JPH0341981A

JPH0341981A - 遊技盤の釘の洗浄装置

Info

Publication number: JPH0341981A
Application number: JP17867289A
Authority: JP
Inventors: Koki Ieiri; 家入　光喜
Original assignee: ASO KOGYO KK
Current assignee: ASO KOGYO KK
Priority date: 1989-07-11
Filing date: 1989-07-11
Publication date: 1991-02-22

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕この発明は、パチンコ等の遊技盤の釘を遊技盤に植設し
たままの状態で洗浄する洗浄装置に関する。

〔従来の技術〕

パチンコやこれに類する遊技盤は、油脂、粉塵。

タバコの煙の含有物質等により短期間のうちに汚染され
るため、遊技盤表面や釘を頻繁に洗浄する必要がある。

そこで従来の遊技盤の盤面や釘の洗浄は次のようにして
行われていた。

まず、遊技盤裏面の電気機器を取り外し又は水密に被覆
した後、その表面を石鹸水でブラシ等を使用して手作業
で洗浄することにより、表面に付着している塵埃、油脂
等を洗い落とし、次いで水によって石鹸水を洗い落とす
ことが行われる。そして、変形防止のために遊技盤表面
の装飾等に使用されているプラスチック部品を取り外し
た後、酸洗して釘の除錆を行うなどの後工程を経る。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、前記の釘の洗浄工程は手作業で行われて
いたため能率的ではなく、したがって多数の遊技盤を備
えた遊技場ではその洗浄作業に多大な時間と手間を要し
ていた。また釘を遊技盤から抜き取って公知の超音波洗
浄機により洗浄することも考えられるが、遊技盤に釘を
再度打ち込むには手間がかかるばかりか、一端形成され
た釘穴に再度打を打ち込むことから遊技盤への釘の固定
力が劣化することもあるし、また釘自体の洗浄はできて
も、遊技盤表面の汚れは全く洗浄できないため好適では
ない。また、釘をつけたままの遊技盤を従来の超音波洗
浄機により洗浄することになると、遊技盤全体を洗浄液
内に沈下させることになって、合板からなる遊技盤の変
形や、振動による電気機器の故障の発生があるため、こ
の方法も採用することができない。

この発明は、かかる従来の問題点に着目してなされたも
のであって、遊技盤の変形や遊技盤裏面に装着される電
気機器の故障の心配がなく、遊技盤表面とこれに植設さ
れたままの釘とを能率よく洗浄することを目的としてい
る。

〔課題を解決するための手段〕

遊技盤の洗浄装置は、表面に多数の釘が植設された遊技
盤を下向きに支持する第【支持枠を、第１洗浄槽に、こ
の洗浄槽内の液性媒体に遊技盤の釘を浸漬する水平位置
と、遊技盤表面が液性媒体から離れて斜め下向きの傾斜
位置との間で旋回自在に取付けるとともに、この第１洗
浄槽には超音波発振器に連結された振動板と予備洗浄液
の噴出口とを設けてなる（第１の装置）。

また、別の遊技盤の洗浄装置は、表面に多数の釘が植設
された遊技盤を下向きに支持する第２支持枠を、洗浄液
が満たされる第２洗浄槽の上部に昇降可能に設けるとと
もに、前記第２洗浄槽と第２支持枠との間に第２支持枠
の高さ位置を固定する位置決め機構を設け、前記支持枠
を、これを構成する前後の枠片の対と、左右の枠片の対
との少なくとも何れかの間隔を可変に構成し、さらに前
記第２洗浄槽には洗浄液の供給口を臨ませ且つ前記洗浄
液の溢液口を形成してなる（第２の装Ｗ）。

さらに、前記第１の装置と第２の装置とを組合せた遊技
盤の洗浄装置（第３の装置）とすることもできる。

〔作用〕

第１の装置にあっては、釘が植設された遊技盤表面を下
向きにして第１支持枠に支持させ、このまま第１支持枠
を起こして傾斜−位置に旋回させた状態で、遊技盤表面
に予備洗浄液を吹きつける。

これにより釘と盤面を予備洗浄するから、釘と盤面に付
着している塵埃や油脂に予備洗浄液が作用して、この段
階で成る程度の洗浄が進行する。

次に、第１支持枠を臥せて盤面を水平位置とし、釘を第
１洗浄槽の液性媒体に漬ける。この位置では盤面は液性
媒体の液面に丁度接する高さにだる。

この状態で振動板を超音波振動させると、その振動が液
性媒体を介して釘と盤面に照射される。釘と盤面とにお
いては、超音波の照射により発生したキャビテーション
による物理約１１）離力によって汚れが落ちる。このと
き、前記予備洗浄液が液性媒体中に流下していると、予
備洗浄液による乳化作用も合わせて生じるから、洗浄作
用は強力になる。

ここで、予備洗浄液を界面活性剤とすれば、予備洗浄の
段階で界面活性剤の親油基が汚れの油脂分に付着するこ
とになり、一方、液性媒体を水とすれば、予備洗浄時に
付着した界面活性剤の親水基を介して、親油基に付着し
た前記油脂分が除去される。このときの除去には超音波
振動が付与されているため効率よく洗浄が行われる。な
お、前記の超音波洗浄に次いで遊技盤表面と釘とを水洗
すると洗浄液が遊技盤に残留しないから好適である。

第２の装置にあっては、第２支持枠の高さ位置と枠片の
対の間隔を予め調整しておく。高さ位置は、遊技盤の盤
面が第２洗浄槽内の洗浄液の液面にちょうど接する高さ
としてこれを固定し、枠片の間隔は遊技盤の長さ又は幅
と一致させる。洗浄槽には供給口から洗浄液を供給して
おき、前記第２支持枠に遊技盤を載せる。これにより遊
技盤表面及びこれから突出している釘等が洗浄液に漬か
る。この洗浄液によって盤面及び釘等が接触洗浄される
。このときに溢液口から洗浄液をオーバーフローさせて
、洗浄液が盤面より上位に至るのを防止する。前記洗浄
液としては、酸化剤及び鉱酸を含有する水溶液が好適で
ある。

洗浄液に所定時間接触させた後には、シャワー等によっ
て盤面を水洗いして乾燥又は防錆処理する。

第１及び第２の洗浄装置からなる第３の洗浄装置にあっ
ては、前記第１の洗浄装置における前記処理をした後に
第２の洗浄装置における前記処理をする。第１及び第２
の洗浄装置は隣接させて設置しておくのが好適である。

〔実施例〕

第１〜６図は第１の装置Ａの実施例を示す図であり、第
７〜１０図は第２洗浄装置Ｂの実施例を示す図である。

まず第１の装置Ａを説明すると、箱状本体１内の上部に
第１洗浄槽２が設けられ、この第１洗浄槽２には段２ａ
があって、この段２ａの上側の面積が段２ａの下側の面
積より大になっている。この段２ａには第１支持枠３が
、その先端が上方になる傾斜位置と、全体が水平になる
水平位置との間で第３．６図に弧状の矢印で示すように
旋回自在に枢着されている。この枢着は第１．３．５図
に示されるヒンジ４によってなされている。また第１支
持枠３と第１洗浄槽２との間に、第１支持枠３を前記傾
斜位置に静止させる静止機構３ａが設けられる。この静
止機構３ａは、一端が第１支持枠３に枢着されたリンク
と、一端が第１洗浄槽２に枢着されたリンクとの各他端
どうしをさらに枢着してなり、両リンク間が屈折するこ
とにより第１支持枠３が自重で水平位置になり、また両
リンク間が延びた状態で第１支持枠３を傾斜位置に支え
る慣用の機構である。

第１支持枠３は、第３〜５図に示すように、前側の枠片
５．後側の枠片６．左側の枠片７．右側の枠片８と、左
右の枠片７．８に個別に固定された支持片９とを備え、
枠片６においてヒンジ４により第１洗浄槽２に枢着され
る。枠片５〜８はアングル材のように断面鉤型をした型
材により構成されている。枠片５，６．８はビス１１に
より相互に固定され、また枠片７は、枠片５．６に開設
された長孔１２と、ビス１３と、ビス１３に螺合するナ
ツト（図示しない）とにより、枠片８との距離を可変に
固定される。

なお、枠片５．６においてピース１１が貫通している孔
も、前記長孔１２と同様に形成してもよいし、さらに枠
片７，８におけるビス１１．１３が貫通される孔を枠片
７．８の長平方向に長孔を形成すれば、枠片５，６間の
幅の調整も可能となる。

この場合には枠片５．６の断面鉤型をしたうちの立ち上
がり部が邪魔になるから、ここを切欠させておくものと
する。

前記支持片９は、その上面が段状になっていて下の段の
上面が枠片７．８の上向き面と同一高さにある（第４図
（ａ））が、第４図（ｂ）のように枠片５６の上向き面
と同一高さにしてもよい。これらし゛ずれの場合にも、
また支持片９の上下いずれの段によっても後述する遊技
盤を支持することができる。第４・図（ａ）（ロ）のい
ずれの支持片９を採用するか、また同一の支持片であっ
ても上下いずれの段で支持させるかは、遊技盤の種類や
形状等の条件によって決定される。

第１洗浄槽２の段２ａより上には溢水口１４が開設され
ていて、第１洗浄槽２内の液性媒体が常時一定の水位を
保つようになっている。詳しくは、第１支持枠３に下向
きに支持された遊技盤の盤面と第１洗浄槽２内の液性媒
体の水位とが一致するか、液性媒体内に僅かに遊技盤面
が浸かるようになっている。

溢水口１４の外部下側には液受け１５が配置され、この
液受け１５には排液管１６が連結される。

液受け１５は溢水口１４から出る液を受けて排液管１６
に導くものであれば、他の構造をしているものであって
もよい。排液管１６の先端は箱状本体１外部の排液処理
設備等に連続していてもよいし、また箱状本体１内に排
液タンクを設けてこれに連結しておいてもよい。

第１洗浄槽２の底板の下面には、超音波発振器１７に連
結された振動子１８が接触していて、前記底板を振動板
１９とすることにより、第１洗浄槽２内部の液性媒体に
超音波振動を付与するが、第１洗浄槽２の底板を振動子
１Ｂの形状及び大きさに開口し、この開口に振動子１８
を臨ませるとともに、振動子１８の周囲と第１洗浄槽２
との間を水密に封止することもできる。これによれば、
振動子１８が第１洗浄槽２の底板の一部を兼ねることに
なり、且つ振動子１日から液性媒体に直接振動を伝達す
ることができる。この場合、振動子１８周囲と第１洗浄
槽２との間の前記水密な封止手段としてゴム質の膜を用
いることにより、振動子１８の向きを変更できるように
すれば、真上方向のみならず、斜め方向にも超音波振動
を伝播させることができる。第２図に示す２０は第１洗
浄槽２内の液状媒体を排出する管である。この管２０に
代えて槽内の液を排出する他の手段を備えてもよい。こ
れらの排出手段には排出及びその停止のための開閉手段
が備えられることは勿論である。

なお、前記の超音波発振器１７としては、２０〜１５０
ｋＨ２（波長λ２．６４〜１０．５６　）の周波数で超
音波を発振するものを用いた。

前記超音波発振器１７ば、箱状本体１内に載置されたタ
ンク２１の上に支持されており、このタンク２１の内部
には予備洗浄液が貯えられる。タンク２１内の予備洗浄
液はポンプ２２によりホース２３を介して噴出口２４か
ら噴出するようにしである。ホース２３は可撓性を有し
ていて、第１洗浄槽２の前部の二重壁部分に収納してあ
り、噴出口２４を持って引き上げることにより、その噴
出口２４が第１洗浄槽２の上側に取り出せるようになっ
ている。噴出口２４は前記二重壁部分内の図示しない掛
止具に掛止しておけばよい。

前記二重壁部分内のもう一つの噴出口２５は水の噴出口
であり、そのホース２６は図示しない給水源に接続され
ている。その給水源として、箱状本体１内に水タンクと
ポンプとを設けてもよいし、また上水道に直接ホース２
６を接続することもできる。

箱状本体１には後部に立ち上がり部１０を設けて、予備
洗浄液や水が外部に飛散することを防止している。

なお、なお図示しないが、超音波発振器１７やポンプ２
２の起動スイッチ及びこれらを所定時間作動させるタイ
マが備えられ、また噴出口２５からの水の噴出時間を制
御するタイマも備えであるが、これらの動作時間はタイ
マーによることなく手動でＯＮ、ＯＦＦするようにして
もよい。

次にこの第１の装置の動作を説明する。

第１洗浄槽２には予め液性媒体として水を溜めておき、
またタンク２１には予備洗浄液を入れておく。予備洗浄
液としては、例えばノニオン界面活性剤、アニオン界面
活性剤及びアルカリを含有する洗浄液を用いる。

ノニオン界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアル
キルアリルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ポリオキ
シエチレンアルキルアミン、ソルビタンエステル、ポリ
オキシエチレンソルビタンエステル等の周知のノニオン
界面活性剤が挙げられ、その使用量は通常予備洗浄液全
体に対して０．２〜２０重景％が適当である。

またアニオン界面活性剤としては、高級アルコール硫酸
エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル塩、高
級脂肪酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、α−オレ
フィンスルホン酸塩、高級アルコールリン酸エステル塩
等の周知のアニオン界面活性剤が挙げられ、さらに塩と
してはアルカリ金属塩又は有機アミン塩等が使用される
。アニオン界面活性剤の量は全予備洗浄液に対して０．
２〜２０重量％が適当である。

さらにアルカリとしては、苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸
ソーダ、珪酸ソーダ、リン酸ソーダ等が挙げられ、全予
備洗浄液に対して０．１−１０％程度が使用される。な
お、以上の成分以外に周知の洗浄用添加剤を併用するこ
ともできる。

そして、第１支持枠３に遊技盤２７を支持させる。遊技
盤２７は、盤面の釘２８を下向きにして第１支持枠３の
支持片９に載せて支持させる。第１支持枠３の左右の支
持枠９の距離は遊技盤２７に予め併せて設定しておけば
よい。

最初は、遊技盤２７を支持した第１支持枠３を第６図に
鎖線で示すように傾斜位置としておき、この状態で噴出
口２４を取り出して、これから予備洗浄液を遊技盤２７
の盤面に向けて噴出させることにより予備洗浄を行う。

この予備洗浄は一般に室温で行い、盤面に均一に予備洗
浄液を吹きつける。吹きつけ量としては盤面１ｄあた／
）０．０２〜ＩＣＣ程度が適当であり、この噴出をタイ
マ制御する場合には、前記適当量になるように噴出時間
をセットしておく。

このときの遊技盤２７の盤面は斜め下向きであって、こ
の盤面に対して大体直角方向から吹きつけることにより
、予備洗浄液は盤面にのみ供給され、遊技盤２７の側面
は濡れることがない。また吹きつけられた予備洗浄液は
盤面に沿って第１洗浄槽２内に流下し、第１洗浄槽２内
の液性媒体に混入される。

次いで、遊技盤２７を支持したままの第１支持枠３を水
平位置に旋回させる。これにより盤面が第１洗浄槽２内
の予備洗浄液の液面に接する位置となり、釘２８は予備
洗浄液内に浸漬される。

この状態において超音波発振器１７を起動する。

超音波の照射時間は５秒〜５分間、室温下で行う。

かくして、振動子１８及び振動板１９の振動が液性媒体
を介して釘２８及び遊技盤２７の盤面に伝達されて、こ
れにより発生したキャビテーションによる物理的剥離力
と、前記予備洗浄液の吹きつけによる汚れの乳化作用と
の相乗作用によって、表面に付着している頑固な汚れが
除去される。特に、予備洗浄液が液性媒体内に混入して
いるために、液性媒体自体にも洗浄力が付与されている
から、汚れの除去力は大となっている。前記洗浄液は界
面活性剤を含むものであって、油脂分を主として除去す
ることになる。

次に、第１支持枠３を再び傾斜位置にして、この状態で
噴出口２５を取り出し、これにより水を遊技盤２７の盤
面に吹きつけ、よって最終的に盤面を洗い流す。この水
も第１洗浄槽２内に流下するから、噴出口２５からの供
給量を多めにしておけば、第１洗浄槽２内の液性媒体が
溢水口１４からオーバーフローすることにより、その清
浄度が一定に保たれる。

次に、第８図以下に示される第２の装置Ｂについて説明
する。

この第２の装置Ｂは、箱状本体３１内の上部に第２洗浄
槽３２が設けられ、こ−の第２洗浄槽３２の上側に、第
２洗浄槽３２の上縁を囲む固定枠３３が固定される。こ
の固定枠３３のうち前側の片と後側の片に水平方向の長
孔３３ａが形成される一方、これら前後の片の間に、左
右において支持片３４が夫々架設され、各支持片３４の
前後端に固定された縦長片３５が、固定枠３３の前記前
後の片に夫々取付けられる。前記支持片３４はアングル
材のように断面鉤型をした型材により構成されている。

前記縦長片３５には縦に長い長孔３５ａが形成されて、
この長孔３５ａと固定枠３３の前記長孔３３ａとを貫通
したボルトナツト３６により、縦長片３５を介して前記
支持片３４が固定枠３３に取付けられている。左右の支
持片３４により第２支持枠３７が構成されて、前記長孔
３３ａ、３５ａとボルトナツト３６とによって、第２洗
浄槽３２に対する第２支持枠３７の高さと、第２支持枠
３７の幅寸法が調節自在になっている。

第２洗浄槽３２内には洗浄液３日が溜められ、第２洗浄
槽３２に開口された溢水口３９により、その液面は常時
一定に保持される。箱状本体３１の後部に立設された立
ち上がり部４１の上部にタンク４２が内蔵され、このタ
ンク４２内に前記洗浄液３８が収容されており、これか
ら下方に延びる供給管４３の下端に開口された供給口４
４が前記第２洗浄槽３２に臨んでいる。なお、このタン
ク４２は、前記溢水口３９より上であればどの位置にあ
ってもよい。

多数の遊技盤２７の洗浄を連続的に行う場合には、前記
供給管４３の中途に設けた弁４５の開度調部によって、
供給口４４から第２洗浄槽３２に流下する洗浄液３８の
量を設定して、洗浄液３日が滴下する程度の量を継続し
て供給する。これにより多数の遊技盤２７を連続処理し
ても、第２洗浄槽３２内の洗浄液３８は少量づつ交換さ
れて、常時所定の清浄度を保ことかできる。また少数の
遊技盤２７のみを洗浄する場合で、第２洗浄槽３２内に
一旦溜めた洗浄液３８のみで足りる場合には、弁４５を
閉じておけばよい。なお、タンク４２にポンプ等を連結
してその圧力により洗浄液３８を第２洗浄槽３２に供給
する構成にすれば、タンク４２の位置は前記溢水口３９
より下位にあってもよい。

前記タンク４２の右側にあるのは排気ダクト４６であっ
て、洗浄液３８等から出る臭い等を排出するために用い
る。この排気ダクト４６の上端をさらに延長ダクトに連
結することも可能である。

前記第２洗浄槽３２の下側には排液受け４７があって、
溢水口３９からの排液を排液タンク４８に流下させる。

この排液タンク４８内の排液はさらに排液管４９によっ
て処理施設等の外部に排出できるようにしである。この
排液系は一例であって、溢水口３９からの排液を必要に
応じて処理した後に放流できるものであればよい。また
、場合によっては濾過等の処理の後に再使用するもので
あってもよい。

この実施例の第２の装置Ｂには、前記箱状本体３１と一
体にもう一つの箱状本体５１が形成され、その上部に水
洗槽５２が配置される。この水洗槽５２内には、遊技盤
２７を立て掛ける立掛器５３が設けられ、また水洗槽５
２には排水管５４が連結される。この排水管５４の下端
は箱状本体５１外に延びて、必要に応じて処理設備を経
てから放流路に連続している。

また、箱状本体５１の前部の二重壁内に、前記第１の装
置Ａにおける噴出口２５及びホース２６と同様に水洗用
のホース５５と、その先端の噴出口５６とが収容され、
これを二重壁内から引き出して立掛器５３に立て掛けた
遊技盤２７を水洗するようにしである。ホース５５の基
端は、箱状本体５１内のポンプ５７に連続しており、こ
のポンプ５７は水の供給管５８に連結されている。なお
、ポンプ５７を用いることなく供給管５８内の水圧によ
って噴出口５６から水を噴出するものであってもよいこ
とは勿論である。

かかる第２の装置Ｂによる洗浄手順を次に説明する。こ
の第２の装置Ｂは、この実施例では前記第１の装置Ａの
隣に設置するものとし、前記第１の装置Ａにより洗浄さ
れた遊技盤２７をさらに第２の装置Ｂで洗浄するものと
し、た。

まず、第２洗浄槽３２内には溢水口３９に達する量の洗
浄液３８を供給しておく。この洗浄液３８としては、こ
の実施例では酸化剤及び鉱酸を含有する水溶液を用いる
；酸化剤としては、例えば過酸化水素、過マンガン酸カ
リ、過硫酸アンモニウム、次亜塩素酸ソーダ等の水溶性
の酸化剤があげられ、また鉱酸としては硫酸、硝酸、塩
酸、リン酸等が使用される。酸化剤の濃度は水溶液全量
に対して５〜３０重量％程度が、また鉱酸の濃度は水溶
液全量に対して１〜１０重量％程度が適当である。また
、この洗浄液３８中には、界面活性剤及び安定剤等の各
種添加剤を配合することができる。

かかる洗浄液３８に遊技盤２７の盤面と釘２８とを接触
処理する。そのために遊技盤２７を盤面を下向きにして
第２支持枠３７に支持させる。第２支持枠３７は、左右
の支持片３４の間隔を、ボルトナツト３６と固定枠３３
の長孔３３ａとを用いて、遊技盤２７の寸法に応じて予
め調整しておき、また高さをボルトナツト３６と縦長片
３５の長孔３５ａとを用いて予め調整しておくことによ
り、遊技盤２７の盤面が洗浄液３８の液面に接するか僅
かに浸る程度にすることができる。なお、タンク４２か
らの洗浄液３８の供給は必要に応じて前記の通りに行う
。

盤面と釘２８との洗浄液３８への接触によりこれらが洗
浄される。この洗浄は、主として釘２８表面の酸化膜等
の錆頻を除去するものである。この接触処理時間は室温
ないし５０℃程度において５秒〜３分間であり、この時
間は洗浄液３日の成分等の条件によって相違する。前記
条件に応じてタイマーをセントしておき、第２支持枠３
７に遊技盤２７を支持させたときにタイマーの起動ボタ
ンを押せば、タイムアツプにより燈火等の表示によって
遊技盤２７を第２支持枠３７から取り上げるべきことが
通知される。この時点で、釘２８は酸化膜等の錆類その
他が除去されて黄銅特有の金色の地肌が表れるために新
品同様にピカピカした光沢ある釘が再現されることにな
る。

次に遊技盤２７を隣の水洗槽５２に移し、立掛器５３に
立て掛け、噴出口５６を手に持ち、水を遊技盤２７の盤
面に吹きつけて、盤面及び釘２８に付着した洗浄液３８
を水洗する。水の吹きつけ時間をタイマでセットしてお
くことにより、タイムアツプ時に水の噴出を自動停止で
きるようにしておいてもよい。これらのタイマの起動ボ
タン５９と、タイムアツプ表示燈６１とが、前記立ち上
がり部４１と一体に箱状本体５１の後部に設けられた立
ち上がり部６２に配置されている。

前記水洗処理を経た遊技盤２７は、必要により防錆処理
されてから乾燥されて全工程が終了する。

防錆処理する場合には、防錆剤を含有する水溶液と接触
処理する。防錆剤としては、例えば石油スルホン酸塩、
ジアルキルナフタリンスルホン酸塩、オレイン酸塩、ア
ルケニルコハク酸塩、ナフテン酸塩、ソルビクンモノオ
レート、ペンタエリスリットモノオレート、１，２．３
−ベンゾトリアゾール等の周知の防錆剤を用いることが
できる。水溶液中の防錆剤濃度は０．１〜５重量％程度
が適当である。また、防錆剤水溶液に、メタノールのよ
うな親水性有機溶媒を５〜２０重量％程度添加すると、
防錆剤の遊技盤２７への馴染みが良好となる。防錆剤水
溶液は遊技盤２７の盤面に向けて噴霧又は散布すること
が好適である。その量は盤面の１ｄあたり０．０１〜０
．５ｃｃ程度が適当である。

以上の洗浄は、第１の装置Ａを用いての油脂分を主とす
る汚れの洗浄と、第２の装置Ｂとを用いての酸化膜等の
錆類を主とする汚れの洗浄とを行ったが、何れか一方の
装置のみによる前記一方の洗浄のみを行うこともできる
。

〔発明の効果〕

第１の装置（第１請求項の洗浄装置）にあっては、遊技
盤を支持する第１支持枠が傾斜位置と水平位置との間で
旋回できるから、傾斜位置にすると遊技盤面への洗浄液
や水の吹きつけ作業が容易となり、且つ水平位置にする
と盤面が液性媒体に浸かるから、超音波振動により能率
的に汚れを落とすことができる。特に、第１支持枠の前
記三位置間の変化は第１支持枠を単に旋回させるだけで
足りるから、傾斜位置での予備−洗浄と水平位置での超
音波振動による洗浄との間の切換え作業が簡単になると
いう効果がある。また、予備洗浄液が第１洗浄槽内に流
下することにより、超音波振動による洗浄時にも予備洗
浄液の洗浄作用を得ることができるから洗浄効率が高い
。

第２の装置（第２請求項の洗浄装置）にあっては、第２
支持枠の第２洗浄槽に対する高さ位置が可変であり、且
つ第２支持枠を構成する枠片の対の間隔が可変であるか
ら、第２洗浄槽内の洗浄液面に対して遊技盤を正確な位
置にセットすることができる。このため遊技盤に余分な
洗浄液を付着させることがないから、遊技盤の変形等の
不具合を未然に防止することができるし、盤面には洗浄
液を充分に接触させることができるから、その洗浄を確
実に行うことができる。

さらに、第１の装置と第２の装置とからなる洗浄装置に
あっては、前記第１及び第２の装置の両効果を得ること
ができるから、遊技盤の釘を含む盤面を充分に洗浄する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１の洗浄装置の一部切欠平面図、第２図は第
１図の■−■線断面図、第３図は第１図の第１支持枠の
拡大平面図、第４図（ａ）は第３図のＩＶ−ＴＶ線断面
図、同図（６）は同図（ａ）と同位置における他の例を
示す断面図、第５図は第３図のＶ−Ｖ線断面図、第６図
は第１支持枠の旋回の様子を示す断面図、第７図は第２
の洗浄装置の一部切欠平面図、第８図は第７図の■−■
線断面図、第９図は第７図のＩＸ−ＩＸ線断面拡大図、
第１Ｏ図は第９図のＸ−Ｘ線断面図を示す。１・・・箱状本体、２・・・第１洗浄槽、３・・・第１
支持枠、３ａ・・・静止機構、４・・・ヒンジ、５，６
，７．８・・・枠片、９・・・支持片、１４・・・溢水
口、１７・・・超音波発振器、１日・・・振動子、１９
・・・振動板、２４・・・噴出口、２７・・・遊技盤、
２８・・・釘、３１・・・箱状本体、３２・・・第２洗
浄槽、３３・・・固定枠、３３ａ・・・長孔、３４・・
・支持片、３５・・・縦長片、３５ａ・・・長孔、３６
・・・ボルトナツト、３７・・・第２支持枠、３８・・
・洗浄液、３９・・・溢水口、４２・・・洗浄液のタン
ク、４４・・・供給口、５１・・・箱状本体、５２・・
・水洗槽、５３・・・立掛器

Claims

【特許請求の範囲】

（１）表面に多数の釘が植設された遊技盤を下向きに支
持する第１支持枠を、第１洗浄槽に、この洗浄槽内の液
性媒体に遊技盤の釘を浸漬する水平位置と、遊技盤表面
が液性媒体から離れて斜め下向きの傾斜位置との間で旋
回自在に取付けるとともに、この第１洗浄槽には超音波
発振器に連結された振動板と予備洗浄液の噴出口とを設
けたことを特徴とする遊技盤の釘の洗浄装置。
（２）表面に多数の釘が植設された遊技盤を下向きに支
持する第２支持枠を、洗浄液が満たされる第２洗浄槽の
上部に昇降可能に設けるとともに、前記第２洗浄槽と第
２支持枠との間に第２支持枠の高さ位置を固定する位置
決め機構を設け、前記支持枠を、これを構成する前後の
枠片の対と、左右の枠片の対との少なくとも何れかの間
隔を可変に構成し、さらに前記第２洗浄槽には洗浄液の
供給口を臨ませ且つ前記洗浄液の溢液口を形成したこと
を特徴とする遊技盤の釘の洗浄装置。
（３）表面に多数の釘が植設された遊技盤を下向きに支
持する第１支持枠を、第１洗浄槽に、この洗浄槽内の液
性媒体に遊技盤の釘を浸漬する水平位置と、遊技盤表面
が液性媒体から離れて斜め下向きの傾斜位置との間で旋
回自在に取付けるとともに、この第１洗浄槽には超音波
発振器に連結された振動板と予備洗浄液の噴出口とを設
けてなる遊技盤の釘の予備洗浄装置と、表面に多数の釘が植設された遊技盤を下向きに支持する
第２支持枠を、洗浄液が満たされる第２洗浄槽の上部に
昇降可能に設けるとともに、前記第２洗浄槽と第２支持
枠との間に第２支持枠の高さ位置を固定する位置決め機
構を設け、前記支持枠を、これを構成する前後の枠片の
対と、左右の枠片の対との少なくとも何れかの間隔を可
変に構成し、さらに前記第２洗浄槽には洗浄液の供給口
を臨ませ且つ前記洗浄液の溢液口を形成した遊技盤の釘
の本洗浄装置と、により構成したことを特徴とする遊技盤の釘の洗浄装置
。