JPH0339751Y2 - - Google Patents
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- JPH0339751Y2 JPH0339751Y2 JP4018686U JP4018686U JPH0339751Y2 JP H0339751 Y2 JPH0339751 Y2 JP H0339751Y2 JP 4018686 U JP4018686 U JP 4018686U JP 4018686 U JP4018686 U JP 4018686U JP H0339751 Y2 JPH0339751 Y2 JP H0339751Y2
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Landscapes
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、振動の減衰手段を設けた微動テー
ブル装置に関し、特に高精度露光装置用の高速位
置決めを可能にした微動テーブル装置に関する。
ブル装置に関し、特に高精度露光装置用の高速位
置決めを可能にした微動テーブル装置に関する。
半導体集積回路の製造工程には、フオトレジス
トを塗布したウエハに回路パターンを露光して焼
付ける露光装置が用いられている。この露光装置
は、半導体集積回路の高集積化に伴い0.1ミクロ
ンオーダの高精度位置決めが要求されるようにな
つてきている。
トを塗布したウエハに回路パターンを露光して焼
付ける露光装置が用いられている。この露光装置
は、半導体集積回路の高集積化に伴い0.1ミクロ
ンオーダの高精度位置決めが要求されるようにな
つてきている。
そして、露光装置としては縮小投影式の露光装
置が多く採用されている。この縮小投影式の露光
装置は、ウエハに小さな集積回路パターンを一つ
づづ順に焼付けて行く所謂ステツプアンドリピー
ト式となつており、パターンの重ね合わせを考え
ない一回の工程の場合、一枚のウエハに少ないも
のでも数百回の位置決めが必要となり、この位置
決めに要する総時間が大きくなるため、露光工程
の能率を向上させるためには、位置決めを短時間
で行うことが必要となる。
置が多く採用されている。この縮小投影式の露光
装置は、ウエハに小さな集積回路パターンを一つ
づづ順に焼付けて行く所謂ステツプアンドリピー
ト式となつており、パターンの重ね合わせを考え
ない一回の工程の場合、一枚のウエハに少ないも
のでも数百回の位置決めが必要となり、この位置
決めに要する総時間が大きくなるため、露光工程
の能率を向上させるためには、位置決めを短時間
で行うことが必要となる。
従来の微動テーブル装置としては、本出願人が
提案した実開昭58−105604号公報に開示されてい
るものがある。この従来例は、粗動テーブル上に
微動台を弾性的に支持し、微動台に形成した制振
部と粗動テーブルに形成した受面との間に粘性流
体を満たし、微動台に振動の減衰効果を付与した
構成を有する。
提案した実開昭58−105604号公報に開示されてい
るものがある。この従来例は、粗動テーブル上に
微動台を弾性的に支持し、微動台に形成した制振
部と粗動テーブルに形成した受面との間に粘性流
体を満たし、微動台に振動の減衰効果を付与した
構成を有する。
しかしながら、上記従来の微動テーブル装置に
あつては、制振部の制振面と粗動テーブルの受面
との間に満たされた高粘度の粘性流体によつて、
粗動テーブルを高速移動させたときに微動台に生
じる振動を効果的に減衰させて位置決めを高速度
で行うことができる効果を有するものであるが、
制振部が粘性流体内に浸漬されているので、振動
の減衰効果を高めるために、粘性流体の粘度を高
めると、微動台を電磁石等の移動機構によつて微
動させる際に、制振部の側壁が粘性流体を圧縮す
ることによる抵抗が極めて大きいため、微動台の
移動が妨げられ好ましくない。このため、微動台
の円滑な移動を確保しようとすると、粘性流体の
粘度を極端に低下させなければならず、振動の減
衰効果が減少し、微動台の円滑な移動と振動の減
衰効果との双方を同時に満足させることができな
いという未解決の問題点があつた。
あつては、制振部の制振面と粗動テーブルの受面
との間に満たされた高粘度の粘性流体によつて、
粗動テーブルを高速移動させたときに微動台に生
じる振動を効果的に減衰させて位置決めを高速度
で行うことができる効果を有するものであるが、
制振部が粘性流体内に浸漬されているので、振動
の減衰効果を高めるために、粘性流体の粘度を高
めると、微動台を電磁石等の移動機構によつて微
動させる際に、制振部の側壁が粘性流体を圧縮す
ることによる抵抗が極めて大きいため、微動台の
移動が妨げられ好ましくない。このため、微動台
の円滑な移動を確保しようとすると、粘性流体の
粘度を極端に低下させなければならず、振動の減
衰効果が減少し、微動台の円滑な移動と振動の減
衰効果との双方を同時に満足させることができな
いという未解決の問題点があつた。
そこで、この考案は、上記従来例の問題点に着
目してなされたものであり、微動台の円滑な移動
と振動の減衰効果との双方を同時に満足させて短
時間で正確な位置決めを行うことが可能な微動テ
ーブル装置を提供をすることを目的としている。
目してなされたものであり、微動台の円滑な移動
と振動の減衰効果との双方を同時に満足させて短
時間で正確な位置決めを行うことが可能な微動テ
ーブル装置を提供をすることを目的としている。
上記目的を達成するために、この考案は、互い
に直交する2つの方向に移動可能で且つ粗動テー
ブルに弾性的に支持された微動台を有する微動テ
ーブル装置において、前記微動台はその移動面と
平行な制振面を形成した制振部を有し、前記粗動
テーブルは前記制振部の制振面と近接対向する受
面を有し、該受面とこれに対向する前記制振面と
の間にその間隔以内の高さとされ且つ前記受面と
前記制振面との間を満たす高粘度の粘性流体を介
在させ、前記制振面部に減衰効果を付与させたこ
とを特徴としている。
に直交する2つの方向に移動可能で且つ粗動テー
ブルに弾性的に支持された微動台を有する微動テ
ーブル装置において、前記微動台はその移動面と
平行な制振面を形成した制振部を有し、前記粗動
テーブルは前記制振部の制振面と近接対向する受
面を有し、該受面とこれに対向する前記制振面と
の間にその間隔以内の高さとされ且つ前記受面と
前記制振面との間を満たす高粘度の粘性流体を介
在させ、前記制振面部に減衰効果を付与させたこ
とを特徴としている。
〔作用〕
この考案においては、粗動テーブル上に弾性的
に支持された微動台の支持部に形成した振部の制
振面と粗動テーブルの受面との間に、その間隔以
内の高さとされ且つ前記受面と前記制振面との間
を満たす高粘度の粘性流体を介在させ、この粘性
流体による振動減衰効果を微動台の制振部の制振
面のみに付与するようにし、相対移動する制振面
又は受面端に接続して形成された側端面には、粘
性流体が接触しないようにすることにより、粘性
流体によつて粗動テーブルの高速移動時の振動を
減衰させる効果を発揮させると共に、移動機構に
よつて微動台を微動させる際には、制振部の側端
面に粘性流体が作用することなく、XY移動即ち
受面と平行な面内での移動のときの抵抗が大きく
ならないようにして、振動の制振効果と微動台の
円滑な移動とを確保するようにした。
に支持された微動台の支持部に形成した振部の制
振面と粗動テーブルの受面との間に、その間隔以
内の高さとされ且つ前記受面と前記制振面との間
を満たす高粘度の粘性流体を介在させ、この粘性
流体による振動減衰効果を微動台の制振部の制振
面のみに付与するようにし、相対移動する制振面
又は受面端に接続して形成された側端面には、粘
性流体が接触しないようにすることにより、粘性
流体によつて粗動テーブルの高速移動時の振動を
減衰させる効果を発揮させると共に、移動機構に
よつて微動台を微動させる際には、制振部の側端
面に粘性流体が作用することなく、XY移動即ち
受面と平行な面内での移動のときの抵抗が大きく
ならないようにして、振動の制振効果と微動台の
円滑な移動とを確保するようにした。
〔実施例〕
以下、この考案の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
まず、この考案を適用し得る縮小投影露光装置
の概要を第1図について説明する。
の概要を第1図について説明する。
図中、101は縮小投影露光装置であつて、こ
の縮小投影露光装置101は、ウエハ102を載
置するステージ103と、その上面に対向して固
定配置された縮小レンズ104と、その上方位置
に配置されたレチクル105を載置するレチクル
載置台106と、その上方位置に配置された露光
光源部107とから構成されており、光源部10
7からの露光光線がレチクル105及び縮小レン
ズ104を通つて複合移動テーブル装置としての
XYZステージ103上のウエハ102に照射さ
れ、レチクル105に形成された回路パターンは
ウエハ102上に結像され、縮小投影がなされ
る。
の縮小投影露光装置101は、ウエハ102を載
置するステージ103と、その上面に対向して固
定配置された縮小レンズ104と、その上方位置
に配置されたレチクル105を載置するレチクル
載置台106と、その上方位置に配置された露光
光源部107とから構成されており、光源部10
7からの露光光線がレチクル105及び縮小レン
ズ104を通つて複合移動テーブル装置としての
XYZステージ103上のウエハ102に照射さ
れ、レチクル105に形成された回路パターンは
ウエハ102上に結像され、縮小投影がなされ
る。
XYZステージ103は、駆動機構2によつて
XYZ軸の3軸方向に移動可能に構成され、XY軸
方向に移動させることにより、ウエハ102の露
光位置を選択すると共に、Z軸方向に移動させる
ことにより焦点調整を行う。
XYZ軸の3軸方向に移動可能に構成され、XY軸
方向に移動させることにより、ウエハ102の露
光位置を選択すると共に、Z軸方向に移動させる
ことにより焦点調整を行う。
このXYZステージ103の具体的構成は、第
2図〜第6図に示すように構成されている。
2図〜第6図に示すように構成されている。
すなわち、第2図において、1は基台であり、
X軸駆動機構2a,Y軸駆動機構2bによつて水
平面内のX軸及びY軸方向に移動される粗動テー
ブル3上に載置されている。
X軸駆動機構2a,Y軸駆動機構2bによつて水
平面内のX軸及びY軸方向に移動される粗動テー
ブル3上に載置されている。
この基台1の中央部には、第3図及び第4図に
示すように、案内台4が取付けられている。この
案内台4は、上面側に前下がりに傾斜する幅広の
凹部5を有して断面コ字状に形成されている。
示すように、案内台4が取付けられている。この
案内台4は、上面側に前下がりに傾斜する幅広の
凹部5を有して断面コ字状に形成されている。
そして、案内台4の凹部5内に斜面スライダ7
が水平面に対して傾斜したクロスローラガイド8
によつて支持されると共に、案内されて凹部5の
底面に沿う方向に摺動可能なように配設されてい
る。この斜面スライダ7は、その下面7aが凹部
5の傾斜面と平行な傾斜面とされ、且つ上面7b
が水平面とされた台形状に形成されている。そし
て、斜面スライダ7は、第4図に示すように、そ
の後端部にボールナツト6が固着され、このボー
ルナツト6に送りねじ軸11が螺合している。こ
の送りねじ軸11は、駆動機構を構成する直流モ
ータ10の回転軸に連結され、このモータ10に
はその回転角を検出するエンコーダ9が取付けら
れ、その検出信号に基づきモータ10がサーボ制
御される。したがつて、直流モータ10を回転駆
動させると、斜面スライダ7は案内台4における
凹部5の底面の延長方向に移動される。
が水平面に対して傾斜したクロスローラガイド8
によつて支持されると共に、案内されて凹部5の
底面に沿う方向に摺動可能なように配設されてい
る。この斜面スライダ7は、その下面7aが凹部
5の傾斜面と平行な傾斜面とされ、且つ上面7b
が水平面とされた台形状に形成されている。そし
て、斜面スライダ7は、第4図に示すように、そ
の後端部にボールナツト6が固着され、このボー
ルナツト6に送りねじ軸11が螺合している。こ
の送りねじ軸11は、駆動機構を構成する直流モ
ータ10の回転軸に連結され、このモータ10に
はその回転角を検出するエンコーダ9が取付けら
れ、その検出信号に基づきモータ10がサーボ制
御される。したがつて、直流モータ10を回転駆
動させると、斜面スライダ7は案内台4における
凹部5の底面の延長方向に移動される。
斜面スライダ7の水平上面7bには、保持器1
3bにより相互に離間された転動体である鋼球1
3aを介して微動テーブルブロツク14が水平面
内で移動可能に載置されている。ここで、保持器
13bは、高精度に仕上げられた多数のボール1
3aを回転自在に保持するようにされている。な
お、13cは保持器の抜出しを防止するストツパ
ーである。
3bにより相互に離間された転動体である鋼球1
3aを介して微動テーブルブロツク14が水平面
内で移動可能に載置されている。ここで、保持器
13bは、高精度に仕上げられた多数のボール1
3aを回転自在に保持するようにされている。な
お、13cは保持器の抜出しを防止するストツパ
ーである。
一方、基台1上には、第3図に示す如く、その
左右両側部にコ字状の支持台16a,16bが固
着され、これら支持台16a,16b上に形成さ
れた受面16c,16dに 、XY軸方向に移動
可能な微動台としての微動テーブル17が高粘度
の粘性流体としてのシリコンオイル16e(粘度
105センチストークス程度)を介した状態でXY
方向に移動可能に基台1に支持されている。
左右両側部にコ字状の支持台16a,16bが固
着され、これら支持台16a,16b上に形成さ
れた受面16c,16dに 、XY軸方向に移動
可能な微動台としての微動テーブル17が高粘度
の粘性流体としてのシリコンオイル16e(粘度
105センチストークス程度)を介した状態でXY
方向に移動可能に基台1に支持されている。
この移動テーブル17は、第2図及び第3図に
示す如く、正方形部17aとその左右側面から段
部17bを形成して外方に延長する支持部17
c,17dとが一体に構成され、正方形部17a
の中央部に略正方形の透孔17eが、支持部17
c,17dに長方形の透孔17f,17gが夫々
穿設され、透孔17f,17g内に夫々前記支持
台16a,16bに僅かな隙間を介して対向する
制振面18を有する制振部材19が入れ込まれた
形で微動テーブル17に固着されており、また、
透孔17e内に前記微動テーブルブロツク14が
挿入されている。そして、微動テーブル17の上
面と微動テーブルブロツク14の上面との間に
は、第5図及び第6図に示すように、板ばね20
が橋架され、微動テーブルブロツク14は微動テ
ーブル17に対しXY方向の移動を不能とされた
状態でZ軸方向へは板ばね20の撓みにより微小
移動可能とされている。ここで、支持台16a,
16bの受面16c,16dと微動テーブル17
の制振面18との間の間隔は50ミクロン程度と
し、これら間にシリコンオイル17eが、微動テ
ーブル17が中立位置にある状態で、受面16
c,16dとこれらに対向する制振面18との間
隔以内の高さとされ且つ受面16c,16dと前
記制振面との間を満たすように介在されている。
したがつて、微動テーブル17が後述する電磁石
26a,26b,28a,28bによつて最大限
移動されても、シリコンオイル17eが制振部1
9の側端面に接触することがない。
示す如く、正方形部17aとその左右側面から段
部17bを形成して外方に延長する支持部17
c,17dとが一体に構成され、正方形部17a
の中央部に略正方形の透孔17eが、支持部17
c,17dに長方形の透孔17f,17gが夫々
穿設され、透孔17f,17g内に夫々前記支持
台16a,16bに僅かな隙間を介して対向する
制振面18を有する制振部材19が入れ込まれた
形で微動テーブル17に固着されており、また、
透孔17e内に前記微動テーブルブロツク14が
挿入されている。そして、微動テーブル17の上
面と微動テーブルブロツク14の上面との間に
は、第5図及び第6図に示すように、板ばね20
が橋架され、微動テーブルブロツク14は微動テ
ーブル17に対しXY方向の移動を不能とされた
状態でZ軸方向へは板ばね20の撓みにより微小
移動可能とされている。ここで、支持台16a,
16bの受面16c,16dと微動テーブル17
の制振面18との間の間隔は50ミクロン程度と
し、これら間にシリコンオイル17eが、微動テ
ーブル17が中立位置にある状態で、受面16
c,16dとこれらに対向する制振面18との間
隔以内の高さとされ且つ受面16c,16dと前
記制振面との間を満たすように介在されている。
したがつて、微動テーブル17が後述する電磁石
26a,26b,28a,28bによつて最大限
移動されても、シリコンオイル17eが制振部1
9の側端面に接触することがない。
また、基台1には、第5図及び第6図に示すよ
うに、前後方向の端部に夫々コ字状の支持台21
a,21bが固着され、これら支持台21a,2
1bの脚部に板ばね22を介してX方向に移動可
能なコ字状のブロツク23a,23bが連接され
ている。これらブロツク23a,23bの両側の
支柱部24f,24rは、上方に前記微動テーブ
ル17の段部17bの近傍に延長され、支柱部2
4fの前端側及び支柱部24rの後端側と微動テ
ーブルブ17の正方形17aとが板ばね25によ
つて連結されている。
うに、前後方向の端部に夫々コ字状の支持台21
a,21bが固着され、これら支持台21a,2
1bの脚部に板ばね22を介してX方向に移動可
能なコ字状のブロツク23a,23bが連接され
ている。これらブロツク23a,23bの両側の
支柱部24f,24rは、上方に前記微動テーブ
ル17の段部17bの近傍に延長され、支柱部2
4fの前端側及び支柱部24rの後端側と微動テ
ーブルブ17の正方形17aとが板ばね25によ
つて連結されている。
そして、前記支持台21a,21b上に夫々コ
字状鉄心に励磁コイルを巻回した電磁石26a,
26bが配設され、これら電磁石26a,26b
の両端部が微動テーブル17の前後側縁に固着さ
れた磁性板27a,27bに所定間隔を保つて対
向され、且つ基台1の支持台16a,16bの下
側に同様のコ字状鉄心に励磁コイルを巻回した電
磁石28a,28bが配設され、これらの電磁石
28a,28bの両端部がブロツク23a,23
bの中央部に固着された磁性板29a,29bに
所定間隔を保つて対向されている。したがつて、
電磁石28a,28bの励磁コイルに通電する励
磁電流量を対向する電磁石の磁力を基準値より一
方を増加し、他方を減少させるようにして、板ば
ねの変位に対するばね力とバランスさせるように
調整することにより、ブロツク23a,23bを
板ばね22に抗してX方向に微動させ、これによ
り板ばね25によつて連接された微動テーブル1
7をX方向に微動させる。また、電磁石26a,
26bの励磁コイルに通電する励磁電流量を対向
する電磁石の磁力を基準値より一方を増加し、他
方を減少させるようにして、板ばねの変位に対す
るばね力とバランスさせるように調整することに
より、板ばね25に抗して微動テーブル17をY
方向に微動させる。
字状鉄心に励磁コイルを巻回した電磁石26a,
26bが配設され、これら電磁石26a,26b
の両端部が微動テーブル17の前後側縁に固着さ
れた磁性板27a,27bに所定間隔を保つて対
向され、且つ基台1の支持台16a,16bの下
側に同様のコ字状鉄心に励磁コイルを巻回した電
磁石28a,28bが配設され、これらの電磁石
28a,28bの両端部がブロツク23a,23
bの中央部に固着された磁性板29a,29bに
所定間隔を保つて対向されている。したがつて、
電磁石28a,28bの励磁コイルに通電する励
磁電流量を対向する電磁石の磁力を基準値より一
方を増加し、他方を減少させるようにして、板ば
ねの変位に対するばね力とバランスさせるように
調整することにより、ブロツク23a,23bを
板ばね22に抗してX方向に微動させ、これによ
り板ばね25によつて連接された微動テーブル1
7をX方向に微動させる。また、電磁石26a,
26bの励磁コイルに通電する励磁電流量を対向
する電磁石の磁力を基準値より一方を増加し、他
方を減少させるようにして、板ばねの変位に対す
るばね力とバランスさせるように調整することに
より、板ばね25に抗して微動テーブル17をY
方向に微動させる。
また、微動テーブルブロツク14の上面には、
第3図及び第4図に示す如く、幅広のチヤツク取
付板30が固着され、このチヤク取付板30上に
円板状の治具チヤク31が固着されている。この
治具チヤツク31は、上面に扇状とされた凹所3
2が所定間隔を保つて形成されていると共に、位
置決め用ピン33が上面に植設され、さらに外周
縁部に位置決め用環状枠34が固着され、また内
部に、真空源(図示せず)に接続された、左端縁
から中心部に達し、これから上面に開口する通孔
35aと、この通孔35aを囲むようにコ字状に
形成された通孔35bとを有し、通孔35bが前
記各凹所32に連通されている。そして、治具チ
ヤツク31上にウエハ又はレチクルを載置するウ
エハチヤツク37が載置されている。このチヤツ
ク37は、治具チヤツク31に真空吸着され、下
面中心部から上方に向かう通孔38と、中心部か
ら半径方向に延長する通孔39とを有し、通孔3
9と上面間に所定間隔で吸引口が開口されてい
る。
第3図及び第4図に示す如く、幅広のチヤツク取
付板30が固着され、このチヤク取付板30上に
円板状の治具チヤク31が固着されている。この
治具チヤツク31は、上面に扇状とされた凹所3
2が所定間隔を保つて形成されていると共に、位
置決め用ピン33が上面に植設され、さらに外周
縁部に位置決め用環状枠34が固着され、また内
部に、真空源(図示せず)に接続された、左端縁
から中心部に達し、これから上面に開口する通孔
35aと、この通孔35aを囲むようにコ字状に
形成された通孔35bとを有し、通孔35bが前
記各凹所32に連通されている。そして、治具チ
ヤツク31上にウエハ又はレチクルを載置するウ
エハチヤツク37が載置されている。このチヤツ
ク37は、治具チヤツク31に真空吸着され、下
面中心部から上方に向かう通孔38と、中心部か
ら半径方向に延長する通孔39とを有し、通孔3
9と上面間に所定間隔で吸引口が開口されてい
る。
また、チヤツク取付板30には、その外周縁に
第2図に示す如くY軸と平行なミラー部41aと
X軸に平行なミラー部41bとを有しL字状に形
成された反射ミラー41が固着されている。そし
て、反射ミラー41のミラー部41aに対向させ
てX軸レーザー測長器42aが、ミラー部41b
に対向させてY軸レーザー測長器42bが夫々装
置本体に固定されており、これらレーザー測長
器」42a,42bから夫々微動テーブル17の
X軸及びY軸方向の絶対位置を表す位置検出信号
が出力される。これら位置決検出信号によつて微
動テーブル17の位置を正確に検出し、これに基
づき前記電磁石26a,26b,28a,28b
の通電量を制御し、ウエハチヤツク37のXY方
向の位置決めを行う。
第2図に示す如くY軸と平行なミラー部41aと
X軸に平行なミラー部41bとを有しL字状に形
成された反射ミラー41が固着されている。そし
て、反射ミラー41のミラー部41aに対向させ
てX軸レーザー測長器42aが、ミラー部41b
に対向させてY軸レーザー測長器42bが夫々装
置本体に固定されており、これらレーザー測長
器」42a,42bから夫々微動テーブル17の
X軸及びY軸方向の絶対位置を表す位置検出信号
が出力される。これら位置決検出信号によつて微
動テーブル17の位置を正確に検出し、これに基
づき前記電磁石26a,26b,28a,28b
の通電量を制御し、ウエハチヤツク37のXY方
向の位置決めを行う。
次に上記実施例の動作を説明する。ウエハ10
2の位置調整を行うときに、ウエハ102の移動
距離が大きい場合には、粗動テーブル3をX軸駆
動機構2a、Y軸駆動機構2bによつて高速移動
させて目標位置近傍に移動させる。このとき、粗
動テーブル3の高速移動によつて、微動台として
の微動テーブル17が板ばね22,25によつて
支持されているため、その慣性によつて移動停止
時に振動を伴うことになる。この場合の振動は、
粗動テーブル3の受面16c,16dと微動テー
ブル17の制振面18との間に高粘度のシリコン
オイル16eが介在されているので、これらシリ
コンオイル16eの粘性による減衰抵抗によつ
て、微動テーブル17の二次元的移動の何れの移
動に対しても均一に減衰され、微動テーブル17
の振動が速やかに停止される。しかも、微動テー
ブル17の両端部に夫々制振部19が形成されて
いるので、粗動テーブル3の移動によつて、微動
テーブル17にその中心線を中心とする回転モー
メントによる振動が発生しても、これを効果的に
減衰させることができる。
2の位置調整を行うときに、ウエハ102の移動
距離が大きい場合には、粗動テーブル3をX軸駆
動機構2a、Y軸駆動機構2bによつて高速移動
させて目標位置近傍に移動させる。このとき、粗
動テーブル3の高速移動によつて、微動台として
の微動テーブル17が板ばね22,25によつて
支持されているため、その慣性によつて移動停止
時に振動を伴うことになる。この場合の振動は、
粗動テーブル3の受面16c,16dと微動テー
ブル17の制振面18との間に高粘度のシリコン
オイル16eが介在されているので、これらシリ
コンオイル16eの粘性による減衰抵抗によつ
て、微動テーブル17の二次元的移動の何れの移
動に対しても均一に減衰され、微動テーブル17
の振動が速やかに停止される。しかも、微動テー
ブル17の両端部に夫々制振部19が形成されて
いるので、粗動テーブル3の移動によつて、微動
テーブル17にその中心線を中心とする回転モー
メントによる振動が発生しても、これを効果的に
減衰させることができる。
そして、この状態で、レーザー測長器42a,
42bの測定値に基づきウエハ102の位置を微
調整する場合には、レーザー測長器42a,42
bの検出値に基づき電磁石26a,26b及び/
又は電磁石28a,28bの励磁コイルへの通電
量を制御することにより、微動テーブル17を
XY方向に微動させてサブミクロンオーダの位置
決めを行うことができる。この微動テーブル17
の移動時に、制振部18の側壁はシリコンオイル
16eに接触することがないので、これを圧縮す
ることによる抵抗増を伴うことがなく、微動テー
ブル17の円滑な移動を確保することができる。
42bの測定値に基づきウエハ102の位置を微
調整する場合には、レーザー測長器42a,42
bの検出値に基づき電磁石26a,26b及び/
又は電磁石28a,28bの励磁コイルへの通電
量を制御することにより、微動テーブル17を
XY方向に微動させてサブミクロンオーダの位置
決めを行うことができる。この微動テーブル17
の移動時に、制振部18の側壁はシリコンオイル
16eに接触することがないので、これを圧縮す
ることによる抵抗増を伴うことがなく、微動テー
ブル17の円滑な移動を確保することができる。
また、露光装置101の焦点調整を行う場合に
は、焦点距離検出器(図示せず)によつて縮小レ
ンズ104を保持する筒体109の下面とウエハ
102との間に距離を検出し、その検出信号に基
づき直流モータ9を駆動することにより、斜面ス
ライダ7を前後方向に移動させて微動テーブルブ
ロツク14を上下動させて焦点調整を行う。
は、焦点距離検出器(図示せず)によつて縮小レ
ンズ104を保持する筒体109の下面とウエハ
102との間に距離を検出し、その検出信号に基
づき直流モータ9を駆動することにより、斜面ス
ライダ7を前後方向に移動させて微動テーブルブ
ロツク14を上下動させて焦点調整を行う。
なお、上記実施例においては、微動台としての
微動テーブル17の2箇所に制振部19を設けた
場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、制振部19の設置数及び面積は任意に
選定することができる。
微動テーブル17の2箇所に制振部19を設けた
場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく、制振部19の設置数及び面積は任意に
選定することができる。
また、上記実施例においては、受面16c,1
6dと制振面18との間にシリコンオイル16e
を制振面18の側縁から微動テーブル17の移動
距離分内方の位置となるように注入した場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではな
く、制振面18の前面を覆うようにしてもよく、
要は微動テーブル17の移動の際に、制振部19
の側壁にシリコンオイル16eが接触して、不必
要な抵抗を与えることがないように介在させれば
よいものである。
6dと制振面18との間にシリコンオイル16e
を制振面18の側縁から微動テーブル17の移動
距離分内方の位置となるように注入した場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではな
く、制振面18の前面を覆うようにしてもよく、
要は微動テーブル17の移動の際に、制振部19
の側壁にシリコンオイル16eが接触して、不必
要な抵抗を与えることがないように介在させれば
よいものである。
さらに、上記実施例においては、粘性流体とし
てシリコンオイル16eを適用した場合について
説明したが、これに限らず、他の高粘度を有する
粘性流体を適用し得ること勿論である。
てシリコンオイル16eを適用した場合について
説明したが、これに限らず、他の高粘度を有する
粘性流体を適用し得ること勿論である。
またさらに、上記実施例においては、この考案
を縮小投影露光装置に適用した場合について説明
したが、これに限定されるものではなく、他の等
倍露光装置等の露光装置、その他の高精度の位置
決めを必要する装置に適用し得ること勿論であ
る。
を縮小投影露光装置に適用した場合について説明
したが、これに限定されるものではなく、他の等
倍露光装置等の露光装置、その他の高精度の位置
決めを必要する装置に適用し得ること勿論であ
る。
以上説明したように、この考案によれば、互い
に直交する2つの方向に移動可能で且つ粗動テー
ブルに弾性的に支持された微動台を有する微動テ
ーブル装置において、前記微動台はその移動面と
平行な制振面を形成した制振部を有し、前記粗動
テーブルは前記制振部の制振面と近接対向する受
面を有し、該受面とこれに対向する前記制振面と
の間にその間隔以内の高さとされ且つ前記受面と
前記制振面との間を満たす高粘度の粘性流体を介
在させ、前記制振面部に減衰効果を付与させた構
成としたので、粗動テーブルの高速移動により微
動台に生じる振動を速やかに減衰させることがで
きると共に、制振部の側壁に粘性流体による抵抗
が作用することを防止して、微動台の移動を円滑
に行うことができるという効果が得られる。
に直交する2つの方向に移動可能で且つ粗動テー
ブルに弾性的に支持された微動台を有する微動テ
ーブル装置において、前記微動台はその移動面と
平行な制振面を形成した制振部を有し、前記粗動
テーブルは前記制振部の制振面と近接対向する受
面を有し、該受面とこれに対向する前記制振面と
の間にその間隔以内の高さとされ且つ前記受面と
前記制振面との間を満たす高粘度の粘性流体を介
在させ、前記制振面部に減衰効果を付与させた構
成としたので、粗動テーブルの高速移動により微
動台に生じる振動を速やかに減衰させることがで
きると共に、制振部の側壁に粘性流体による抵抗
が作用することを防止して、微動台の移動を円滑
に行うことができるという効果が得られる。
第1図はこの考案を適用した縮小投影露光装置
の一例を示す概略構成図、第2図は第1図のステ
ージの平面図、第3図は第2図の−線におけ
る断面図、第4図は第2図の−線における断
面図、第5図は第3図の−線における断面
図、第6図はXYZステージの一部を省略した斜
視図である。 図中、1は基台、2は駆動機構、2aはX軸駆
動機構、2bはY軸駆動機構、3は粗動テーブ
ル、7は斜面スライダ、14は微動テーブルブロ
ツク、16c,16dは受面、16eはシリコン
オイル(粘性流体)、17は微動テーブル、(微動
台)、18は制振面、19は制振部、26a,2
6b,28a,28bは電磁石、31は治具チヤ
ツク、37はウエハチヤツク、41は反射ミラ
ー、42aはX軸レーザー測長器、42bはY軸
レーザー測長器、101は縮小投影露光装置、1
02はウエハ、103はステージ、104は縮小
レンズ、107は露光光源部である。
の一例を示す概略構成図、第2図は第1図のステ
ージの平面図、第3図は第2図の−線におけ
る断面図、第4図は第2図の−線における断
面図、第5図は第3図の−線における断面
図、第6図はXYZステージの一部を省略した斜
視図である。 図中、1は基台、2は駆動機構、2aはX軸駆
動機構、2bはY軸駆動機構、3は粗動テーブ
ル、7は斜面スライダ、14は微動テーブルブロ
ツク、16c,16dは受面、16eはシリコン
オイル(粘性流体)、17は微動テーブル、(微動
台)、18は制振面、19は制振部、26a,2
6b,28a,28bは電磁石、31は治具チヤ
ツク、37はウエハチヤツク、41は反射ミラ
ー、42aはX軸レーザー測長器、42bはY軸
レーザー測長器、101は縮小投影露光装置、1
02はウエハ、103はステージ、104は縮小
レンズ、107は露光光源部である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 互いに直交する2つの方向に移動可能で且
つ粗動テーブルに弾性的に支持された微動台を
有する微動テーブル装置において、前記微動台
はその移動面と平行な制振面を形成した制振部
を有し、前記粗動テーブルは前記制振部の制振
面と近接対向する受面を有し、該受面とこれに
対向する前記制振面との間にその間隔以内の高
さとされ且つ前記受面と前記制振面との間を満
たす高粘度の粘性流体を介在させ、前記制振面
部に減衰効果を付与させたことを特徴とする微
動テーブル装置。 (2) 前記制振面及び受面が微動台の両側部に形成
されている実用新案登録請求の範囲第1項記載
の微動テーブル装置。 (3) 前記粘性流体は高粘度のシリコンオイルであ
る実用新案登録請求の範囲第1項又は第2項記
載の微動テーブル装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4018686U JPH0339751Y2 (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 | |
NL8700445A NL8700445A (nl) | 1986-02-28 | 1987-02-23 | Positioneertafel voor een samengestelde beweging. |
US07/019,223 US4739545A (en) | 1986-02-28 | 1987-02-26 | Composite movement table apparatus |
DE19873706327 DE3706327C2 (de) | 1986-02-28 | 1987-02-27 | Bewegliche Verbundtischanordnung für die fotolithografische Herstellung |
GB8704829A GB2188263B (en) | 1986-02-28 | 1987-03-02 | Composite movement table apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4018686U JPH0339751Y2 (ja) | 1986-03-19 | 1986-03-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62152293U JPS62152293U (ja) | 1987-09-26 |
JPH0339751Y2 true JPH0339751Y2 (ja) | 1991-08-21 |
Family
ID=30854046
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4018686U Expired JPH0339751Y2 (ja) | 1986-02-28 | 1986-03-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0339751Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-03-19 JP JP4018686U patent/JPH0339751Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62152293U (ja) | 1987-09-26 |
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