JPH033658B2 - - Google Patents

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JPH033658B2
JPH033658B2 JP57127310A JP12731082A JPH033658B2 JP H033658 B2 JPH033658 B2 JP H033658B2 JP 57127310 A JP57127310 A JP 57127310A JP 12731082 A JP12731082 A JP 12731082A JP H033658 B2 JPH033658 B2 JP H033658B2
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JP
Japan
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alkyl
phenyl
residue
dimethylaminosulfonyl
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JP57127310A
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Hide Ogata
Kozaburo Sato
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Shionogi and Co Ltd
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Shionogi and Co Ltd
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A50/00TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
    • Y02A50/30Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change

Description

【発明の詳細な説明】
本発明はスルホンアミド系ベンズアミド類に関
し、さらに詳しくは抗ウイルス剤として有用なス
ルホンアミド系ベンズアミド類に関する。 上記化合物は一般式 (式中、R1はアルキル、フエニル、ジアルキル
アミノまたは五員もしくは六員のヘテロ環残基; R2は水素、アルキルまたはフタリジル; R3は水素、アルキルまたはアルコキシ; R4は1〜2個のフエニルもしくはフリルで置
換されてもよいアルキル、シクロアルキル、縮合
ベンゼン環もしくはアルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、トリフルオロメチル、アルコキシカルボニ
ル、シアノ、カルバモイル、ヒドロキシ、ヒドロ
キシメチル、アルカノイル、ニトロ、フエニルか
らなる群から選ばれた1〜2個の置換基を有して
もよいフエニルまたは五員もしくは六員のヘテロ
環残基; R5は水素またはアルキルをそれぞれ表わす。
但し、スルホンアミド基はカルバモイル基に対し
てメタ位もしくはバラ位に存在する。)で示され
る。 上記定義で使用される用語について以下に例示
を挙げる: アルキルとしては、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、t−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの
C1−C6アルキル、 シクロアルキルとしては、シクロプロピル、シ
クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルな
どのC3〜C6シクロアルキル、 アルコキシとしてはメトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、t−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどのC1
−C6アルコキシ、 ジアルキルアミノとしては、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、メチルブチ
ルアミノ、エチルブチルアミノなどのC2−C6
アルキルアミノ、 五員もしくは六員のヘテロ環残基としては、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、モノホリノ、ピリジ
ル、ピラジニル、チアゾリル、オキサゾイル、イ
ソオキサゾイルなど、 置換基としては、アルキル、アルコキシ、ハロ
ゲン、トリフルオロメチル、アルキルカルボニ
ル、シアノ、カルバモイル、ヒドロキシ、ヒドロ
キシメチル、アルカノイル、ニトロ、フエニルな
ど、 アルコキシカルボニルとしては、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカル
ボニルなどのC2−C6アルコキシカルボニル、 アルカノイルとしては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、バレリルなどのC1
C6アルカノイル。 目的物質()は下記反応図式で示されるよう
にルートA、BおよびCによつて製造される。 [式中、Aはヒドロキシまたは反応性基(例え
ば、ハロゲン、トシルオキシ、アルコキシカルボ
ニルオキシなどの活性エステル残基)、Xおよび
Yはハロゲンをそれぞれ表わし、 R1、R2、R3、R4およびR5は前記と同意義を有
する。] ルートA 本反応は安息香酸類またはその反応性誘導体
()とアミン()のアミド化であつて、一般
には適当な溶媒(例えば、ベンゼン、トルエン、
塩化メチレン、ジメチルホルムアミド、テトラヒ
ドロフラン、アセトン、アセトニトリルなど)
中、必要なら、塩基(例えば、トリエチルアミ
ン、ピリジン、ピリコン類など)の存在下約0℃
〜約150℃、好ましくは室温(例えば、15〜25℃)
下〜約80℃に加熱して実施される。なお原料物質
として遊離の安息香酸を使用するときには、、常
法によりDCC(ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド)なの縮合剤の存在下に約0℃〜約50℃にて上
記溶媒を使用して反応を行えばよい。 原料()は、例えば、対応するアミノ安息香
酸類()にスルホン化剤()を作用させ、さ
らに必要なら得られるカルボン酸をその反応性誘
導体に導くことにより得られる。 (式中、A′は反応性基を表わし、R1、R2、R3
よびXは前記と同意義を有する。) ルートB 本反応はアニリン類()のスルホン化剤
()によるスルホンアミド化であつて、常法に
より実施される。一般には無機もしくは有機塩基
(例えば、水酸化ナトリウム、トリエチルアミン、
ピリジン、ピコリン類など)の存在下に適当な溶
媒(例えば、ジメチルホルムアミド、クロロホル
ム、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、アセ
トン、水など)中約0℃〜約100℃、好ましくは
室温下に実施される。ピリジンなどの有機塩基は
溶媒を兼ねて使用してもよい。 原料物質()は、例えば、対応するニトロ安
息香酸類()をアミド化したのち、ニトロ基を
アミノ基に還元して得られる。 [式中、A、R1、R2、R3、R4、R5およびYは前
記と同意義を有する。] ルートC 本反応は目的物質の一部でもある化合物(
a)のアルキル化またはフタリジル化であつて、
常法により実施される。一般には、R2導入剤
()、具体的にはアルキル化剤(例えば、ヨウ化
メチル、臭化ブチル、ジメチル硫酸)、フタリジ
ル化剤(例えば、3−クロルフタリド、3−ブロ
ムフタリドなど)を使用して、無機もしくは有機
塩基(例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン類)
の存在下に適当な溶媒(例えば、アセトン、ジオ
キサン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、塩化
メチレンなど)中約30〜約200℃、好ましくは50
〜100℃で実施される。 本発明化合物()はライノビールス
(rhinovirus)、ポリオビールス(polio virus)、
コクサツキービールス類(Coxackie virus)に
対して優れた増殖抑制作用を示し、抗ビールス剤
として有用である。例えば、4′−ブロム−4−
[(ジメチルアミノスルホニル)アミノ]ベンズア
ニリドおよび4′−ブチル−4−[(ジメチルアミノ
スルホニル)アミノ]ベンズアニリドは、シミノ
フ(Siminoff)法、Applied Microbiology、
(1)、66(1961)の変法によると、ポリオビールス
に対するプラク(Plaque)減少試験においてそ
れぞれED500.27および0.07μg/mlを示した。そ
の他の化合物も同様の抗ビールス作用を示した。 本発明化合物()はヒトまたはその他の動物
に対し経口または非経口にて投与される。これら
の化合物は製薬上許容される希釈剤(例えば、で
んぷん、庶糖、炭酸カルシウム、カオリン)、増
量剤(例えば、乳糖、でんぷん、リン酸カルシウ
ム、カオリン、ベントナイト、タルク)、滑沢剤
(例えば、ステアリン酸マグネシウム、安息香酸
ナトリウム)、崩壊剤(例えば、でんぷん、寒天、
カルボニキシルメチルセルローズ、アルギン酸ナ
トリウム)および/またはその他の賦形剤ととも
に常法により製剤化される。 このような製剤としては、水剤、懸濁剤、粉
剤、課粒剤、カプセル剤、錠剤、ドライシロツ
プ、注射剤、座剤、点鼻剤、鼻空スプレイ剤など
が挙げられる。ビールス感染症の治療のため、ヒ
トに経口投与する日用量は1〜数回に分けて0.1
〜80mg/Kgである。 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 1 4−イソプロパンスルホンアミドベンゾイルク
ロリド250mg、4−ブロムアニリン181mg、トリエ
チルアミン106mgおよび塩化メチレン5mlからな
る混合物を室温下に5分間撹拌する。反応液を炭
酸水素ナトリウム水溶液にて中和し、塩化メチレ
ンで抽出する。有機層を減圧濃縮し、残渣をシリ
カゲルにてカラムクロマトグラフイーに付す。3
%メタノール塩化メチレンで溶出する区分を濃縮
し、残渣を酢酸エチル−イソプロピルエーテルか
ら結晶化する。得られる粗結晶を酢酸エチル−イ
ソプロピルエーテルから再結晶し、融点147.5〜
148.5℃の結晶として4′−ブロム−イソプロパン
スルホンアミドベンズアニリド200mgを得る。 元素分析 C16H2O3SBrとして 計算値 C、48.37;H、4.31;N、7.05; S、8.07;Br、20.11 実験値 C、48.48;H、4.20;N、6.92; S、8.15;Br、20.37 実施例 2 4−アミノベンズアニリド1.0gを乾燥ピリジ
ン10mlに溶かし、これに室温下にジメチルアミノ
スルホニルクロリド1.01gを加え、1夜撹拌す
る。反応液を氷水にあけ、6N塩酸にて酸性とし、
塩化メチレン−メタノール混液で抽出する。有機
層を10%水酸化ナトリウム水溶液で再び抽出す
る。アルカリ層を6N塩酸で酸性とし、析出する
沈澱を過したのち、メタノールで再結晶し、融
点213〜215℃の結晶として4−[(ジメチルアミノ
スルホニル)アミノ]ベンズアニリド864mgを得
る。 元素分析 C15H17N3O3Sとして 計算値 C、56.41;H、5.37;N、13.16; S、10.04 実験値 C、56.46;H、5.23;N、13.13; S、10.08 実施例 3 4′−クロル−4−[(ジメチルアミノスルホニ
ル)アミノ]ベンズアニリド300mg、炭酸カリウ
ム140mg、ジメチル硫酸130mgおよび乾燥アセトン
10mlからなる混合物を30分間還流する。反応液か
らアセトンを留去し、残渣を100%水酸化ナトリ
ウム水溶液でアルカリ性とし、塩化メチレンで抽
出する。有機層を水洗し、無水芒硝で乾燥し、濃
縮する。残渣を酢酸エチル−イソプロピルエーテ
ルより結晶化し、融点155〜156℃の結晶として
4′−クロロ−4−[メチル(ジメチルアミノスル
ホニル)アミノ]ベンズアニリド300mgを得る。 元素分析 C16H18N3O3ClSとして 計算値 C、52.24;H、4.93;N、11.42; Cl、9.64;S、8.72 実験値 C、52.12;H、4.82;N、11.27; Cl、9.71;S、8.68 実施例 4〜79 下記の原料物質()および()を使用し
て、実施例2と同様に反応を行い、下記の目的物
質(a)を得る。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 実施例3と同様にメチル化を行ない、下記の目
的物質を得る。 実施例 79 2−メトキシ−5−(N−メチルメタンスルホ
ンアミド)ベンズアニリドm.p.151〜152℃ 実施例 80 4−クロル−3−[メチル(ジメチルアミノス
ルホニル)アミノ]ベンズアニリドm.p.155〜156
℃ 実施例 81 4′−ブロム−4−[(ジメチルアミノスルホニ
ル)アミノ]ベンズアニリド1.0gおよび乾燥ア
セトン110mlからなる溶液に炭酸カリウム粉末416
mgおよび3−ブロムフタリド642mgを加え、1時
間還流する。反応液を濃縮し、残渣に水を加え、
析出する結晶を取し、アセトニトリルから再結
晶すると、融点244〜245.5℃の結晶として4′−ブ
ロム−4−[(ジメチルアミノスルホニル)(3−
フタリジル)アミノ]ベンズアニリド680mgを得
る。 参考例 1 4−アミノ安息香酸メチルエステル8.5gとピ
リジン43mlとからなる溶液にジメチルスルフアモ
イルクロリド12.1gを加え、50℃にて2時間撹拌
する。これに氷水を加え、6N塩酸で酸性とし、
塩化メチレンで抽出する。有機層を水洗し、乾燥
し、減圧濃縮する。残渣をエーテル−イソプロピ
ルエーテルで洗浄し、4−(ジメチルアミノスル
ホニル)アミノ安息香酸類メチルエステル9.5g
を得る(収率65.4%)。 上記生成物の結晶に10%水酸化ナトリウム48ml
を加え、氷浴上で5分間加熱し、6N塩酸で酸性
とする。析出する結晶を取し、風乾し、酢酸エ
チル−イソプロピルエーテルから再結晶し、4−
(ジメチルアミノスルホニル)アミノ安息香酸7.4
gを得る。融点171−173℃。収率82.4%。 本品を本発明の原料物として使用するとき、一
旦塩化チオニルと加温して酸クロリドとして使用
するのが好都合である。 参考例 2 上記参考例1と同様にして反応を行い、融点
183〜185℃の結晶として3−(ジメチルアミノス
ルホニル)アミノ安息香酸を得る。 参考例 3 4−ブチルアニリン8.04g、トリエチルアミン
6.53gおよび乾燥塩化メチレン100mlからなる混
合物に塩化ベンゾイル10gを室温で撹拌下に滴下
する。室温で5分間撹拌し、反応液を希炭酸ナト
リウム液に加え、塩化メチレンで抽出する有機層
を芒硝で乾燥し、減圧濃縮する。残渣にイソプロ
ピルエーテル−酢酸エチルで洗つて、融点151〜
152℃の結晶として4′−ブチル−4−ニトロベン
ズアニリド14.0gを得る。 上記生成物10gとテトラヒドロフラン100mlと
からなる溶液に、スズ7.96gおよび6N塩酸50ml
を加え、50℃で1時間撹拌する。反応液を過し
たのち、液を減圧濃縮する。残渣を100%水酸
化ナトリウムアルカリ性とし、析出する結晶を塩
化メチレンに溶解する。溶液を芒硝で乾燥し、減
圧濃縮する。残渣をイソプロピルエーテルで洗浄
し、融点137.5〜138.5℃の結晶として4−アミノ
−4′−ブチルベンズアニリド8.1gを得る。 参考例 4〜8 前記参考例3と同様に反応を行い、下記の化合
物()および()を得る。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1はアルキル、フエニル、ジアルキル
    アミノまたは五員もしくは六員のヘテロ環残基; R2は水素、アルキルまたはフタルジル; R3は水素、アルキルまたはアルコキシ; R4は1〜2個のフエニルもしくはフリルで置
    換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、
    縮合ベンゼン環もしくはアルキル、アルコキシ、
    ハロゲン、トリフルオロメチル、アルコキシカル
    ボニル、シアノ、カルバモイル、ヒドロキシ、ヒ
    ドロキシメチル、アルカノイル、ニトロ、フエニ
    ルからなる群から選ばれた1〜2個の置換基を有
    していてもよいフエニルまたは五員もしくは六員
    のヘテロ環残基; R5は水素またはアルキルをそれぞれ表わす。 但し、スルホンアミド基はカルバモイル基に対
    してメタ位もしくはパラ位に存在する。) で示される化合物。
JP57127310A 1982-07-20 1982-07-20 スルホンアミド系ベンズアミド類 Granted JPS5916871A (ja)

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