JPH0333656B2 - - Google Patents

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JPH0333656B2
JPH0333656B2 JP62129073A JP12907387A JPH0333656B2 JP H0333656 B2 JPH0333656 B2 JP H0333656B2 JP 62129073 A JP62129073 A JP 62129073A JP 12907387 A JP12907387 A JP 12907387A JP H0333656 B2 JPH0333656 B2 JP H0333656B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
heating
oxide
decomposed
lutetium
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP62129073A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS63295429A (ja
Inventor
Noboru Kimizuka
Naohiko Mori
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Original Assignee
KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO filed Critical KAGAKU GIJUTSUCHO MUKIZAISHITSU KENKYUSHOCHO
Priority to JP12907387A priority Critical patent/JPS63295429A/ja
Priority to EP88109377A priority patent/EP0295606B1/en
Publication of JPS63295429A publication Critical patent/JPS63295429A/ja
Publication of JPH0333656B2 publication Critical patent/JPH0333656B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G15/00Compounds of gallium, indium or thallium
    • C01G15/006Compounds containing, besides gallium, indium, or thallium, two or more other elements, with the exception of oxygen or hydrogen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は光機能材料、半導体材料および触媒材
料として有用な新規化合物であるLuGaZn5O8
示される六方晶系の層状構造を有する化合物およ
びその製造法に関する。 従来技術 従来、(Yb3+Fe3+O3)nFe2+O(nは整数を示
す)で示される六方晶系の層状構造を有する化合
物は本出願人によつて合成され知られている。 YbFe2O4、Yb2Fe3O7、Yb3Fe4O10及び
Yb4Fe5O13の六方晶系としての格子定数、YbO1.5
層、FeO1.5層、Fe2O2.5層の単位格子内における
層数を示すと表−1の通りである。 これらの化合物は酸化鉄(FeO)1モルに対し
て、YbFeO3がnモル(n=1、2、3…)の割
合で化合していると考えられる層状構造を持つ化
合物である。
【表】 発明の目的 本発明は(YbFeO3oFeOの化学式において、
n=1/5に相当し、Yb3+の代わりにLu3+を、Fe3+
の代わりにGa3+を、Fe2+の代わりにZn2+を置き
かえて得られた新規な化合物を提供するにある。 発明の構成 本発明のLuGaZn5O8で示される化合物は、イ
オン結晶モデルでは、Lu3+(Ga3+、Zn2+
Zn4 2+O8 2-として記載され、その構造はLuO1.5層、
(Ga3+、Zn2+)O2.5層およびZnO層の積層によつ
て形成されており、著しい構造異方性を持つこと
がその特徴の一つである。Zn2+イオンの1/5は
Ga3+と共に(Ga3+、Zn2+)O2.5層を作り、残り
の4/5はZnO層を作つている。六方晶系としての
格子定数は次の通りである。 a=3.320±0.001(Å) c=56.44±0.01(Å) この化合物の面指数(hkl)、面間隔(d(Å))
(dpは実測値、dcは計算値を示す)およびX線に
対する相対反射強度(I(%))を示すと表−2の
通りである。 この化合物は光機能材料、半導体材料、触媒材
料等に有用なものである。
【表】
【表】
【表】 この化合物は次の方法によつて製造し得られ
る。 金属ルテチウムあるいは酸化ルテチウムもしく
は加熱により酸化ルテチウムに分解される化合物
と、金属ガリウムあるいは酸化ガリウムもしくは
加熱により酸化ガリウムに分解される化合物と、
金属亜鉛あるいは酸化亜鉛もしくは加熱により酸
化亜鉛に分解される化合物とを、Lu、Gaおよび
Znの割合が原子比で1対1対5の割合で混合し、
該混合物を650℃以上の温度で、大気中、酸化性
雰囲気中あるいはLuおよびGaが各々3価イオン
状態、Znが2価イオン状態より還元されない還
元雰囲気中で加熱することによつて製造し得られ
る。 本発明に用いる出発物質は市販のものをそのま
ま使用してもよいが、化学反応を速やかに進行さ
せるためには粒径が小さい方がよく、特に10μm
以下であることが好ましい。 また、光機能材料、半導体材料として用いる場
合には不純物の混入をきらうので、純度の高いこ
とが好ましい。出発物質が加熱により金属酸化物
を得る化合物としては、それぞれの金属の水酸化
物、炭酸塩、硝酸塩等が挙げられる。 原料はそのまま、あるいはアルコール類、アセ
トン等と共に充分に混合する。 原料の混合割合は、Lu、Ga及びZnの割合が原
子比で1対1対5の割合であることが必要であ
る。これをはずすと目的とする化合物の単一相を
得ることができない。 この混合物を大気中、酸化性雰囲気中あるいは
LuおよびGaが各々3価イオン状態、Znが2価イ
オン状態から還元されない還元雰囲気中で650℃
以上のもとで加熱する。加熱時間は数時間もしく
はそれ以上である。加熱の際の昇温速度に制約は
ない。加熱終了後急冷するか、あるいは大気中に
急激に引き出せばよい。 得られたLuGaZn5O8化合物の粉末は無色であ
り、粉末X線回折法によると結晶構造を有するこ
とが分かつた。その結晶構造は層状構造であり、
LuO1.5層、(Ga、Zn)O2.5層、およびZnO層の積
み重ねによつて形成されていることが分かつた。 実施例 純度99.99%以上の酸化ルテチウム(Lu2O3
粉末、純度99.9%以上の酸化ガリウム(Ga2O3
粉末、および試薬特級の酸化亜鉛(ZnO)粉末を
モル比で1対1対10の割合に秤量し、めのう乳鉢
内でエタノールを加えて、約30分間混合し、平均
粒径数μmの微粉末混合物を得た。該混合物を白
金管内に封入し、1450℃に設定された管状シリコ
ニツト炉内に入れ4日間加熱し、その後、試料を
炉外にとりだし、室温まで急速に冷却した。得ら
れた試料はLuGaZn5O8の単一相であり、粉末X
線回折法によつて面指数(hkl)、面間隔(dp)お
よび相対反射強度(I%)を測定した。その結果
は表−2の通りであつた。 六方晶系としての格子定数は、 a=3.320±0.001(Å) c=56.44±0.01(Å) であつた。 上記の格子定数および表−2の面指数(hkl)
より算出した面間隔(dc(Å))は、実測の面間隔
(do(Å))と極めてよく一致した。 発明の効果 本発明は光機能材料、半導体材料及び触媒とし
て有用な新規化合物を提供する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 LuGaZn5O8で示される六方晶系の層状構造
    を有する化合物。 2 金属ルテチウムあるいは酸化ルテチウムもし
    くは加熱により酸化ルテチウムに分解される化合
    物と、金属ガリウムあるいは酸化ガリウムもしく
    は加熱により酸化ガリウムに分解される化合物
    と、金属亜鉛あるいは酸化亜鉛もしくは加熱によ
    り酸化亜鉛に分解される化合物とを、Lu、Gaお
    よびZnの割合が原子比で1対1対5の割合で混
    合し、該混合物を650℃以上の温度で、大気中、
    酸化性雰囲気中あるいはLuおよびGaが各々3価
    イオン状態、Znが2価イオン状態より還元され
    ない還元雰囲気中で加熱することを特徴とする
    LuGaZn5O8で示される六方晶系の層状構造を有
    する化合物の製造法。
JP12907387A 1987-05-26 1987-05-26 LuGaZn↓5O↓8で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 Granted JPS63295429A (ja)

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JP12907387A JPS63295429A (ja) 1987-05-26 1987-05-26 LuGaZn↓5O↓8で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法
EP88109377A EP0295606B1 (en) 1987-05-26 1988-06-13 An automatic ink feeding apparatus in an offset proof press machine

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JPS63295429A JPS63295429A (ja) 1988-12-01
JPH0333656B2 true JPH0333656B2 (ja) 1991-05-17

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS606889A (ja) * 1983-06-24 1985-01-14 Toshiba Corp X線ct装置用シンチレ−シヨン方式検出器の製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS606889A (ja) * 1983-06-24 1985-01-14 Toshiba Corp X線ct装置用シンチレ−シヨン方式検出器の製造方法

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JPS63295429A (ja) 1988-12-01

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