JPH0331689A

JPH0331689A - 連続炉

Info

Publication number: JPH0331689A
Application number: JP17212389A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Tate; 楯　節男
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1989-06-28
Filing date: 1989-06-28
Publication date: 1991-02-12
Also published as: JPH0411790B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）この発明は連続炉、詳細には炉本体内で被照射物を搬送
する搬送手段と、炉本体内に搬送手段の搬送方向に沿っ
て設置され被照射物に赤外線等電磁波を照射し、被照射
物に物理的あるいは化学的反応を生じせしめる複数の照
射体からなる連続炉に係る。

（従来の技術）従来この種の連続炉では、コンベア等の搬送手段によっ
て搬送され、照射体の面を通過する被照射物に、炉内に
設置される複数の照射体によって、赤外線等電磁波を照
射していた。

（発明が解決しようとする課題）しかしながら、連続炉では製品の生産量を増加させるた
めに搬送手段の速度を上げ、あるいは製品の生産量を減
少させるために搬送手段の速度を下げるが、従来の連続
炉では複数の照射体はそれぞれ炉内の一定の位置に固定
されいた。そのため、搬送手段の速度の増減により各照
射体による照射の時間的間隔は変化し、照射条件に変化
が生じ、一定の品質の確保が困難となる課題を有した。

さらに、被照射物の要求する照射条件が変化した場合に
は、コンベア等搬送手段の速度を変化させて対応する必
要があり、そのため生産型の安定化が困難となる課題を
有した。

（課題を解決するための手段）この発明は、これらの課題を解決するためになされたも
ので、炉本体と、炉本体内で被照射物を搬送する搬送手段と、
炉本体内に搬送手段の搬送方向に沿って設置され被照射
物に照射する複数の照射体と、照射体相互間を近接離隔
させる近接離隔手段とからなることを特徴とする連続炉
、および、炉本体と、炉本体内で被照射物を搬送し搬送速度の可変
な搬送手段と、炉本体内に搬送手段の搬送方向に沿って
設置され被照射物に照射する複数の照射体と、照射体相
互間の距離を搬送手段の速度の変化に応じて変化され搬
送手段の速度が増加したときは長くされ、搬送手段の速
度が減少したときは短くされる近接離隔手段とからなる
ことを特徴とする連続炉、を提供する。

（作用）照射体相互間を近接離隔させる近接離隔手段により、被
照射物の搬送速度を増減させる。

搬送速度を増加させた場合は、照射体相互間の距離が長
くなるように近接離隔手段を作動させる。搬送速度を低
下させた場合は、照射体相互間の距離が短くなるように
近接離隔手段を作動させる。

照射体相互間の距離を搬送手段の速度の変化に応じて変
化させ搬送手段の速度が増加したときは長くさせ、搬送
手段の速度が減少したときは短くさせる近接離隔手段か
らなるときは、速度変化に応じて自動的に距離は変化す
る。

（実施例）以下この発明の実施例の中央断面をあられす第１図、近
接離隔手段の概略をあられす第２図ａ、第２図１のＢ−
Ｂ断面をあられす第２図ｂ、第１図のＣ−Ｃ断面をあら
れす第２図Ｃ１第２図ａのＡ−Ａ断面をあられす第３図
ａ、第２図１のＡ−Ａ断面をあられす第３図す、第２図
ａのＤ−Ｄ断面を表す第４図にしたがい説明する。

（１）は炉本体である。炉本体（１）は、搬入口（１）
ａと排出口（１）　ｂを有し、それ以外の箇所は密閉さ
れる。（２）は搬送手段である。搬送手段（２）は、搬
入口（１）ａから排出口（１）　ｂへと、炉本体（１）
内で被照射物（３）を搬送する。

搬送手段（２）はコンベアからなり、この実施例では搬
送手段（２）は被照射物（３）をその上に載置し搬送す
るコンベアからなるが、被照射体を吊り下げて搬送する
トロリーコンベア等からなってもよい。搬送手段（２）
は、駆動装置（６）により駆動される。この実施例では
駆動装置（６）はモータからなる。駆動装置（６）は、
搬送手段変速装置（８）に接続され搬送回転速度を制御
される。搬送手段変速装置（８）は、マイクロコンピュ
ータからなる制御装置（１０）に接続される。（４）、
（４）は、照射体である。

照射体（４）は、夫々電磁波、この実施例では赤外線を
照射する赤外線バンクからなる。照射体（４）は、炉本
体（１）内に搬送手段（２）の側面に搬送方向に沿って
、第２図Ｃに図示されるように、搬送手段（２）を挟ん
で両側に対向させて設置される。照射体（４）の上下両
端には、取付部（５）を設ける。取付部（５）には、内
周面にはねじを螺設された貫通孔（５）ａを設ける。

（１１）、（１１）は、照射体移動用シャフトである。

照射体移動用シャフト（ｌｌ）は、搬送手段（２）に沿
って炉本体（１）内に設置される。照射体移動用シャフ
ト（１１）は、それぞれ中間部に螺設部（１１）ａを設
ける。螺設部（１１）ａは、第２図すに図示されるよう
に貫通孔（５）ａに螺合させられる。伸縮継手（１２）
で連結される照射体移動用シャフト（１１）、（１１）
の螺設部（１１）ａに設けられるねじは相互に逆向きに
切られる。

そのため、照射体移動用シャフト（１１）を回転させる
と、回転方向を選択することにより螺合された照射体（
４）、（４）は相互に離れたり近接したりする方向に移
動する。伸縮継手（１２）は、はぼ板状くの字型からな
る金属製４枚の板（１２）ａからなる。板（１２）　ａ
は、先端をそれぞれの連続させる対向する照射体移動用
シャフト（１１）の先端に、他の板（１２）ａにそれぞ
れ対向させて固定する。

（７）はシャフト駆動装置である。照射体移動用シャフ
ト（１１）は、シャフト駆動装置（７）により駆動され
る。この実施例では、シャフト駆動装置（７）はモータ
からなる。（９）は、照射体移動用シャフト（１１）の
回転数をカウントするカウンターである。シャフト駆動
袋Ｒ（７）、カウンター（９）はともに制御装置（ｌＯ
）に接続される。（１３）は、シャフト軸受である。シ
ャフト軸受（１３）は、バネ（１５）で上下方向に付勢
される。

照射体移動用シャフト（１１）、（１１）、伸縮継手（
１２）、シャフト駆動装置（７）で近接離隔手段（１４
）を構成する。

次に、実施例の作用について説明する。照射体（４）相
互間を近接離隔させる近接離隔手段（１４）により、被
照射物（３）の搬送速度を増減させる。搬送速度を増加
させた場合は、制御装置（ｌＯ）は、照射体（４）相互
間の距離が長くなるように近接離隔手段（１４）を作動
させる。

搬送速度を低下させた場合は、照射体（４）相互間の距
離が短くなるように近接離隔手段（１４）を作動させる
。すなわち、搬送手段変速装置（８）による速度変化、
増速すべき旨の信号あるいは減速すべき旨の信号は、駆
動装置に伝送されるとともに制御装置（１０）にも伝送
される。すると、制御装置（１０）では、搬送手段変速
装置（８）が増速する旨の信号を受領すると照射体（４
）相互は離れる方向に照射体移動用シャフト（１１）は
回転する旨の信号をシャフト駆動装置（７）に伝送する
。また、制御装置（１０）では、搬送手段変速装置（８
）が減速する旨の信号を受領すると照射体（４）相互は
近接する方向に照射体移動用シャフト（１１）は回転す
る旨の信号をシャフト駆動装置（７）に伝送する。する
と、信号に応じてシャフト駆動装置（７）側の照射体移
動用シャフト（１１）および伸縮継手（Ｉ２）により連
結された照射体移動用ソヤフト（１１）も回転される。

ところで、照射の時間的間隔（１）、搬送手段（２）の
スピード（ｖ）、照射体（４）、（４）間の距離（１）
との間には、ｖｔ＝１との関係がある。そこで、制御装置（ｌＯ）では、駆動
信号のシャフト駆動装置（７）への伝送とともに、受領
された速度信号から上記式に基づき演算する。すなわち
、被照射物（３）の要求される照射条件から照射の時間
的間隔（１）が決定されると、Ｖの変化によりｌの値が
求められる。制御装置（１０）では更に求められた距離
を、照射体移動用シャフト（１１）の回転数に換算し、
カウンター（９）から受領されるンヤフト回転数信号か
該等回転数に至ったときに、駆動停止信号をシャフト駆
動装置（７）に伝送し、シャフト駆動装置（７）の駆動
を停止させる。その結果、照射体移動用シャフト（１１
）は、必要回転数だけ回転され係止される。

炉本体（１）内は、照射体（４）による発熱のため加熱
され、照射体移動用シャフト（１１）が伸びることがあ
るが、伸縮継手（１２）がそれ自体の変形によるばね力
に抗しての板（１２）　ａ先端の近接変形により照射体
移動用シャフト（ｌｌ）の伸長を吸収する。冷却すると
、照射体移動用シャフト（１１）はちじみ、板（１２）
　ａ先端相互は離れる。

他方、炉本体（１）内の加熱による照射体（４）等の上
下方向の変形はシャフト軸受（１３）のバネ（１５）の
付勢力に抗して伸長することで吸収される。

（発明の効果）したがって、この発明では、搬送手段の速度の増減によ
り各照射体による照射の時間的間隔は変化することが可
能となり、照射条件を一定とし品質の確保が可能となる
。

さらに、被照射物の要求する照射条件が変化した場合に
は、コンベア等搬送手段の速度を変化させて対応するこ
とが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例の中央断面、第２図ａは近接
離隔手段の概略図、第２図すは第２図ａのＢ−Ｂ断面図
、第２図Ｃは第１図のＣ−Ｃ断面図、第３図ａは第２図
ａのＡ−Ａ断面図、第３図すは第２図ａのＡ−Ａ断面図
、第４図は第２図ａのＤ−Ｄ断面図である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）、炉本体と、炉本体内で被照射物を搬送する搬送
手段と、炉本体内に搬送手段の搬送方向に沿って設置さ
れ被照射物に照射する複数の照射体と、照射体相互間を
近接離隔させる近接離隔手段とからなることを特徴とす
る連続炉。
（２）、炉本体と、炉本体内で被照射物を搬送し搬送速
度の可変な搬送手段と、炉本体内に搬送手段の搬送方向
に沿って設置され被照射物に照射する複数の照射体と、
照射体相互間の距離を搬送手段の速度の変化に応じて変
化され搬送手段の速度が増加したときは長くされ、搬送
手段の速度が減少したときは短くされる近接離隔手段と
からなることを特徴とする連続炉。