JPH0342073A - スタンパの保護膜形成方法 - Google Patents
スタンパの保護膜形成方法Info
- Publication number
- JPH0342073A JPH0342073A JP17735589A JP17735589A JPH0342073A JP H0342073 A JPH0342073 A JP H0342073A JP 17735589 A JP17735589 A JP 17735589A JP 17735589 A JP17735589 A JP 17735589A JP H0342073 A JPH0342073 A JP H0342073A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- stamper
- forming
- solvent
- turn table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野Ｊ
本発明は光ディスク等の記録媒体を複製するために使用
されるスタンパに保護膜を形成する方法に関するもので
ある。 〔従来の技術〕 光デイスク用スタンパ（通常マスター、マザーと呼ばれ
でいる原盤も同類である）は、その表面に微細な凹５ビ
ットやグループが存在し、スタンパの内径、外径加工や
裏面研磨等を行う時は表面を保護するために、保護膜を
つけてからこれらの加工を行うのが一般的である。又、
加工を行わなくても、他所へ移動するために一般外気に
さらす時は微細凹凸を空気中の汚染物質や微粒子がら守
るために保護膜をつけている。 従来、スタンパに保護膜を形成する方法としては、溶剤
に溶かした樹脂をスプレー法、スピナー法、浸漬法、ハ
ケ塗布法等で塗布し、塗布後常温で放置乾燥するか又は
加温乾燥もしくは真空乾燥する方法が知られている。 また、保護膜形成時における基板の温度コントロールと
しては、具体的な塗布方法についての開示はないが、溶
剤の沸点以上に加温しておく方法が提案されている（特
開昭６３−３１１１６３８号公報）。 （発明が解決しようとする課題） ・ 従来法による保護膜形成では、スタンパを使用する時に
保護膜を剥離する際、スタンパ面の微細凹凸に密着した
保護膜の一部が剥離せず、スタンパ上に残留するという
現象が生ずる。この保護膜残りの発生原因は保護膜形成
用組成物を塗布する時、成分である揮発分（溶剤）が蒸
発し、その蒸発潜熱によりスタンパが冷却され、空気中
の水分が凝縮して保護膜中に残留し、その結果として保
護膜中の溶剤も一部膜内部に残留し、その部分の膜の強
度が弱くなり、保護膜剥離時にスタンパとの密着性の大
きい所（例えばビットの所はいかり効果によってスタン
パ面との密着は平坦部より大）がスタンパ面に残留する
ものと考えられる。当然この残留物はスタンパから光デ
ィスク等の記録媒体を複製する時の障害となり、エラー
レートの増大という重大欠陥につながるため、ないほう
がよい事は明白である。 一方、基板を溶剤の沸点以上に加熱して保護膜を塗布す
ると、溶剤の蒸発が早すぎて塗布膜が不均一になり、好
ましくない。例えば裏面研磨をする時に表面が不均一の
膜で覆われているとそれにならって裏面もウネリが大き
くなる。 本発明は以上のような従来技術の実情に鑑みてなされた
もので、その目的は、保護膜をスタンパ面から剥離した
時、スタンパ面に保護膜残りを起こさないようなスタン
パの保護膜形威力法を提供することにある。 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を遠戚するため、本発明によれば、保護膜形成
のためにスタンパが載置されるヒーター内蔵の回転テー
ブルをチャンバー内に備えてなるスプレー式塗布装置を
用い、スタンパを保護層形成用組成物中に含まれる溶剤
の沸点より低い温度に加温した状態で保護膜形成用組成
物を塗布して保護層を形成することを特徴とするスタン
パの保護膜形成方法が提供される。
されるスタンパに保護膜を形成する方法に関するもので
ある。 〔従来の技術〕 光デイスク用スタンパ（通常マスター、マザーと呼ばれ
でいる原盤も同類である）は、その表面に微細な凹５ビ
ットやグループが存在し、スタンパの内径、外径加工や
裏面研磨等を行う時は表面を保護するために、保護膜を
つけてからこれらの加工を行うのが一般的である。又、
加工を行わなくても、他所へ移動するために一般外気に
さらす時は微細凹凸を空気中の汚染物質や微粒子がら守
るために保護膜をつけている。 従来、スタンパに保護膜を形成する方法としては、溶剤
に溶かした樹脂をスプレー法、スピナー法、浸漬法、ハ
ケ塗布法等で塗布し、塗布後常温で放置乾燥するか又は
加温乾燥もしくは真空乾燥する方法が知られている。 また、保護膜形成時における基板の温度コントロールと
しては、具体的な塗布方法についての開示はないが、溶
剤の沸点以上に加温しておく方法が提案されている（特
開昭６３−３１１１６３８号公報）。 （発明が解決しようとする課題） ・ 従来法による保護膜形成では、スタンパを使用する時に
保護膜を剥離する際、スタンパ面の微細凹凸に密着した
保護膜の一部が剥離せず、スタンパ上に残留するという
現象が生ずる。この保護膜残りの発生原因は保護膜形成
用組成物を塗布する時、成分である揮発分（溶剤）が蒸
発し、その蒸発潜熱によりスタンパが冷却され、空気中
の水分が凝縮して保護膜中に残留し、その結果として保
護膜中の溶剤も一部膜内部に残留し、その部分の膜の強
度が弱くなり、保護膜剥離時にスタンパとの密着性の大
きい所（例えばビットの所はいかり効果によってスタン
パ面との密着は平坦部より大）がスタンパ面に残留する
ものと考えられる。当然この残留物はスタンパから光デ
ィスク等の記録媒体を複製する時の障害となり、エラー
レートの増大という重大欠陥につながるため、ないほう
がよい事は明白である。 一方、基板を溶剤の沸点以上に加熱して保護膜を塗布す
ると、溶剤の蒸発が早すぎて塗布膜が不均一になり、好
ましくない。例えば裏面研磨をする時に表面が不均一の
膜で覆われているとそれにならって裏面もウネリが大き
くなる。 本発明は以上のような従来技術の実情に鑑みてなされた
もので、その目的は、保護膜をスタンパ面から剥離した
時、スタンパ面に保護膜残りを起こさないようなスタン
パの保護膜形威力法を提供することにある。 〔課題を解決するための手段〕 上記目的を遠戚するため、本発明によれば、保護膜形成
のためにスタンパが載置されるヒーター内蔵の回転テー
ブルをチャンバー内に備えてなるスプレー式塗布装置を
用い、スタンパを保護層形成用組成物中に含まれる溶剤
の沸点より低い温度に加温した状態で保護膜形成用組成
物を塗布して保護層を形成することを特徴とするスタン
パの保護膜形成方法が提供される。
【実施例）
以下本発明を実施例により詳細に説明する。
第１図は本発明の保護膜形成方法に使用される保護ｇ塗
布用スプレー装置の概略図である。先ず、この装置につ
いて説明すると、図中１はチャンバーを示し、このチャ
ンバー１中には、モーター２により回転される回転テー
ブル３が設置されている。 回転テーブル３の中にはヒーター４が内蔵されており、
ヒーター４は回転テーブル３の温度を自由に制御可能な
制御系（図示せず）に接続されている。また回転テーブ
ル３上にはスタンパ５が載置され、磁石や吸引チャック
等の周知の手段を用いて必要に応じて固定されるように
なっている。保護膜形成用組成物はボット６の中に収め
られており、膜形成時にはエアーホース８を伝わってく
る圧縮空気によりノズル７からスプレーされ、スタンパ
５の面上に塗布される。ボット６とノズル７は一体に構
成されており、シリンダ９によりアームｌＯを経てスタ
ンパ５の直径方向に沿ってゆっくり移動可能となってい
る。さらに、チャンバーｌの天井にはフィルター１１及
び送風ファン！２が設置されるとともに、チャンバー１
の床にはフィルター！３が設置されている。フィルター
Ｕはチャンバー！内に微細粒子を送り込まない役目をな
し、フィルター１３はスプレーした保護膜形成用組成物
の粒子が外部へ出ないようにする役目をなしている。ま
た、ファン１２の作用によりチャンバー１内は天井から
床に向かって静かな空気の流れが形成され、スプレーパ
ターンが乱れないようになっている。 本発明において保護膜の形成に使用される組成物として
は、樹脂を有機溶媒に溶かしたものが使用される。具体
的にはウレタンレジン５０ｖｏＱ％＋イソプロピルアル
コール１ｏｏｖｏ１２％等の組・酸物が使用されるが、
これに限定されない、また、該組成物を主成分とし、樹
脂の溶解性や溶剤の蒸発速度をコントロールする目的で
、エチルアルコールチルアルコール等を添加することも
可能である。 また、本発明ではスタンパを保護膜形成用組成物中の溶
剤の沸点より低い温度（室温以上）に加温して保護膜を
形成する．スタンパを該溶剤の沸点以上に加熱すると溶
剤の蒸発が早すぎて塗布膜が不均一になり、好ましくな
い．また、塗布装置外でスタンパを加温し、塗布装置内
に持込んで冷えないうちに塗布する方法も考えられるが
、温度コントロールが出来ず、塗布ムラがなり易い。 次に、第１図のスプレー装置を用いて、スタンパに保Ｍ
膜を塗布、形成した具体例を述べる。 生止 ・保護膜原液（ウレタンレジン：イソプロピルアルコー
ルｌ１１：２）８０＋ｕＱ ・空気圧１．４ｋｇ／ｃｎｌ ・スタンパ温度５０℃ ・ノズル往復サイクル ３サイクル 以上の条件でスタンパに保護膜（乾燥後の膜厚約４０河
）を形成した。ちなみにイソプロピルアルコールの沸点
は８２．３℃である。 次に、形成した保護膜をスタンパから剥離して、スタン
パ面への保護膜付着と水分の入り込みを調べた。また比
較のため、スタンパ温度を２３℃とした以外は実施例と
同じ条件でスタンパに保護膜を形成し、その後、該保護
膜を剥離し、同様の評価を行なった。この保護膜形成、
剥離後の評価は実施日を変えて実施例、比較例共に２回
ずつ行った。 その結果を次表に示す。 上記表より、実施例では保護膜を剥離した時に保護膜残
り及び水分が発生せず、比較例に比べてすぐれた結果が
得られた。比較例において結果が大きく変わっているの
は同じ条件設定であっても微妙なバラツキがありそれが
影響しているものと思われる。また、保護膜は外側から
ではなくスタンパ面から乾燥させてやると欠陥が残らな
いことがわかった。 【発明の効果】 以上詳細に説明したように、本発明によれば、前記した
スプレー式塗布装置を用い、保護膜形成用組成物中に含
まれる溶剤の沸点より低い温度に加温した状態で保護膜
を塗布、形成したので、保護膜をスタンパ面から剥離し
た時にスタンパ面に保護膜残りが起こらず、 が可能となった。
布用スプレー装置の概略図である。先ず、この装置につ
いて説明すると、図中１はチャンバーを示し、このチャ
ンバー１中には、モーター２により回転される回転テー
ブル３が設置されている。 回転テーブル３の中にはヒーター４が内蔵されており、
ヒーター４は回転テーブル３の温度を自由に制御可能な
制御系（図示せず）に接続されている。また回転テーブ
ル３上にはスタンパ５が載置され、磁石や吸引チャック
等の周知の手段を用いて必要に応じて固定されるように
なっている。保護膜形成用組成物はボット６の中に収め
られており、膜形成時にはエアーホース８を伝わってく
る圧縮空気によりノズル７からスプレーされ、スタンパ
５の面上に塗布される。ボット６とノズル７は一体に構
成されており、シリンダ９によりアームｌＯを経てスタ
ンパ５の直径方向に沿ってゆっくり移動可能となってい
る。さらに、チャンバーｌの天井にはフィルター１１及
び送風ファン！２が設置されるとともに、チャンバー１
の床にはフィルター！３が設置されている。フィルター
Ｕはチャンバー！内に微細粒子を送り込まない役目をな
し、フィルター１３はスプレーした保護膜形成用組成物
の粒子が外部へ出ないようにする役目をなしている。ま
た、ファン１２の作用によりチャンバー１内は天井から
床に向かって静かな空気の流れが形成され、スプレーパ
ターンが乱れないようになっている。 本発明において保護膜の形成に使用される組成物として
は、樹脂を有機溶媒に溶かしたものが使用される。具体
的にはウレタンレジン５０ｖｏＱ％＋イソプロピルアル
コール１ｏｏｖｏ１２％等の組・酸物が使用されるが、
これに限定されない、また、該組成物を主成分とし、樹
脂の溶解性や溶剤の蒸発速度をコントロールする目的で
、エチルアルコールチルアルコール等を添加することも
可能である。 また、本発明ではスタンパを保護膜形成用組成物中の溶
剤の沸点より低い温度（室温以上）に加温して保護膜を
形成する．スタンパを該溶剤の沸点以上に加熱すると溶
剤の蒸発が早すぎて塗布膜が不均一になり、好ましくな
い．また、塗布装置外でスタンパを加温し、塗布装置内
に持込んで冷えないうちに塗布する方法も考えられるが
、温度コントロールが出来ず、塗布ムラがなり易い。 次に、第１図のスプレー装置を用いて、スタンパに保Ｍ
膜を塗布、形成した具体例を述べる。 生止 ・保護膜原液（ウレタンレジン：イソプロピルアルコー
ルｌ１１：２）８０＋ｕＱ ・空気圧１．４ｋｇ／ｃｎｌ ・スタンパ温度５０℃ ・ノズル往復サイクル ３サイクル 以上の条件でスタンパに保護膜（乾燥後の膜厚約４０河
）を形成した。ちなみにイソプロピルアルコールの沸点
は８２．３℃である。 次に、形成した保護膜をスタンパから剥離して、スタン
パ面への保護膜付着と水分の入り込みを調べた。また比
較のため、スタンパ温度を２３℃とした以外は実施例と
同じ条件でスタンパに保護膜を形成し、その後、該保護
膜を剥離し、同様の評価を行なった。この保護膜形成、
剥離後の評価は実施日を変えて実施例、比較例共に２回
ずつ行った。 その結果を次表に示す。 上記表より、実施例では保護膜を剥離した時に保護膜残
り及び水分が発生せず、比較例に比べてすぐれた結果が
得られた。比較例において結果が大きく変わっているの
は同じ条件設定であっても微妙なバラツキがありそれが
影響しているものと思われる。また、保護膜は外側から
ではなくスタンパ面から乾燥させてやると欠陥が残らな
いことがわかった。 【発明の効果】 以上詳細に説明したように、本発明によれば、前記した
スプレー式塗布装置を用い、保護膜形成用組成物中に含
まれる溶剤の沸点より低い温度に加温した状態で保護膜
を塗布、形成したので、保護膜をスタンパ面から剥離し
た時にスタンパ面に保護膜残りが起こらず、 が可能となった。
第１図は本発明の方法に使用されるスプレー式塗布装置
の一例を示す概略図である。 ｌ・・・チャンバー ２・・・モーター３・・
・回転テーブル ４・・・ヒーター５・・・スタン
パ ６・・・ポット７・・・ノズル
８・・・エアホース９・・・シリンダ ｌＯ
・・・アーム＋１，１３・・・フィルター ！２・・
・送風ファン高品質の記録媒体の複製
の一例を示す概略図である。 ｌ・・・チャンバー ２・・・モーター３・・
・回転テーブル ４・・・ヒーター５・・・スタン
パ ６・・・ポット７・・・ノズル
８・・・エアホース９・・・シリンダ ｌＯ
・・・アーム＋１，１３・・・フィルター ！２・・
・送風ファン高品質の記録媒体の複製
Claims (1)
- （１）保護膜形成のためにスタンパが載置されるヒータ
ー内蔵の回転テーブルをチャンバー内に備えてなるスプ
レー式塗布装置を用い、スタンパを保護層形成用組成物
中に含まれる溶剤の沸点より低い温度に加温した状態で
保護膜形成用組成物を塗布して保護層を形成することを
特徴とするスタンパの保護膜形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17735589A JPH0342073A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | スタンパの保護膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17735589A JPH0342073A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | スタンパの保護膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0342073A true JPH0342073A (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=16029519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17735589A Pending JPH0342073A (ja) | 1989-07-10 | 1989-07-10 | スタンパの保護膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0342073A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4806687B2 (ja) * | 2005-02-10 | 2011-11-02 | エイアールシー オートモーティブ，インコーポレイテッド | 小型多段階出力ガス発生器 |
-
1989
- 1989-07-10 JP JP17735589A patent/JPH0342073A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4806687B2 (ja) * | 2005-02-10 | 2011-11-02 | エイアールシー オートモーティブ，インコーポレイテッド | 小型多段階出力ガス発生器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0121529B2 (ja) | ||
| JPH0342073A (ja) | スタンパの保護膜形成方法 | |
| JPH0774137A (ja) | 基板表面のパーティクル除去方法及びその装置 | |
| JPS6341855A (ja) | フオトマスクのドライ洗浄方法 | |
| CA1243269A (en) | High speed coating process for magnetic disks | |
| JPH03224145A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| US2700008A (en) | Manufacture of decorated china | |
| JPH0249707Y2 (ja) | ||
| JPH01300525A (ja) | 乾燥方法及び装置 | |
| JPS58203630A (ja) | デイスクの乾燥方法 | |
| JPS59124032A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPH0452614B2 (ja) | ||
| US4588611A (en) | Disk stripping and coating process | |
| JPS59201229A (ja) | 磁気デイスクの製造方法 | |
| JPH09282719A (ja) | 円板の洗浄・乾燥方法および装置 | |
| JP3153948B2 (ja) | 樹脂バンパの塗装方法 | |
| JPS61121335A (ja) | ウエハの研削面の処理方法 | |
| JPS62136265A (ja) | 処理液塗布装置 | |
| JPH02116130A (ja) | 基板の洗浄方法 | |
| JP2532590B2 (ja) | 光ディスク原盤用洗浄装置 | |
| JPH04354333A (ja) | ウェハの裏面研削処理方法 | |
| JPH05302784A (ja) | 金属洗浄物の乾燥方法 | |
| JPH0140072B2 (ja) | ||
| CN120533579A (zh) | 一种防止涂墨发白的光学镜片加工工艺 | |
| JPH04341946A (ja) | スタンパー洗浄方法 |