JPH0336216B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0336216B2 JPH0336216B2 JP58059224A JP5922483A JPH0336216B2 JP H0336216 B2 JPH0336216 B2 JP H0336216B2 JP 58059224 A JP58059224 A JP 58059224A JP 5922483 A JP5922483 A JP 5922483A JP H0336216 B2 JPH0336216 B2 JP H0336216B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photosensitive
- photosensitive element
- wax emulsion
- polyvinyl alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 34
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 30
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 23
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- -1 cinnamoyl groups Chemical group 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 2
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 235000019809 paraffin wax Nutrition 0.000 description 2
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004036 acetal group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012164 animal wax Substances 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000013871 bee wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000012166 beeswax Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 1
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 1
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000012178 vegetable wax Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
発明の技術分野
本発明は感光性樹脂組成物に係り、さらに詳し
くは感光性スチリルピリジニウム基又はスチリル
キノリニウム基を含有するポリビニルアルコール
を含み、水に易溶性で良好な階調再現性を有して
いる感光性樹脂組成物に関するものである。 技術の背景 感光性樹脂は露光により硬化ないし不溶性化す
るものとして一般に凸版、平版、平凹版及びグラ
ビア版などの印刷製版材料、あるいはプリンス基
板、集積回路、ネームプレートなどの製造におけ
る金属腐食加工用フオトレジスト、に広く使用さ
れている。さらに感光性樹脂はフイルム、ガラス
板、スクリーン又は布帛などの基材上に画像形成
皮膜を形成するためにも広く実用化されている。 これまで感光性樹脂としてはアジド基、シンナ
モイル基、アクリロイル基などを感光性残基とす
るものが知られている。これらの樹脂は感度が必
ずしも満足できるものではなく、また水に不溶性
のものが多い。そのため溶剤として有機溶剤もし
くはアルカリ水溶液を用いる場合、塗工及び現像
工程において取扱い上の不便がある。 一方、水溶性感光性樹脂としてはポリビニルア
ルコール、ゼラチン、グルーなどの水溶性樹脂と
重クロム酸塩もしくはジアゾニウム塩との組成物
が知られている。これらの水溶性感光性樹脂組成
物のうち重クロム酸塩を含む組成物はその水溶液
及び塗布により形成された皮膜の安定性及び保存
性が劣悪であり、また廃液の処理において6価ク
ロムに起因する公害問題を生ずるなどの欠点を有
しており、このため重クロム酸塩含有感光性樹脂
組成物の実用化は困難になつてきている。またジ
アゾニウム塩含有感光性樹脂組成物の場合、その
安定性及び保存性は重クロム酸塩含有のものより
は良好であるが、しかし満足できるものではな
く、特にその感度は重クロム酸塩含有感光性樹脂
の感度に比して劣り、また露光により得られる硬
化皮膜の強度も不十分である。 前記のような水溶性感光性樹脂の問題点を解消
するために、スチリルピリジニウム基を含有する
ポリビニルアルコール誘導体である光不溶化性樹
脂及びその製造方法が特公昭56−5761号及び特公
昭56−5762号に開示されている。また同様にスチ
リルキノリニウム基を含有する光不溶化性ポリビ
ニルアルコール誘導体及びその製造方法が特開昭
56−11906号に開示されている。これらの感光性
スチリルピリジニウム基又はスチリルキノリニウ
ム基含有ポリビニルアルコール誘導体は優れた感
度と水溶性とを有するものであるが、次のような
問題点を有している。 すなわち前記ポリビニルアルコール誘導体はア
ルデヒド基又はアセタール基を有するスチリルピ
リジニウム化合物又はスチリルキノリニウム化合
物をポリビニルアルコールに対してアセタール化
反応により付加させることにより製造される。し
かしながらこのようにして製造されたスチリルピ
リジニウム化ポリビニルアルコール水溶液又はス
チリルキノリニウム化ポリビニルアルコール水溶
液は本来水溶性であるため光架橋後その画像部が
膨潤しやすく十分な画像強度が得られない。 そのような問題を解決するために特開昭55−
62446に記載されているような酢酸ビニルエマル
ジヨン等の耐水性を付与するものの添加が提案さ
れている。しかしながらこのような方法において
はまだ耐水性が十分でなく、かつ階調再現性が悪
く硬調なものが得られず、また画像のエツジも鮮
明でない。 発明の目的 本発明の目的は易溶性で階調再現性が良く硬調
な画像を与える、スチリルピリジニウム基又はス
チリルキノリニウム基を有するポリビニルアルコ
ール又はポリビニルアルコール誘導体を含む組成
物を提供することである。 発明の構成 本発明はスチリルピリジニウム基又はスチリル
キノリニウム基を有する化合物をアセタール化反
応により付加されたポリビニルアルコール又はポ
リビニルアルコール誘導体をワツクスエマルジヨ
ン中に混合し、画像形成性、特に階調再現性、を
良好にしたものである。本発明はさらに一般式
で示すシランカツプリング剤及び/又は高分子量
無水珪酸のコロイド溶液を加えて混合することに
より、画像の基板との接着性をさらに良好とした
ものである。すなわち本発明は感光性ポリビニル
アルコール誘導体を感光性要素として含む組成物
において、前記感光性ポリビニルアルコール誘導
体が200〜4000の主鎖重合度と70〜98モル%のケ
ン化度とを有し、かつその全量に対し0.3〜40モ
ル%の下記一般式(): (式中Yは下記一般式()及び()を有する
基: 及び から選ばれた1員を示し、R1は水素原子、アル
キル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基
及びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カ
ルバモイル基、エーテル結合及び不飽和結合から
なる群から選ばれた少なくとも1員を含んでいて
もよく、R2は水素原子、又は低級アルキル基を
示し、X-は陰イオンを示し、mは0又は1を示
し、nは1〜6の整数を示す。) の重合体構成単位を含むスチリルピリジウム基又
はスチリルキノリニウム基含有感光性ポリビニル
アルコール誘導体であり、この感光性要素がワツ
クスエマルジヨン中に混合されていることを特徴
とする組成物を提供する。 一般式()の感光性ポリビニルアルコール誘
導体を含む組成物において、一般式()及び
()のR1により表わされるアルキル基は炭素数
1〜4のもの、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル基などであることが好ましく、また
R1により表わされるアラルキル基は炭素数7〜
19のもの、例えばベンジル、フエネチル、トリチ
ル基などであることが好ましい。さらに前記R1
により表わされるアルキル基及びアラルキル基は
ヒドロキシ基、カルバモイル基、エーテル結合、
及び不飽和結合からなる郡から選ばれた少なくと
も1種を含むもの、例えばヒドロキシエチル、カ
ルバモイルメチル又はメトキシメチル基などであ
つてもよい。 また一般式()においてR2により表わされ
る低級アルキル基は1〜4個の炭素原子を含むも
の、例えばメチル、エチル、プロピル又はブチル
基であることが好ましい。さらにX-により表わ
される陰イオンはハロゲンイオン、リン酸イオ
ン、硫酸イオン、メト硫酸イオン又はp−トルエ
ンスルホン酸イオンであることが好ましい。 本発明に用いられるワツクスとしては蜜ロウ、
セラツクロウなどの動物性ワツクス、カルナウバ
ロウなどの植物性ワツクス、パラフインワツク
ス、その他の合成ワツクスたとえば高級脂肪酸、
高級アルコール、高級脂肪酸の多価アルコールエ
ステル、高級ケトン、高級アミン、高級アミド、
高級脂肪酸とアミンの縮合物、合成パラフイン及
び塩素化パラフインその他低分子ポリエチレン、
低分子ポリプロピレンなどがあげられ、これらは
エマルジヨンとして用いる。これらのワツクスは
常温で固定であることが必要であり、65℃以上の
融点あるいは軟化点を有することが好ましい。ま
たベトついたり粘着性のあるワツクスは好ましく
ない。 本発明における感光性ポリビニルアルコール誘
導体を感光性要素として含む組成物において、前
記ワツクスエマルジヨンが前記感光性要素1に対
して固形分重量比が0.5未満では耐水性が十分で
なく階調再現性も悪くなる。また固形分重量比が
5より多いと感光層要素が固形分中の比率が低く
なり過ぎて感光性組成物としての用途には使用で
きない。よつてその固形分重量比は1:0.5〜
1:5の範囲で配合すれば階調再現性がよい画像
が形成され、好ましくは1:1〜1:3がよい。 本発明において、前記感光性要素と前記ワツク
スを含むエマルジヨンとからなる組成物に対し
て、一般式() XSi(OR)3 () (式中Xは有機質と反応する官能基であつて、ア
ミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、
クロル基等であり、Rは加水分解可能な基であつ
て、メトキシ基、エトキシ基である。) を添加することもできる。これは一般的にはシラ
ンカツプリング剤といわれるものでこれを前記感
光性組成物に添加することによつて階調再現性を
損なうことなしに基材との接着性を向上する。ま
たその添加量は0.001重量部〜1重量部が適当で
あり、好ましくは0.01重量部〜0.1重量部である。
0.001重量部未満では添加効果は認められず、ま
た1重量部より多いと基材との接着性が向上し過
ぎ、現像性が悪化し階調再現性も低下する。 この化合物としてはγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ランなどがあげられる。 さらに本発明の好ましい実施態様において、前
記感光性要素と前記エステルを含むエマルジヨン
とからなる組成物に対して、高分子量の無水珪酸
を添加することもできる。前記無水珪酸は適当な
粒径を有することがより望ましく、20mμ〜70m
μの粒径が適当である。これより小さい粒径では
無水珪酸のイオン性により前記感光性組成物の液
保存性を低下させ、またこれより大きいと画像の
面が荒れ鮮明な画像が得られない。また前記無水
珪酸はコロイド溶液の形で添加され、その添加量
は0.001重量部〜1重量部が適当であり、好まし
くは0.01重量部〜0.1重量部である。この添によ
つて画像部の接着性及び画像の物理強度が向上す
る。 本発明の感光性樹脂組成物を塗布液として使用
する場合には、染料・顔料・粘度調整剤及び基材
との接着向上剤等の添加剤を適宜その用途、種類
によつて添加することができる。 本発明の感光性樹脂組成物の支持体としてはア
ルミニウム板、亜鉛板、ガラス、プラスチツクフ
イルム及び紙等を用いることができる。 以下本発明を実施例で詳細に説明する。 実施例 1 B−24(電化PVA)に1.0モル%SBQを付加し
たものの10%溶液とT−350(ヘキスト・ジヤパン
製ワツクスエマルジヨン)をバインダーとしてP
−22−RE3(化成オプトニクス製赤色螢光顔料)
と共にボールミルで良く分散し、アルミニウム板
上にホエラーで4mg/cm2に塗工乾燥してからステ
ツプタブレツトを通して2kW超高圧水銀灯で1
mの距離から3分間露光した。その後スプレーで
現像したところワツクスエマルジヨンの添加によ
つてガンマ値の高い(階調再現性の良い)画像が
得られた。その結果を第1表及び第1図に示す。
くは感光性スチリルピリジニウム基又はスチリル
キノリニウム基を含有するポリビニルアルコール
を含み、水に易溶性で良好な階調再現性を有して
いる感光性樹脂組成物に関するものである。 技術の背景 感光性樹脂は露光により硬化ないし不溶性化す
るものとして一般に凸版、平版、平凹版及びグラ
ビア版などの印刷製版材料、あるいはプリンス基
板、集積回路、ネームプレートなどの製造におけ
る金属腐食加工用フオトレジスト、に広く使用さ
れている。さらに感光性樹脂はフイルム、ガラス
板、スクリーン又は布帛などの基材上に画像形成
皮膜を形成するためにも広く実用化されている。 これまで感光性樹脂としてはアジド基、シンナ
モイル基、アクリロイル基などを感光性残基とす
るものが知られている。これらの樹脂は感度が必
ずしも満足できるものではなく、また水に不溶性
のものが多い。そのため溶剤として有機溶剤もし
くはアルカリ水溶液を用いる場合、塗工及び現像
工程において取扱い上の不便がある。 一方、水溶性感光性樹脂としてはポリビニルア
ルコール、ゼラチン、グルーなどの水溶性樹脂と
重クロム酸塩もしくはジアゾニウム塩との組成物
が知られている。これらの水溶性感光性樹脂組成
物のうち重クロム酸塩を含む組成物はその水溶液
及び塗布により形成された皮膜の安定性及び保存
性が劣悪であり、また廃液の処理において6価ク
ロムに起因する公害問題を生ずるなどの欠点を有
しており、このため重クロム酸塩含有感光性樹脂
組成物の実用化は困難になつてきている。またジ
アゾニウム塩含有感光性樹脂組成物の場合、その
安定性及び保存性は重クロム酸塩含有のものより
は良好であるが、しかし満足できるものではな
く、特にその感度は重クロム酸塩含有感光性樹脂
の感度に比して劣り、また露光により得られる硬
化皮膜の強度も不十分である。 前記のような水溶性感光性樹脂の問題点を解消
するために、スチリルピリジニウム基を含有する
ポリビニルアルコール誘導体である光不溶化性樹
脂及びその製造方法が特公昭56−5761号及び特公
昭56−5762号に開示されている。また同様にスチ
リルキノリニウム基を含有する光不溶化性ポリビ
ニルアルコール誘導体及びその製造方法が特開昭
56−11906号に開示されている。これらの感光性
スチリルピリジニウム基又はスチリルキノリニウ
ム基含有ポリビニルアルコール誘導体は優れた感
度と水溶性とを有するものであるが、次のような
問題点を有している。 すなわち前記ポリビニルアルコール誘導体はア
ルデヒド基又はアセタール基を有するスチリルピ
リジニウム化合物又はスチリルキノリニウム化合
物をポリビニルアルコールに対してアセタール化
反応により付加させることにより製造される。し
かしながらこのようにして製造されたスチリルピ
リジニウム化ポリビニルアルコール水溶液又はス
チリルキノリニウム化ポリビニルアルコール水溶
液は本来水溶性であるため光架橋後その画像部が
膨潤しやすく十分な画像強度が得られない。 そのような問題を解決するために特開昭55−
62446に記載されているような酢酸ビニルエマル
ジヨン等の耐水性を付与するものの添加が提案さ
れている。しかしながらこのような方法において
はまだ耐水性が十分でなく、かつ階調再現性が悪
く硬調なものが得られず、また画像のエツジも鮮
明でない。 発明の目的 本発明の目的は易溶性で階調再現性が良く硬調
な画像を与える、スチリルピリジニウム基又はス
チリルキノリニウム基を有するポリビニルアルコ
ール又はポリビニルアルコール誘導体を含む組成
物を提供することである。 発明の構成 本発明はスチリルピリジニウム基又はスチリル
キノリニウム基を有する化合物をアセタール化反
応により付加されたポリビニルアルコール又はポ
リビニルアルコール誘導体をワツクスエマルジヨ
ン中に混合し、画像形成性、特に階調再現性、を
良好にしたものである。本発明はさらに一般式
で示すシランカツプリング剤及び/又は高分子量
無水珪酸のコロイド溶液を加えて混合することに
より、画像の基板との接着性をさらに良好とした
ものである。すなわち本発明は感光性ポリビニル
アルコール誘導体を感光性要素として含む組成物
において、前記感光性ポリビニルアルコール誘導
体が200〜4000の主鎖重合度と70〜98モル%のケ
ン化度とを有し、かつその全量に対し0.3〜40モ
ル%の下記一般式(): (式中Yは下記一般式()及び()を有する
基: 及び から選ばれた1員を示し、R1は水素原子、アル
キル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基
及びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カ
ルバモイル基、エーテル結合及び不飽和結合から
なる群から選ばれた少なくとも1員を含んでいて
もよく、R2は水素原子、又は低級アルキル基を
示し、X-は陰イオンを示し、mは0又は1を示
し、nは1〜6の整数を示す。) の重合体構成単位を含むスチリルピリジウム基又
はスチリルキノリニウム基含有感光性ポリビニル
アルコール誘導体であり、この感光性要素がワツ
クスエマルジヨン中に混合されていることを特徴
とする組成物を提供する。 一般式()の感光性ポリビニルアルコール誘
導体を含む組成物において、一般式()及び
()のR1により表わされるアルキル基は炭素数
1〜4のもの、例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ブチル基などであることが好ましく、また
R1により表わされるアラルキル基は炭素数7〜
19のもの、例えばベンジル、フエネチル、トリチ
ル基などであることが好ましい。さらに前記R1
により表わされるアルキル基及びアラルキル基は
ヒドロキシ基、カルバモイル基、エーテル結合、
及び不飽和結合からなる郡から選ばれた少なくと
も1種を含むもの、例えばヒドロキシエチル、カ
ルバモイルメチル又はメトキシメチル基などであ
つてもよい。 また一般式()においてR2により表わされ
る低級アルキル基は1〜4個の炭素原子を含むも
の、例えばメチル、エチル、プロピル又はブチル
基であることが好ましい。さらにX-により表わ
される陰イオンはハロゲンイオン、リン酸イオ
ン、硫酸イオン、メト硫酸イオン又はp−トルエ
ンスルホン酸イオンであることが好ましい。 本発明に用いられるワツクスとしては蜜ロウ、
セラツクロウなどの動物性ワツクス、カルナウバ
ロウなどの植物性ワツクス、パラフインワツク
ス、その他の合成ワツクスたとえば高級脂肪酸、
高級アルコール、高級脂肪酸の多価アルコールエ
ステル、高級ケトン、高級アミン、高級アミド、
高級脂肪酸とアミンの縮合物、合成パラフイン及
び塩素化パラフインその他低分子ポリエチレン、
低分子ポリプロピレンなどがあげられ、これらは
エマルジヨンとして用いる。これらのワツクスは
常温で固定であることが必要であり、65℃以上の
融点あるいは軟化点を有することが好ましい。ま
たベトついたり粘着性のあるワツクスは好ましく
ない。 本発明における感光性ポリビニルアルコール誘
導体を感光性要素として含む組成物において、前
記ワツクスエマルジヨンが前記感光性要素1に対
して固形分重量比が0.5未満では耐水性が十分で
なく階調再現性も悪くなる。また固形分重量比が
5より多いと感光層要素が固形分中の比率が低く
なり過ぎて感光性組成物としての用途には使用で
きない。よつてその固形分重量比は1:0.5〜
1:5の範囲で配合すれば階調再現性がよい画像
が形成され、好ましくは1:1〜1:3がよい。 本発明において、前記感光性要素と前記ワツク
スを含むエマルジヨンとからなる組成物に対し
て、一般式() XSi(OR)3 () (式中Xは有機質と反応する官能基であつて、ア
ミノ基、ビニル基、エポキシ基、メルカプト基、
クロル基等であり、Rは加水分解可能な基であつ
て、メトキシ基、エトキシ基である。) を添加することもできる。これは一般的にはシラ
ンカツプリング剤といわれるものでこれを前記感
光性組成物に添加することによつて階調再現性を
損なうことなしに基材との接着性を向上する。ま
たその添加量は0.001重量部〜1重量部が適当で
あり、好ましくは0.01重量部〜0.1重量部である。
0.001重量部未満では添加効果は認められず、ま
た1重量部より多いと基材との接着性が向上し過
ぎ、現像性が悪化し階調再現性も低下する。 この化合物としてはγ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシ
ランなどがあげられる。 さらに本発明の好ましい実施態様において、前
記感光性要素と前記エステルを含むエマルジヨン
とからなる組成物に対して、高分子量の無水珪酸
を添加することもできる。前記無水珪酸は適当な
粒径を有することがより望ましく、20mμ〜70m
μの粒径が適当である。これより小さい粒径では
無水珪酸のイオン性により前記感光性組成物の液
保存性を低下させ、またこれより大きいと画像の
面が荒れ鮮明な画像が得られない。また前記無水
珪酸はコロイド溶液の形で添加され、その添加量
は0.001重量部〜1重量部が適当であり、好まし
くは0.01重量部〜0.1重量部である。この添によ
つて画像部の接着性及び画像の物理強度が向上す
る。 本発明の感光性樹脂組成物を塗布液として使用
する場合には、染料・顔料・粘度調整剤及び基材
との接着向上剤等の添加剤を適宜その用途、種類
によつて添加することができる。 本発明の感光性樹脂組成物の支持体としてはア
ルミニウム板、亜鉛板、ガラス、プラスチツクフ
イルム及び紙等を用いることができる。 以下本発明を実施例で詳細に説明する。 実施例 1 B−24(電化PVA)に1.0モル%SBQを付加し
たものの10%溶液とT−350(ヘキスト・ジヤパン
製ワツクスエマルジヨン)をバインダーとしてP
−22−RE3(化成オプトニクス製赤色螢光顔料)
と共にボールミルで良く分散し、アルミニウム板
上にホエラーで4mg/cm2に塗工乾燥してからステ
ツプタブレツトを通して2kW超高圧水銀灯で1
mの距離から3分間露光した。その後スプレーで
現像したところワツクスエマルジヨンの添加によ
つてガンマ値の高い(階調再現性の良い)画像が
得られた。その結果を第1表及び第1図に示す。
【表】
ガンマ値は感光層に照射する光量を変化させ、
現像後の感光層の残存膜厚率を測定して求める。
その求め方はこの残存膜厚と光量のグラフから
100%残る点から0%残る点まで直線を結び、x
軸からの傾きθのtanをもつてガンマ値とし、こ
れが大きい程階調再現性がよい。 顔料とバインダーの比は11とした。 実施例 2 デンカポバールB−24T(電化製)に1.2モル%
SBQを付加したものの10%溶液とエボノール
(ポリエチレンワツクスエマルジヨンの商品名一
方社製)を前記感光性要素に対して3倍加えさら
に着色剤としてMTB−10(森下弁柄製黒色顔料)
を加え感光性組成物を作製し、ポリエステルフイ
ルム上にロツドで1.0g/m2になる様に塗工、乾
燥後、ステツプタブレツトを通して2kw超高圧水
銀灯で1mの距離から5分間露光した。その後ス
プレーで現像した。表−1に示すようにポリエチ
レンワツクスエマルジヨンの添加によつて比較例
としてニガゾールH−03(酢酸ビニルエマルジヨ
ンの商品名日本カーバイド社製)でPEワツクス
エマルジヨンの添加に代えて前記配合と同じ処法
及び条件で塗工、乾燥後露光現像した所、階調再
現性の良い画像が得られた。
現像後の感光層の残存膜厚率を測定して求める。
その求め方はこの残存膜厚と光量のグラフから
100%残る点から0%残る点まで直線を結び、x
軸からの傾きθのtanをもつてガンマ値とし、こ
れが大きい程階調再現性がよい。 顔料とバインダーの比は11とした。 実施例 2 デンカポバールB−24T(電化製)に1.2モル%
SBQを付加したものの10%溶液とエボノール
(ポリエチレンワツクスエマルジヨンの商品名一
方社製)を前記感光性要素に対して3倍加えさら
に着色剤としてMTB−10(森下弁柄製黒色顔料)
を加え感光性組成物を作製し、ポリエステルフイ
ルム上にロツドで1.0g/m2になる様に塗工、乾
燥後、ステツプタブレツトを通して2kw超高圧水
銀灯で1mの距離から5分間露光した。その後ス
プレーで現像した。表−1に示すようにポリエチ
レンワツクスエマルジヨンの添加によつて比較例
としてニガゾールH−03(酢酸ビニルエマルジヨ
ンの商品名日本カーバイド社製)でPEワツクス
エマルジヨンの添加に代えて前記配合と同じ処法
及び条件で塗工、乾燥後露光現像した所、階調再
現性の良い画像が得られた。
【表】
実施例 3
クラレポバール224(クラレ製PVA)に0.9モル
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3としてγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランを前記
感光性要素と前記ワツクスエマルジヨンとの合計
重量100部に対して0.05重量部加え、ガラス板上
に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥後ステツプタブレツ
トを通して2kW超高圧水銀灯で1mの距離から
2分間露光した。その後スプレーで現像したとこ
ろ階調再現性の良い(ガンマ値5.5)かつ基盤と
の接着の良い画像が得られた。 実施例 4 クラレポバール224(クラレ製PVA)に0.9モル
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3として平均
粒径が25mμの高分子量無水珪酸のコロイド溶液
を前記感光性要素と前記ワツクスエマルジヨンと
の合計重量100部に対して0.05重量部加え、ガラ
ス板上に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥後ステツプタ
ブレツトを通して2kW超高圧水銀灯で1mの距
離から2分間露光した。その後スプレーで現像し
た所階調再現性の良い(ガンマ値5.0)かつ基板
との接着の良い画像が得られた。 実施例 5 クラレポバール224(クラレ製PVA)に0.9モル
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3としてγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及び平
均粒径が25mμの高分子量無水珪酸のコロイド溶
液をそれぞれ前記感光性要素と前記ワツクスエマ
ルジヨンとの合計重量100部に対して、0.05重量
部加え、ガラス板上に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥
後、ステツプタブレツトを通して2kW超高圧水
銀灯で1mの距離から2分間露光した。その後ス
プレーで現像した所次の様な表3の結果を得た。
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3としてγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシランを前記
感光性要素と前記ワツクスエマルジヨンとの合計
重量100部に対して0.05重量部加え、ガラス板上
に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥後ステツプタブレツ
トを通して2kW超高圧水銀灯で1mの距離から
2分間露光した。その後スプレーで現像したとこ
ろ階調再現性の良い(ガンマ値5.5)かつ基盤と
の接着の良い画像が得られた。 実施例 4 クラレポバール224(クラレ製PVA)に0.9モル
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3として平均
粒径が25mμの高分子量無水珪酸のコロイド溶液
を前記感光性要素と前記ワツクスエマルジヨンと
の合計重量100部に対して0.05重量部加え、ガラ
ス板上に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥後ステツプタ
ブレツトを通して2kW超高圧水銀灯で1mの距
離から2分間露光した。その後スプレーで現像し
た所階調再現性の良い(ガンマ値5.0)かつ基板
との接着の良い画像が得られた。 実施例 5 クラレポバール224(クラレ製PVA)に0.9モル
%SBQを付加したものの10%溶液とベガマルG
(マイクロワツクスエマルジヨンの商品名モービ
ル石油社製)を固形分重量比を1:3としてγ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及び平
均粒径が25mμの高分子量無水珪酸のコロイド溶
液をそれぞれ前記感光性要素と前記ワツクスエマ
ルジヨンとの合計重量100部に対して、0.05重量
部加え、ガラス板上に1.5mg/cm2を塗工し、乾燥
後、ステツプタブレツトを通して2kW超高圧水
銀灯で1mの距離から2分間露光した。その後ス
プレーで現像した所次の様な表3の結果を得た。
【表】
つた鉛筆でこすり、キズの入つた所の鉛筆
硬度で表わした。
表3より、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン及び高分子量無水珪酸のコロイド溶液
の添加によつて階調再現性を大きく低下させずに
基板との接着性を向上させることがわかり、更に
競合効果が認められた。 実施例 6 GM14(日本合成製PVA)に1.0モル%SBQを付
加したものの15%溶液とT−130(ワツクスエマル
ジヨンの商品名ヘキスト社製)を固形分重量比を
1:4とし、更にビニルトリメトキシシランを着
色剤としてシヤニンピーコツクブルー(青色顔料
東洋インク社製)を混ぜ、その液をアルミ板上に
2.0mg/cm2に塗工、乾燥後、ステツプタブレツト
を通して2kW超高圧水銀灯2分間露光した後ス
プレーで現像した所表−4に示すような結果を得
た。
硬度で表わした。
表3より、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン及び高分子量無水珪酸のコロイド溶液
の添加によつて階調再現性を大きく低下させずに
基板との接着性を向上させることがわかり、更に
競合効果が認められた。 実施例 6 GM14(日本合成製PVA)に1.0モル%SBQを付
加したものの15%溶液とT−130(ワツクスエマル
ジヨンの商品名ヘキスト社製)を固形分重量比を
1:4とし、更にビニルトリメトキシシランを着
色剤としてシヤニンピーコツクブルー(青色顔料
東洋インク社製)を混ぜ、その液をアルミ板上に
2.0mg/cm2に塗工、乾燥後、ステツプタブレツト
を通して2kW超高圧水銀灯2分間露光した後ス
プレーで現像した所表−4に示すような結果を得
た。
【表】
【表】
注) 前記感光性要素とワツクスエマルジヨ
ンとの合計重量100部に対して
実施例 7 GH23(日本合成製PVA)に1.1モル%SBQに付
加したものの10%溶液とT−730(パラフインワツ
クスエマルジヨンの商品名ヘキスト社製)を固形
分重量比を1:2.5とし、前記感光性要素とワツ
クスエマルジヨンとの合計重量100部に対して、
平均粒径30〜40mμの高分子量無水珪酸コロイド
溶液の添加量を変え、この溶液をアルミ板上に塗
工し、実施例1の方法で処理し、その効果を見る
と、表−5の様になる。
ンとの合計重量100部に対して
実施例 7 GH23(日本合成製PVA)に1.1モル%SBQに付
加したものの10%溶液とT−730(パラフインワツ
クスエマルジヨンの商品名ヘキスト社製)を固形
分重量比を1:2.5とし、前記感光性要素とワツ
クスエマルジヨンとの合計重量100部に対して、
平均粒径30〜40mμの高分子量無水珪酸コロイド
溶液の添加量を変え、この溶液をアルミ板上に塗
工し、実施例1の方法で処理し、その効果を見る
と、表−5の様になる。
【表】
発明の効果
本発明によれば画像形成性、特に階調再現性の
優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
優れた感光性樹脂組成物を得ることができる。
第1図は実施例1におけるステツプ段数と残膜
収率との関係を示す。
収率との関係を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 感光性ポリビニルアルコール誘導体を感光性
要素として含む組成物において、前記感光性ポリ
ビニルアルコール誘導体が200〜4000の主鎖重合
度と70〜98モル%のケン化度とを有し、かつその
全量に対し0.3〜40モル%の下記一般式(): (式中Yは下記一般式()及び()を有する
基: 及び から選ばれた1員を示し、R1は水素原子、アル
キル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基
及びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カ
ルバモイル基、エーテル結合及び不飽和結合から
なる群から選ばれた少なくとも1員を含んでいて
もよく、R2は水素原子、又は低級アルキル基を
示し、X-は陰イオンを示し、mは0又は1を示
し、nは1〜6の整数を示す。) の重合体構成単位を含むスチリルピリジニウム基
又はスチリルキノリニウム基含有感光性ポリビニ
ルアルコール誘導体であり、この感光性要素が、
ワツクスエマルジヨン中に混合されていることを
特徴とする組成物。 2 前記感光性要素と前記ワツクスエマルジヨン
との固形分重量比が1:0.5〜1:5である特許
請求の範囲第1項記載の組成物。 3 感光性ポリビニルアルコール誘導体を感光性
要素として含む組成物において、前記感光性ポリ
ビニルアルコール誘導体が200〜4000の主鎖重合
度と70〜98モル%のケン化度とを有し、かつその
全量に対し0.3〜40モル%の下記一般式(): (式中Yは下記一般式()及び()を有する
基: 及び から選ばれた1員を示し、R1は水素原子、アル
キル基又はアラルキル基を示し、前記アルキル基
及びアラルキル基はそれぞれヒドロキシル基、カ
ルバモイル基、エーテル結合及び不飽和結合から
なる群から選ばれた少なくとも1員を含んでいて
もよく、R2は水素原子、又は低級アルキル基を
示し、X-は陰イオンを示し、mは0又は1を示
し、nは1〜6の整数を示す。) の重合体構成単位を含むスチリルピリジニウム基
又はスチリルキノリニウム基含有感光性ポリビニ
ルアルコール誘導体であり、この感光性要素が混
合されているワツクスエマルジヨン中に 一般式() XSi(OR)3 () (式中Xはアミノ基、ビニル基、エポキシ基、メ
ルカプト基、クロル基等であり、Rはメトキシ
基、エトキシ基等である。) で表わされる化合物及び/又は高分子量無水珪酸
のコロイド溶液とが混合されていることを特徴と
する組成物。 4 前記感光性要素と前記ワツクスエマルジヨン
との重量比が1:0.5〜1:5であり、前記感光
性要素と前記ワツクスエマルジヨンとの合計重量
100部に対する、前記式()で表わされる化合
物の含有量が、0.001重量部〜1重量部である特
許請求の範囲第3項記載の組成物。 5 前記感光性要素と前記ワツクスエマルジヨン
との重量比が1:0.5〜1:5であり、前記感光
性要素と前記ワツクスエマルジヨンとの合計重量
100部に対する、前記コロイド溶液の含有量が
0.001重量部〜1重量部である特許請求の範囲第
3項記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5922483A JPS59185332A (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5922483A JPS59185332A (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59185332A JPS59185332A (ja) | 1984-10-20 |
JPH0336216B2 true JPH0336216B2 (ja) | 1991-05-30 |
Family
ID=13107187
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5922483A Granted JPS59185332A (ja) | 1983-04-06 | 1983-04-06 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59185332A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2510511B2 (ja) * | 1986-04-24 | 1996-06-26 | 工業技術院長 | スクリ−ン印刷版用感光性樹脂組成物 |
JP2012053404A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Murakami:Kk | 感光性樹脂組成物およびこの感光性樹脂組成物を用いたスクリーン印刷用ステンシル |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50134043A (ja) * | 1974-04-11 | 1975-10-23 | ||
JPS5562446A (en) * | 1978-11-06 | 1980-05-10 | Agency Of Ind Science & Technol | Photosensitive resin composition for screen printing plate |
JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
JPS5634858A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-07 | Shimizu Construction Co Ltd | Method of making piping hole in reinforced concrete structure |
JPS57197194A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-03 | Ricoh Co Ltd | Original plate for lithography |
-
1983
- 1983-04-06 JP JP5922483A patent/JPS59185332A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50134043A (ja) * | 1974-04-11 | 1975-10-23 | ||
JPS5562446A (en) * | 1978-11-06 | 1980-05-10 | Agency Of Ind Science & Technol | Photosensitive resin composition for screen printing plate |
JPS5611906A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-05 | Agency Of Ind Science & Technol | Photo-insolubilizable polyvinyl alcohol derivative and its preparation |
JPS5634858A (en) * | 1979-08-31 | 1981-04-07 | Shimizu Construction Co Ltd | Method of making piping hole in reinforced concrete structure |
JPS57197194A (en) * | 1981-05-29 | 1982-12-03 | Ricoh Co Ltd | Original plate for lithography |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59185332A (ja) | 1984-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3615538A (en) | Photosensitive printing plates | |
JP2837951B2 (ja) | プリント保持被覆及びその製造用被覆組成物 | |
US4547456A (en) | Heat mode recording material and a recording method by the use thereof | |
US4209582A (en) | Method of preparing screen printing stencils using novel compounds and compositions | |
JPH0146861B2 (ja) | ||
WO1981000626A1 (fr) | Composition de resine photo-polymerisable sensible a la lumiere et materiau en feuilles sensible a la lumiere | |
US4154614A (en) | Photosensitive diazo composition with graft copolymer for use in printing screen | |
JPH0666030B2 (ja) | スクリ−ン製版用感光性樹脂組成物 | |
JPS6259293B2 (ja) | ||
US4254194A (en) | Screen printing stencils using novel compounds and compositions | |
JPS61501596A (ja) | スクリ−ン印刷用組成物 | |
US4286048A (en) | Photocrosslinkable compositions for screen printing stencils | |
JPH0336216B2 (ja) | ||
JPWO2020170691A1 (ja) | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 | |
US4500587A (en) | Graphic arts film and method of preparing same | |
US3469983A (en) | Preparation of photopolymer lithographic offset paper plates | |
JPH1090512A (ja) | 非導電性遮光層用組成物、非導電性遮光層及びカラーフイルター | |
JPS63259557A (ja) | 光重合性組成物 | |
US4440847A (en) | Diazo material with waterborne drafting subbing composition of acrylic resin and aziridine and process of using | |
CN85102974A (zh) | 用于平板印刷版制造的感光记录材料 | |
JPS59211037A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JPH0255767B2 (ja) | ||
US20100055612A1 (en) | Nagative-working photosensitive resin composition and photosensitive resin plate using the same | |
TW473649B (en) | Photosensitive compositions and pattern formation method | |
JP2846892B2 (ja) | 平版印刷版の製造法 |