬及び陶器瓦の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18001889A JP2802347B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 陶器瓦用釉薬及び陶器瓦の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0345580A true JPH0345580A (ja) | 1991-02-27 |
JP2802347B2 JP2802347B2 (ja) | 1998-09-24 |
Family
ID=16076022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18001889A Expired - Fee Related JP2802347B2 (ja) | 1989-07-11 | 1989-07-11 | 陶器瓦用釉薬及び陶器瓦の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2802347B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03261684A (ja) * | 1990-03-10 | 1991-11-21 | Inax Corp | 陶磁器製品の加飾方法 |
CN113264754A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-08-17 | 凌超 | 一种铜钱滴建盏 |
-
1989
- 1989-07-11 JP JP18001889A patent/JP2802347B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03261684A (ja) * | 1990-03-10 | 1991-11-21 | Inax Corp | 陶磁器製品の加飾方法 |
CN113264754A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-08-17 | 凌超 | 一种铜钱滴建盏 |
CN113264754B (zh) * | 2021-06-21 | 2023-07-11 | 凌超 | 一种铜钱滴建盏 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2802347B2 (ja) | 1998-09-24 |
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